• 제목/요약/키워드: Se Deposition

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플라즈마 원자층 증착법을 이용한 하이브라드 기능성 Ru-TiN 허터 박막의 합성 특성 평가 (Syntheses and Properties of Hybrid Functional Ru-TiN heating resistor films prepared by Plasma-Enhanced Atomic Layer Deposition)

  • 권세훈;정성준;정영근;강명창;김광호
    • 한국표면공학회:학술대회논문집
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    • 한국표면공학회 2009년도 춘계학술대회 논문집
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    • pp.182-183
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    • 2009
  • 플라즈마 원자층 증착법을 이용하여 Ru-TiN 빅막을 합성하였다. 박막 내 Ru의 함량은 Ru의 unit-cycle의 수에 따라 선형적으로 증가하였으며, Ru 함량이 증가함에 따라 박막의 비저항을 $3700{\mu}{\Omega}{\cdot}cm$에서 $190{\mu}{\Omega}{\cdot}cm$까지 자유롭게 조절할 수 있었다. Ru의 함량이 0.40 이상인 경우, Ru과 TiN 두물질이 교차 증착되어 서로의 결정 성장을 충분히 억제함으로서, 비정질구조를 가짐을 확인할 수 있었다. 또한, $O_2$ 분위기에서 열처리를 진행한 결과, Ru의 조성비가 0.40이상인 경우 $700^{\circ}C$까지 면저항의 변화가 거의 없음을 확인할 수 있었다.

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Electronic Structures of Graphene on Ru(0001) : Scanning Tunneling Spectroscopy Study

  • Jang, Won-Jun;Jeon, Jeung-Hum;Yoon, Jong-Keon;Kahng, Se-Jong
    • 한국진공학회:학술대회논문집
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    • 한국진공학회 2011년도 제40회 동계학술대회 초록집
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    • pp.307-307
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    • 2011
  • Graphene is the hottest topic in condensed-matter physics due to its unusual electronic structures such as Dirac cones and massless linear dispersions. Graphene can be epitaxially grown on various metal surfaces with chemical vapor deposition processes. Such epitaxial graphene shows modified electronic structures caused by substrates. Here, local geometric and electronic structures of graphene grown on Ru(0001) will be presented. Scanning tunneling microscopy (STM) and spectroscopy (STS) was used to reveal energy dependent atomic level topography and position-dependent differential conductance spectra. Both topography and spectra show variations from three different locations in rippled structures caused by lattice mismatch between graphene and substrate. Based on the observed results, structural models for graphene on Ru(0001) system were considered.

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Electronic Structures of Graphene Intercalated by Oxygen on Ru(0001): Scanning Tunneling Spectroscopy Study

  • Jang, Won-Jun;Jeon, Jeung-Hum;Yoon, Jong-Keon;Kahng, Se-Jong
    • 한국진공학회:학술대회논문집
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    • 한국진공학회 2011년도 제41회 하계 정기 학술대회 초록집
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    • pp.114-114
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    • 2011
  • Graphene is the hottest topic in condensed-matter physics due to its unusual electronic structures such as Dirac cones and massless linear dispersions. Graphene can be epitaxially grown on various metal surfaces with chemical vapor deposition (CVD) processes. Such epitaxial graphene shows modified electronic structures caused by substrates. In the method for removal of the effect of substrate, there are bi, tri-layer graphene, gold intercalation, and oxygen intercalation. Here, We will present the changes of geometric and electronic structure of graphene grown on Ru(0001) by oxygen intercalation between graphene and Ru(0001). Using Scanning tunneling microscopy (STM) and spectroscopy (STS), we observed the aspect that the band gap features near the fermi level of graphene on Ru(0001) system is shifted and narrow. Based on the observed results, two effects by intercalated oxygen were considered.

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이온 빔 스퍼터링 방법으로 제작한 Mo 박막의 특성조사

  • 조상현;김효진;윤영목;이성호
    • 한국진공학회:학술대회논문집
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    • 한국진공학회 2012년도 제42회 동계 정기 학술대회 초록집
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    • pp.304-304
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    • 2012
  • CIGS(CuInGaSe2) 태양전지의 후면전극(Back contact)으로 널리 사용되는 Mo 박막은 낮은 면저항, 높은 반사율, 광흡수층 Na-path 제공 등의 조건이 요구된다. 일반적으로 Mo 박막 제작은 DC 마그네트론 스퍼터링 방법이 가장 널리 사용되며, 제작조건에 따라 태양전지 효율에 강한 영향을 미치는 것으로 보고되고 있다. 본 연구에서는 DC 마그네트론 스퍼터링 시 기판에 이온빔(Ion-beam)을 동시 조사하는 이온 빔 스퍼터링 증착(Ion-beam sputter deposition)법으로 Mo 박막을 제작하였다. 제작된 박막의 전기적 및 광학적 특성은 4-point probe, UV-Vis-NIR spectrometer로 각각 조사하였으며 Na-path 제어를 위한 구조적 특성은 XRD, FE-SEM으로 분석하였다. 분석결과에 따르면 기존 DC 마그네트론 스퍼터링 방법보다 상대적으로 더 치밀한 구조와 높은 반사율을 가지는 박막이 제작됨을 알 수 있었다. Mo 박막의 최적조건은 DC power 300 W, Ion-gun power 50 W, Ar flow rate 20 sccm 였다.

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단일 복합 타겟으로 스퍼터 코팅된 CIGS 박막의 형성과 열처리에 따른 미세구조 변화 (The Formation of CIGS Thin Films by Sputter Coating Using Single Composite Target and Change of Microstructure with Heat Treatment)

  • 송영식;김종렬
    • 한국표면공학회지
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    • 제46권2호
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    • pp.61-67
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    • 2013
  • Thin film solar cells have attracted much attention due to their high cell efficiency, comparatively low process cost, and applicability to flexible substrates. In particular, CIGS solar cells have been widely studied and produced because they demonstrated the highest cell efficiency. However, the deposition process of CIGS films generally includes the selenization process conducted at elevated temperature using toxic $H_2Se$ gas. To avoid this selenization process, CIGS thin films were, in this study, deposited by RF sputtering using single composite CIGS target. In addition, the effects of sputtering bias voltage and heat treatment on the microstructural and morphological changes in deposited CIGS films were investigated and discussed.

EFFECT OF CATALYST ON THE GROWTH OF CARBON NANOTUBES IN CVD PROCESS

  • Yoon, Young-Joon;Song, Kie-Moon;Lee, Se-Jong;Baik, Hong-Koo
    • 한국정보디스플레이학회:학술대회논문집
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    • 한국정보디스플레이학회 2000년도 제1회 학술대회 논문집
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    • pp.137-138
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    • 2000
  • We synthesized highly aligned carbon nanotubes by thermal decomposition of acetylene gas using metal catalyst island. The alignment technique in this experiment is a very efficient method because it does not require any treatments before and after catalyst metal deposition. Alignment of nanotubes was dominated by the uniform diameter and the high density of metal catalysts. In the field emission test, the uniform emission spots on phosphor screen were obtained from the nanotubes in spite of non-aligned tube nature.

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Effect of Thermal Heat Treatment on the Characteristics of Vertical Type Organic Thin Film Transistor Using Alq3 as Active Layer and Its Application for OLET

  • Oh, Se-Young;Kim, Young-Do;Hwang, Sun-Kak
    • 한국정보디스플레이학회:학술대회논문집
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    • 한국정보디스플레이학회 2007년도 7th International Meeting on Information Display 제7권1호
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    • pp.644-647
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    • 2007
  • We have fabricated vertical type organic thin film transistor using tris-8-hydroxyquinoline aluminum $(Alq_3)$. The effects of the growth control of $Alq_3$ thin layer on the grain structure and the flatness of film surface have been investigated. In addition, we have fabricated light emitting transistor and then investigated electroluminescent properties.

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펄스차이 흡착법김전압전류법에 의한 갈륨 정량 (Determination of Gallium by differential Pulse Adsorptive Stripping Voltammetry)

  • 손세철;엄태윤
    • 대한화학회지
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    • 제36권6호
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    • pp.889-893
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    • 1992
  • Ga-Morin 착물에 대한 흡착벗김전압전류법적 연구를 HMDE를 사용하여 0.1M 아세테이트 완충용액에서 연구하였다. HMDE의 수은 표면에 흡착된 착물의 환원피크 전류에 미치는 여러 분석조건들의 영향을 논의하였으며, 여러 양이온 및 계면활성제의 방해효과에 대하여 검토하였다. 본 연구에서의 검출한계는 흡착시간이 60초일 때 1.7nM 이었으며, 4 ${\mu}$g/l의 Ga를 7회 분석하였을 때 상대표준편차 2.8% 이었다.

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SPECTRO-ELLIPSOMETRIC STUDIES OF STRUCTURE AND OPTICAL PROPERTIES OF PLSMA-GROWN DLC FILMS

  • Rhee, Sung-Gyu;Lee, Soon-Il;Oh, Soo-Ghee;Lee, Kwang-Ryeol
    • 한국표면공학회지
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    • 제29권5호
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    • pp.532-539
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    • 1996
  • Diamond-like carbon (DLC) films were deposited on silicon substrates by the plasma decomposition of hydrocarbons under various conditions, and studied by the spectroscopic ellipsometry (SE). We used the effective medium approximation with the dispersion model developed by Forouhi and Bloomer to determine simultaneously both the structure and the optical constants of the DLC films from their ellipsometric spectra. Especially, we investigated the variation of the multilayer structure including the interface layer, of the refractive indices, and of the extinction coefficients as the deposition conditions were varied; substrate pretreatment procedure, hydrocarbon precursors, and the substrate bias voltage were varied.

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DC와 DC pulsed magnetron sputtering을 이용한 IGZO 박막 증착 (IGZO films deposited by DC and DC pulsed magnetron sputtering)

  • 김민수;김세윤;성상윤;조광민;홍효기;이준형;김정주;허영우
    • 한국표면공학회:학술대회논문집
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    • 한국표면공학회 2011년도 춘계학술대회 및 Fine pattern PCB 표면 처리 기술 워크샵
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    • pp.139-139
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    • 2011
  • DC magnetron sputtering과 DC pulsed magnetron sputtering을 이용하여 공정 압력별, $O_2$ 분압별, 온도등의 증착조건에 따른 IGZO 박막의 특성을 조사하였다. Working pressure 따른 deposition rate 측정한 결과 동일 파워 적용 시 DC magnetron sputtering 대비하여 DC pulsed magnetron sputtering 은 약 84% 수준에 머물렀으며, IGZO 박막 내에 $O_2$의 분압비가 증가함에 따라 투과도는 단파장 영역에서 장파장 영역으로 갈수록 상승 경향을 보였다. 캐리어 농도와 이동도 등 전기적 특성도 증가하는 경향을 보였다. 온도에 따른 전기적 특성을 비교 해 본 결과 상온과 $150^{\circ}C$ 영역에서는 유의차가 없었으며, DC pulsed magnetron sputtering의 경우 $50^{\circ}C$ 영역에서 변곡점이 형성됨을 알수 있었다.

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