• Title/Summary/Keyword: SI이론

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$Cs^+$이온 반응성 산란에 의한 Si(111)-7$\times$7 표면에서의 산소 흡착 연구

  • Kim, Gi-Yeo;Kang, Heon
    • Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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    • 2000.02a
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    • pp.153-153
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    • 2000
  • Si 산화는 반도체 공정상 필요한 과정으로 산업적으로나 학문적으로 중요하고 많이 연구되었다. 이중에서 Si(1110-7x7표면에서 초기 흡착된 산소는 준안정적 상태로 존재하며 표면온도, 산소의 노출량 그리고 진공도에 따라 그 수명이 제한된다. 이러한 준안정적 상태의 산소의 화학적 성질은 여러 표면분석장비가 동원되어 연구되었으나 아직까지 논쟁이 되고 있다. 이 경우 산소가 어떤 상태로 존재하는가는 표면화학종을 검출함으로서 해결될 수 있다. 저에너지 Cs+ 이온 반응성 산란은 이러한 요구를 충족시킬수 있는 가장 적합한 실험 방법중의 하나이다. 저에너지 Cs+ 이온 산란의 특징 중의 하나는 입사된 Cs+ 이온이 표면에 흡착된 화학종과 충돌후 탈착되면서 반응을 하여 송이 이온을 형성한다는 것이다. 이 송이 이온을 관측함으로서 표면에 존재하는 화학종을 알아 낼 수 있다. 이에 산소가 흡착된 Si(111)-7x7 표면에서의 산소의 준안정적 상태가 저에너지 Cs+ 이온 산란 실험을 통하여 연구되었다. 실험은 0.2-2L(1Langmuir = 10-6 Torr x 1 sec) 산소 노출량과 -15$0^{\circ}C$ - $25^{\circ}C$의 표면온도 그리고 5eV - 20eV의 Cs+ 이온 충돌에너지에서 CsSiO+ 이온이 유일한 생산물로서 검출되었다. CsSiO+ 이온은 입사된 Cs+ 이온과 표면에 존재하는 SiO 분자가 충돌 후 반응하여 탈착된 것으로 생각된다. 이것은 낮은 산소 노출량 즉, 초기 산화 단계에서 SiO가 표면에 존재한다는 것을 의미한다. 즉, 산소 분자는 산화단계의 초기에 해리되어 표면에 흡착되고 선구물질인 SiO를 형성함을 제시한다. 최근의 이론적 계산인 density functional calculation에서도 산소분자가 Si(111)-7$\times$7 표면의 준안정적 산화상태의 선구물질일 가능성을 배제한다. 이는 본 저에너지 Cs+ 이온 반응성 산란실험을 뒷받침하는 계산 결과이다. 높은 Cs+ 이온 충돌에너지에서 CsSi+, Si+, SiO+, Si2+, Si2O+ 등이 추가로 검출되었다. 이는 CsSi 이온을 제외하고 수 keV의 충돌에너지를 사용하는 이차 이온 질량 분석법과 비슷한 결과이다.

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EN 1991-1-2 Annex A를 활용한 구획화재의 화재성상 예측에 대한 연구

  • Lee, Jong-Hwa;Ji, Seung-Uk;Kim, Si-Guk
    • Proceedings of the Korea Institute of Fire Science and Engineering Conference
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    • 2013.11a
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    • pp.174-175
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    • 2013
  • 본 연구에서는 구획화재의 화재성상을 온도곡선으로 나타내어 시간 경과에 따른 단계별 화재성장을 예측하고자 EN 1991-1-2 Annex A의 이론식을 프로그램화 하였다. 그리고 이를 검증하기 위하여 선행연구 조사 후 선행연구에 사용된 입력 값을 프로그램화 된 이론식에 입력하여 도출된 결과와 선행연구에서 제시하고 있는 결과와 비교 분석하였다.

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Electroless Ni-B Plating on Si powder (Si 분말상의 무전해 Ni-B 도금)

  • Go, Byeong-Man;Son, In-Jun;Baek, Seong-Ho
    • Proceedings of the Korean Institute of Surface Engineering Conference
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    • 2015.11a
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    • pp.349-349
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    • 2015
  • 최근 고용량의 리튬이온전지 개발이 절실하다. 흑연의 용량을 뛰어넘는 고용량 음극재료로서 흑연의 10배가 넘는 이론용량을 가지는 실리콘이 차세대 음극재료로 주목받고 있다. 그러나 실리콘은 큰 부피팽창과 낮은 전기전도도와 같은 문제점을 안고 있으므로 이를 해결하는 것이 시급하다. 따라서 본 연구에서는 이러한 실리콘 음극재료의 전기전도도 향상을 위해 무전해 Ni-B 도금을 이용하여 실리콘 파우더 표면에 Ni 금속을 부분적으로 형성시켰다.

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취화재료(脆化材料)의 내취화(耐脆化) 구조(構造)

  • Sin, Dong-U;Hong, Cheong-Suk
    • Elastomers and Composites
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    • v.31 no.4
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    • pp.247-255
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    • 1996
  • 금속이나 고분자 재료에 비하여 세라믹스는 우수한 내열성과 고온 물성을 가지고 있음에도 불구하고, 잘 깨지는 특성과 제조시 많은 열량을 필요로 하는 단점 때문에 그 동안 고온 구조용 부품으로서 광범위하게 사용되지 못하였다. 본 연구에서는 polycarbosilane을 이용하여 C/C 복합체를 포함한 산화물 및 비산화물 세라믹 복합체의 저온 치밀화 제조 공정을 확립하였다. polympr precursor를 열처리하여 얻은 $Al_2O_3$와 SiC 장섬유를 대표적인 산화물, 비산화물 세라믹스인 알루미나와 탄화규소에 각각 보강하여 파괴에너지가 기존의 단체 세라믹스에 비하여 10배 이상 향상된 세라믹 복합체를 제조하였다. 복합체 제조시 polycarbosilane을 결합제로 첨가하였으며 polycarbosilane이 SiC로 전이되는 $1150^{\circ}C$에서 열처리하여 이론 밀도의 73% 이상을 얻었다.

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The study on the formation of growth steps in the sublimation growth of SiC single crystals (승화법에 의한 SiC 단결정 성장에서 성장 step의 형성에 관한 연구)

  • 강승민
    • Journal of the Korean Crystal Growth and Crystal Technology
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    • v.11 no.1
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    • pp.1-5
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    • 2001
  • SiC single crystals were grown in the various condition of growth pressure and temperature in the sublimation growth. We observed the growth step morphology and the shapes on the surface of as-grown crystals using an optical microscope, and characterized the co-relations among the growth parameters by adapting the Burton, Carbera and Frank theory(BCF theory)for nucleation and crystal growth.

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SiO2/C-TiO2 microcone 복합체의 제조와 리튬이차전지 적용

  • Ha, Jae-Yun;Choe, Jin-Seop
    • Proceedings of the Korean Institute of Surface Engineering Conference
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    • 2018.06a
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    • pp.71-71
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    • 2018
  • 현재 상용화된 Graphite 음극활물질의 경우 낮은 부피당, 무게당 용량을 가지며 이는 다양한 분야에 활용하는데 제약이 있다. $SiO_2$는 Si에 비해서는 낮은 용량이지만 metal oxide 계열 중 가장 높은 이론용량을 가지고 있으며, 리튬 이온과 반응 시 큰 부피팽창을 하며, 절연체로 전기전도도가 낮아 리튬이 차전지의 음극재로 상용화가 어려운 단점이 있다. 본 연구에서는 TEOS를 이용하여 탄소와 $SiO_2$를 동시에 $TiO_2$ microcone 구조에 코팅하여 3가지 물질의 복합체를 형성하여 용량을 증대시키고 구조적 안전성을 향상시키는 방법을 소개 한다. 음극재의 특성은 고분해능 주사전자현미경 (HR-SEM), 고분해능 엑스선 회절분석기 (XRD), 를 통해 조사하였으며, 순환전류법 (CV), 충 방전 싸이클 분석을 통해 리튬이차전지의 작동원리와 보다 향상된 성능을 규명하였다.

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Device Suitability Analysis by Comparing Performance of SiC MOSFET and GaN Transistor in Induction Heating System (Induction Heating System에서 SiC MOSFET과 GaN Transistor의 Performance 비교를 통한 소자 적합성 분석)

  • Cha, Kwang Hyung;Kim, Rae Young
    • Proceedings of the KIPE Conference
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    • 2019.11a
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    • pp.82-84
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    • 2019
  • 본 논문에서는 Induction Heating(IH) 시스템에서 WBG 소자인 SiC MOSFET과 GaN Transistor의 Performance 비교를 통해서 소자의 적합성을 분석한다. SiC 및 GaN 소자를 직렬 공진형 컨버터로 구성된 IH 시스템에 적용하여 온도, 전압, 전류, Gate 저항 등을 고려한 도통 손실, 스위칭 손실, 역방향 도통 손실과 열 해석 프로그램을 통한 열 성능 등의 비교가 수행되며, 이를 통해 소자 적합성이 분석된다. 각 소자에 따른 IH 시스템에 대한 시뮬레이션을 수행하여, 이론적 손실 비교를 통한 소자 적합성 분석에 대한 타당성을 검증한다.

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Transient Behaviour of Photorefractive $Bi_{12}SiO_{20}$ Crystal: Two Wave Mixing with an External A.C. Field (A.C. 전장이 인가된 광굴절 Bi12SiO20 결정의 2광파 혼합 이득의 시간종속 변화)

  • 곽종훈
    • Korean Journal of Optics and Photonics
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    • v.4 no.1
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    • pp.73-83
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    • 1993
  • The temporal differential equation describing the build-up of the space-charge field in the presence of square and sinusoidal alternating field in photorefractive materials is solved analytically. We also measured the average two-wave mixing gain and the full temopral gain variations in a B$i_{12}$Si$O_{20}$ crystal with applied fields of up to 7 KV/cm amplitude and 1 KHz repetition rate. It has been found that the experimental measurements agree well with the theoretical results.

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Effect of Ge mole fraction and Strained Si Thickness on Electron Mobility of FD n-MOSFET Fabricated on Strained Si/Relaxed SiGe/SiO2/Si (Strained Si/Relaxed SiGe/SiO2/Si 구조 FD n-MOSFET의 전자이동에 Ge mole fraction과 strained Si 층 두께가 미치는 영향)

  • 백승혁;심태헌;문준석;차원준;박재근
    • Journal of the Institute of Electronics Engineers of Korea SD
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    • v.41 no.10
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    • pp.1-7
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    • 2004
  • In order to enhance the electron mobility in SOI n-MOSFET, we fabricated fully depletion(FD) n-MOSFET on the strained Si/relaxed SiGa/SiO$_2$/Si structure(strained Si/SGOI) formed by inserting SiGe layer between a buried oxide(BOX) layer and a top silicon layer. The summated thickness of the strained Si and relaxed SiGe was fixed by 12.8 nm and then the dependency of electron mobility on strained Si thickness was investigated. The electron mobility in the FD n-MOSFET fabricated on the strained Si/SGOI enhanced about 30-80% compared to the FD n-MOSFET fabricated on conventional SOI. However, the electron mobility decreased with the strained Si thickness although the inter-valley phonon scattering was reduced via the enhancement of the Ge mole fraction. This result is attributed to the increment of intra-valley phonon scattering in the n-channel 2-fold valley via the further electron confinement as the strained Si thickness was reduced.

A Study on the Design and Performance of Integrated-Optic Biosensor utilizing the Multimode Interferometer based on Si3N4 Rib-Optical Waveguide and Evanescent-Wave (Si3N4 립-광도파로 기반 다중모드 간섭기와 소산파를 이용하는 집적광학 바이오센서 설계 및 성능에 관한 연구)

  • Jung, Hong sik
    • Journal of IKEEE
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    • v.24 no.2
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    • pp.409-418
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    • 2020
  • In this paper, an integrated optical, evanescent-wave biosensor utilizing a multimode interferometer based on a Si3N4 rib-optical waveguide consisting of the Si/SiO2/Si3N4/SiO2 stacked structure was described. The theoretical background of the multimode interferometer was reviewed, and the structure and design process were presented through numerical computational analysis. We analyzed how the dimension (length, width) of the multimode interferometer affected the sensor performance. It has been confirmed through computational analysis that the changes in the refractive index of an analyte greatly affect the mode pattern formation position and output optical power of a multimode interferometer, and proved that this principle could be applied to integrated-optic biosensor.