Kang, Junyoung;Le, Anh Huy Tuan;Park, Hyeongsik;Kim, Yongjun;Yi, Junsin;Kim, Sunbo
Transactions on Electrical and Electronic Materials
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v.17
no.6
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pp.351-354
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2016
The mechanical properties of ITO films such as adhesion and internal stress are very important for the commercial application of solar cell devices. We report high quality pulsed DC magnetron sputtered ITO films deposited on silicon and glass substrates with low resistivity and high transmittance for various working pressures ranging from 0.96 to 3.0 mTorr. ITO films showed the lowest resistivity of $2.68{\times}10^{-4}{\Omega}{\cdot}cm$, high hall mobility of $46.89cm^2/V.s$, and high transmittance (>85%) for the ITO films deposited at a low working pressure of 0.99 mTorr. The ITO films deposited at a low working (0.96 mTorr) pressure had both amorphous and polycrystalline structures and were found to have compressive stress while the ITO films deposited at higher temperature than 0.99 mTorr was mixture of amorphous and polycrystalline and was found to have tensile stress.
Silicon heterojunction solar cells (SHJ) have dominated the photovoltaic market up till now but their conversion performance is practically limited to around 26% compared with the theoretical efficiency limit of 29.4%. A silicon based multi-junction devices are expected to overcome this limitation. In this report, we briefly review the state-of-art characteristic of wide-gap materials which has played a role as top sub-cells in silicon based multi-junction solar cells. In addition, we indicate significantly practical challenges and key issues of these multi-junction combination. Finally, we focus to some characteristics of III-V/c-Si tandem configuration which are reaching highly record performance in multi-junction silicon solar cells.
Carrier-selective contacts (CSCs) solar cells are considerably attractive on highly efficient crystalline silicon heterojunction (SHJ) solar cells due to their advantages of high thermal tolerance and the simple fabrication process. CSCs solar cells require a hole selective contact (HSC) layer that selectively collects only holes. In order to selectively collect holes, it must have a work function characteristic of 5.0 eV or more when contacted with n-type Si. The VOx, NiOx, and CuIx thin films were fabricated and analyzed respectively to confirm their potential usage as a hole-selective contact (HSC) layer. All thin films showed characteristics of band-gap engergy > 3.0 eV, work function > 5.0 eV and minority carrier lifetime > 1.5 ms.
Kim, Hongrae;Jeong, Sungjin;Cho, Jaewoong;Kim, Sungheon;Han, Seungyong;Dhungel, Suresh Kumar;Yi, Junsin
Journal of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers
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v.35
no.6
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pp.603-609
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2022
Passivation quality is mainly governed by epitaxial growth of crystalline silicon wafer surface. Void-rich intrinsic a-Si:H interfacial layer could offer higher resistivity of the c-Si surface and hence a better device efficiency as well. To reduce the resistivity of the contact area, a modification of void-rich intrinsic layer of a-Si:H towards more ordered state with a higher density is adopted by adapting its thickness and reducing its series resistance significantly, but it slightly decreases passivation quality. Higher resistance is not dominated by asymmetric effects like different band offsets for electrons or holes. In this study, multilayer of intrinsic a-Si:H layers were used. The first one with a void-rich was a-Si:H(I1) and the next one a-SiOx:H(I2) were used, where a-SiOx:H(I2) had relatively larger band gap of ~2.07 eV than that of a-Si:H (I1). Using a-SiOx:H as I2 layer was expected to increase transparency, which could lead to an easy carrier transport. Also, higher implied voltage than the conventional structure was expected. This means that the a-SiOx:H could be a promising material for a high-quality passivation of c-Si. In addition, the i-a-SiOx:H microstructure can help the carrier transportation through tunneling and thermal emission.
Sevaral problems of administrative area sysem in Korea have been brought up for a long time. Because its frame has remained since Chosun and Japanese colonial period in spite of changing local administrative environment in accordance with rapid industrialization and urbanization. Recent reform of city (Shi)- county (Gun) integration is derived from this argument. But problems which permeate deeply overall system cannot be solved by partial reorganization of Shi-Gun. They may be rationalized only through the reform of the whole system. The aims of this study are to analyze problems of administrative area system entirelr and to discuss the direction of its reform from that point of view. Major problems of administrative area system are summed up into the followings. Firstly, it is found that administrative hierarchies are too many levels. Contemporary administrative hierarchical structure is 4 levels: regional autonomous government (Tukpyolshi, Jik'halshi, Do), local autonomous government (Shi, Gun), two leveis of auxiliary administrative area (Up, Myun and Ri). These hierarchies were established in late period of Chosun which transportation was undeveloped and residential activity space was confined. But today developing transportion and expanding sphere of life don't need administrative hierarchical structurl with many levels. Besides developing administrative technology reduces administrative space by degrees. Many levels of contemporary administrative hierarchical structure are main factor of administrative inefficency, discording with settlement system. Second problem is that Tukpyolshi and Jik'halshi - cities under direct control of the central government as metropolitan area - underbounded cities. Underbounded city discomforts residential life and increases external elects of local pulic services. Especially this problem is Seoul, Pusan and Daegu. Third problem is that Do-areas are mostly two larger in integrating into single sphere of life. In fact each of them consistes of two or three sphere of life. Fourth Problem is metropolitan government system that central city is seperated from complementary area, i.e. Do. It brings about weakening the economic force of Do. Fifth problem is that several cities divided single sphere of life. It is main factor of finantial inefficency and facing difficult regional administration. Finally necessity of rural parish (Myun.) is diminished gradually with higher order center oriented activty of rural residents. First of all administrative area system should corresponds with substantial sphere of life in order to solve these problems. Followings are some key directions this study proposes on the reform of administrative area system from that standpoint. 1. Principles of reorgnization -- integration of central dty with complementary area. -- correspondence of administrative hierarchical structure with settlement system. -- correspondence of boundary of administrative area with sphere of life. 2. Reform strategy -- Jik'halshi is integrated with Do and is under the contol of Do. -- Small Seoul shi (city) which have special functions as captal is demarcated in Seoul tukpyolshi and 22 autonomous distrcts of Seoul tukpyolshi is integrated into 3-4 cities. -- Neighboring cities (Shies) in single sphere of life are intrgrated into single city (Shj). -- Myun and Ri are abolished in rural region and new unit of local administrative area on the basis of lowest order sphere of life into which 3-4 Ries are integrated replaces them.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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