SrBi$_2$ Ta$_2$ O$_9$ 박막에 있어서 Ar/C1$_2$ 가스의 비율 및 RF/DC Power Density의 변화에 따른 수직 식각의 특성연구
(Vortical Etching Characteristics of SrBi$_2$ Ta$_2$ O$_9$ thin Films Depending on Ar/Cl$_2$ Ratios and RF/DC Power Densities)
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- 마이크로전자및패키징학회지
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- 제8권3호
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- pp.49-53
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- 2001