Proceedings of the Korean Powder Metallurgy Institute Conference
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1994.04c
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pp.6-6
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1994
Har dmaterials such as cemented carbides with or without coated layer, cermets, ceramics and diamond or c-BN high pressure sintered compact are used for cutting tools, wear -resistant parts, rock drilling bits and/or high pressure vessels. These hardmaterials contain not only hard phase, but also second consituent as the element for forming ductile phase and/or sintering aid, and the mechanical properties of each material depend on (1) the amount of the second constituent as well as (2) the grain size of the hard phase. The hardness of each material mainly depends on these two factors. The fracture strength, however, largely depends on other microstructur a1 factors as well as the above two factors. For all hardmaterials, the fracture strength is consider ably affected by (3) the size of microstructur a1 defect which acts as the fracture source. In cemented carbides, the following factors which are generated mainly due to the addition of the second constituent are also important; (4) the variation of the carbon content in the normal phase region free from V-phase and graphite phase, (5) the precipitation of $Co_3$ during heating at about $800^{\circ}C$,(6) the domain size of binder phase, and (7) the formation of ${\beta}$-free layer or Co-rich layer near the surface of sintered compacts. For cemented carbides coated with thin hard substance, the important factors are as follows; (8) the kind of coated substance, (9) the formation of ${\eta}$-phase layer at the interface between coated layer and substrate, (10) the type of residual stress (tension or compression) in the coated layer which depends on the kind of coating method (CVD or PVD), and (11) the properties of the substrate, and (12) the combination, coherency and periodicity of multi-layers. In the lecture, the details of these factors and their effect on the strength will be explained.
Si3N4/stainless steel 316 joints with Ni buffer layer were fabricated by direct active brazing method (DIB) using Ag-Cu-Ti brazing alloy only and double brazing method (DOB) using Ag-Cu brazing alloy with Si3N4 pretreated with Ag-Cu-Ti brazing alloy. For the joint brazed by DIB method, Ti was segregated at the Si3N4/brazing alloy interface, but was not enough to form a stable joint interface. In addition, large amounts of Ni-Ti inter-metallic compounds were formed in tehbrazing alloy near the joint interface, which could deplete the contents of Ti involved in the interfacial reaction. However, for the joint brazed by DOB method, segregation of Ti at the joint interface were enough to enhance the formation of stable interfacial reaction products such as TiN and Ti-Si-Ni-N-(Cu) multicompounds, which restricted the formation of Ni-Tio inter-metallic compounds in the brazing alloy during brazing with Ni buffer layer. Fracture strength of Si3N4/S.S 316 joints with Ni buffer layer was much improved by using DOB method rather than DIB method. It could be deduced that the differences of fracture strength of the joint with Ni buffer layer depending on brazing process adapted were directly affected by the formation of stable joint interface and the change in microstructure of the brazing alloy near the joint interface. It was found that fracture strength of Si3N4/S.S 316 joints with Ni buffer layer was gradually reduced as the thickness of interface. It was found that fracture strength of Si3N4/S.S 316 joints with Ni buffer layer was gradually reduced as the thickness of Ni buffer layer in the joint was increased from 0.1 mm to 10 mm. It seems to due to the increased residual stress in the joint as the thickness of Ni buffer layer is increased. The maximum fracture strength of Si3N4/S.S 316 joints with Ni buffer layer was 386 MPa, and the fracture of joint was originated at Si3N4/brazing alloy joint interface and propagated into Si3N4 matrix.
Lee, Je Hyoun;Park, Min Soo;Yang, Sung Mo;Park, Sang Uk;Lee, Min Ho;Kim, Sang Youl
Korean Journal of Optics and Photonics
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v.26
no.4
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pp.195-202
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2015
We developed a reflection ellipsometer so that one can measure the extremely small optical anisotropy of a rubbed polyimide alignment layer, without being disturbed by the residual anisotropy of the substrate. The optical anisotropy of the alignment layer was measured as rubbing strength was increased, and the measured anisotropy was compared to the retardation obtained by using a transmission-type ellipsometer, to confirm the reliability of our reflection ellipsometer. With this measured anisotropy we could verify the formation of an alignment layer by rubbing, and could quantitatively evaluate the formation of the alignment layer.
Buyanbileg Sodnom-Ish;Mi Young Eo;Kezia Rachellea Mustakim;Yun Ju Cho;Soung Min Kim
Journal of the Korean Association of Oral and Maxillofacial Surgeons
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v.50
no.2
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pp.94-102
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2024
The exact mechanism of sialolith formation has yet to be determined. Recurrence of sialolithiasis is rare, affecting only 1%-10% of patients. The current study presents a case of recurrent stones that occurred twice on the right submandibular gland 6 months postoperative and 7 months after reoperation in a 48-year-old female patient. The stones were analyzed using histology, scanning electron microscopy, energy dispersive spectroscopy, and transmission electron microscopy (TEM). The first stone showed a three-layered structure with a poorly mineralized peripheral multilayered zone, highly mineralized middle layer, and the central nidus. The stones were composed of Ca, C, O, Cu, F, N, P, Si, Zn, and Zr. In TEM, compact bi-layered bacterial cell membrane was found on the peripheral layer and the central nidus of the stone as well as exosomes in the central nidus. The results demonstrated the essential components of sialolith formation, including bacteria, inflammatory exosomes, and exfoliated salivary epithelial cells that cooperatively underwent the pathogenetic progresses of central nidus formation, induction of compact zone calcification of the middle layer, and repeated subsequent deposition in the peripheral multilayer zone. The rapid recurrence could have resulted from residual pieces of a sialolith acting as the nidus of bacterial infection.
Kim, Jongryul;Choi, Youngyoun;Park, Jongsung;Song, Ohsung
Korean Journal of Metals and Materials
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v.46
no.11
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pp.762-769
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2008
Hydrogenated amorphous silicon(a-Si : H) layers, 120 nm and 50 nm in thickness, were deposited on 200 $nm-SiO_2$/single-Si substrates by inductively coupled plasma chemical vapor deposition(ICP-CVD). Subsequently, 30 nm-Ni layers were deposited by E-beam evaporation. Finally, 30 nm-Ni/120 nm a-Si : H/200 $nm-SiO_2$/single-Si and 30 nm-Ni/50 nm a-Si:H/200 $nm-SiO_2$/single-Si were prepared. The prepared samples were annealed by rapid thermal annealing(RTA) from $200^{\circ}C$ to $500^{\circ}C$ in $50^{\circ}C$ increments for 30 minute. A four-point tester, high resolution X-ray diffraction(HRXRD), field emission scanning electron microscopy (FE-SEM), transmission electron microscopy (TEM), and scanning probe microscopy(SPM) were used to examine the sheet resistance, phase transformation, in-plane microstructure, cross-sectional microstructure, and surface roughness, respectively. The nickel silicide on the 120 nm a-Si:H substrate showed high sheet resistance($470{\Omega}/{\Box}$) at T(temperature) < $450^{\circ}C$ and low sheet resistance ($70{\Omega}/{\Box}$) at T > $450^{\circ}C$. The high and low resistive regions contained ${\zeta}-Ni_2Si$ and NiSi, respectively. In case of microstructure showed mixed phase of nickel silicide and a-Si:H on the residual a-Si:H layer at T < $450^{\circ}C$ but no mixed phase and a residual a-Si:H layer at T > $450^{\circ}C$. The surface roughness matched the phase transformation according to the silicidation temperature. The nickel silicide on the 50 nm a-Si:H substrate had high sheet resistance(${\sim}1k{\Omega}/{\Box}$) at T < $400^{\circ}C$ and low sheet resistance ($100{\Omega}/{\Box}$) at T > $400^{\circ}C$. This was attributed to the formation of ${\delta}-Ni_2Si$ at T > $400^{\circ}C$ regardless of the siliciation temperature. An examination of the microstructure showed a region of nickel silicide at T < $400^{\circ}C$ that consisted of a mixed phase of nickel silicide and a-Si:H without a residual a-Si:H layer. The region at T > $400^{\circ}C$ showed crystalline nickel silicide without a mixed phase. The surface roughness remained constant regardless of the silicidation temperature. Our results suggest that a 50 nm a-Si:H nickel silicide layer is advantageous of the active layer of a thin film transistor(TFT) when applying a nano-thick layer with a constant sheet resistance, surface roughness, and ${\delta}-Ni_2Si$ temperatures > $400^{\circ}C$.
Microstructural development at the ZrO2/NiTi bonding interface and reaction products were examined and identified with SEM and AEM. Ti-oxide, Ti2Ni and Ni2Ti layer were observed whose thickness depends on bonding temperature typically. The development of Ti-oxide layer is related with oxygen ion in ZrO2 and liquid phase Ti2Ni. It is considered that compositional deviation from homogeneity and residual stress caused by thermal expansion mismatch are closely related with the formation of the Ti2Ni phase.
To study the reverse fault formation process and the stress evolution feature, a simulation test system of reverse fault formation is developed based on the analysis of reverse fault formation mechanism. The system mainly consists of simulation laboratory module, operation console and horizontal loading control system, and data monitoring system. It can represent the fault formation process, induce fault crack initiation and simulate faults of different throws. Simulation tests on reverse fault formation process are conducted by using the simulation test system: horizontal loading is added to one side of the model. the bottom rock layer cracks under the effect of the induction device. The crack dip angle is about 29°. A reverse fault is formed with the expansion of the crack dip angle towards the upper right along the fracture surface and the slippage of the hanging wall over the foot wall. Its formation process unfolds five stages: compressive deformation of rock, local crack initiation, reverse fault penetration, slippage of the hanging wall over the foot wall and compaction of fault plane. There is residual structural stress inside rock after fault formation. The study methods and results have guiding and referential significance for further study on reverse fault formation mechanism and rock stress evolution.
High quality $Si_3N_4$ metal-insulator-metal (MIM) capacitors were realized by plasma enhanced chemical vapor deposition (PECVD). Titanium nitride (TiN) adapted as a diffusion barrier reduced the interfacial reaction between $Si_3N_4$ dielectric layer and aluminum metal electrode showing neither hillock nor observable precipitate along the interface. The capacitance and the current-voltage characteristics of the MIM capacitors showed that the minimum thickness of $Si_3N_4$ layer should be limited to 500 $\AA$ under the present process, below which most of the capacitors were electrically shorted resulting in the devastation of on-wafer yield. According to the transmission electron microscopy (TEM) on the cross-sectional microstructure of the capacitors, the dielectric breakdown was caused by slit-like voids formed at the interface between TiN and $Si_3N_4$ layers when the thickness of $Si_3N_4$ layer was less than 500 $\AA$. Based on the calculation of thermally-induced residual stress, the formation of voids was understood from the mechanistic point of view.
Effect of Cr, Cu and Ni metal powders addition on the alloyed layer of aluminum alloy (AC2B) has been investigated with the plasma transferred arc (PTA) overlaying process. The overlaying conditions were 125-200A in plasma arc current, 150mm/min in process speed and 5-20g/min in powder feeding rate. Main results obtained are summarized as follows: 1) It was made clear that formation of thick surface alloyed layer on aluminum alloy is possible by PTA overlaying process. 2) The range of optimum alloying conditions were much wider in case of Cu and Ni powder additions than the case of Cr powder addition judging from the surface appearance and the bead macrostructure. 3) Alloyed layer with Cu showed almost the homogeneous microstructure through the whole layer by eutectic reaction. alloyed layers with Cr and Ni showed needle-like and agglomerated microstructures, the structure of which has compound layer in upper zone of bead by peritectic and eutectic-peritectic reactions, respectively. 4) Microconstituents of the alloyed layer were analyzed as A1+CrA $l_{7}$ eutectics, C $r_{2}$al sub 11/, CrA $l_{4}$, C $r_{4}$A $l_{9}$ and C $r_{5}$A $l_{*}$ 8/ for Cr addition, Al+CuA $l_{2}$(.theta.) eutectics and .theta. for Cu addition, and Al+NiA $l_{3}$ eutectics. NiA $l_{3}$, N $i_{2}$A $l_{3}$ and NiAl for Ni addition. 5) Concerning defect of the alloyed layer, many blow holes were seen in Cr and Ni additions although there was lesser in Cu addition. Residual gas contents in blow hole for Cu and Ni alloyed layer were confirmed as mainly $H_{2}$ and a littie of $N_{2}$ Cracking was observed in compound zone of the alloyed layer in case of Cr and Ni addition but not in Cu alloyed layer.r.r.
The Sea:JOURNAL OF THE KOREAN SOCIETY OF OCEANOGRAPHY
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v.8
no.2
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pp.177-186
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2003
The influences of horizontal and vertical flow components including the stratification of water column and the wind field on the formation of oxygen-deficient water in summer in Jindong Bay, northern part of Chinhae Bay, were examined. Temperature, salinity and dissolved oxygen in seawater, and direction and velocity of wind were observed in Jindong Bay from March 1998 to February 1999. Low concentration of 5 mg/L in dissolved oxygen (DO) appeared at the bottom layer from May to September. Extremely low DO concentration less than 3 mg/L was investigated in summer (July to August) when stratification was strongest due to abrupt vertical gradients of temperature and salinity in water column. Bottom waters with the extremely low DO concentration were observed even in spring (May to June) at the inner part of the bay. In summer (August to September), the bottom waters with the low DO concentration (less than 5 mg/L) existed at the water depth from 4 to 6 m, being moved upward to the surface layer compared to other seasons. Vertical components of residual flow, calculated by the direction and velocity of wind, in Jindong Bay in summer showed that locally prevailed northerly and westerly wind resulted in downwelling flow at the outer part of the bay and conversely, upwelling at the inner part of the bay. In addition, bottom current at the outer part corresponding to the downwelling area directed to the inner part, probably resulting in a transport of the particulate organic matter settled at the bottom waters to the inner part of the bay. The oxygen-deficient watermass, which was formed at the bottom layer of the inner part, was likely to transported to the surface layer by the upwelling flow.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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