• Title/Summary/Keyword: Pyrolysis layer

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SOx 가스감지용 SAW 가스 센서 개발 (Development of SAW Gas Sensor for Monitoring SOx Gas)

  • 이찬우;노용래;정종식;백성기
    • 센서학회지
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    • 제5권3호
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    • pp.41-48
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    • 1996
  • SOx 가스를 고감도로 감지할 수 있는 SAW 가스 센서를 개발하였다. 이는 SAW device 위에 SOx 가스에 감응하는 재료를 박막으로 증착함으로써 고감도의 마이크로 센서형으로 한 것이다. SOx 감응 재료로서 CdS를 선정하였으며, 이를 SAW device 위에 박막화하기 위해 초음파 분무 노즐을 이용한 분무 열분해의 박막 증착공정을 응용하였다. 초음파 분무 노즐을 통하여 생성된 균일하고 미세한 입자들은 기판위에서 안정한 열분해 환경을 조성함으로써 센서 감응막을 위한 넓은 표면적의 박막을 증착 시켰는데 기판의 온도는 $300^{\circ}C$ 내외에서 최소 50 nm수준의 결정립의 박막을 얻었다. 이렇게 하여 얻은 SAW 가스 센서는 $SO_{2}$ 가스에 감응하였으며 재현성도 보였다. 다른 가스의 존재하에서 $SO_{2}$ 가스에 대한 선택성에 관하여는 계속적인 연구가 필요하다.

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열분해-가스크로마토그라피에 의한 자동차 페인트 분석 (Analysis of Automotive Paints using Pyrolysis-Gas Chromatography)

  • 손성건;박하선;이진숙;홍성욱;박성우;조성희
    • 분석과학
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    • 제13권1호
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    • pp.101-107
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    • 2000
  • 자동차 페인트는 안료층과 도색된 페인트층의 색상, 도막층의 배열 및 화학적 성분에 의해 구별되어 질 수 있다. 법과학 시료로 채택된 페인트 도막의 미세편에 의한 뺑소니 차량의 성공적인 확인은 표준시료의 포괄적인 수집 및 전처리 과정 없이 직접 분석하는 기법이 무엇보다 중요하다. 열분해 가스크로마토그래피는 고분자 시료뿐만 아니라 법과학적 시료의 정성 및 정량분석을 수행하는데 정확하고 신뢰성 있는 방법으로 널리 이용되고 있다. 본 실험실은 국내에서 선호도가 높은 각 자동차 회사의 4개 색상 73종에 대해 Curie Point Pyrolyzer(JHP-3) 및 Capillary Column(Ultra Alloy-5)이 장착된 가스크로마토그래프를 이용하여 실험을 진행하였다. 이 분석방법은 용의차량의 페인트와 유류된 페인트의 비교뿐만 아니라 자동차의 제조회사, 차종검객까지 확인하는 데에 이용이 가능하였다.

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Preparation and Surface treatment of Spherical $BaMgAl_{10}O_{17}:Eu^{2+}$ phosphor

  • Seo, Kyoung-Soo;Lee, Dae-Won;Jung, Ha-Kyun
    • 한국정보디스플레이학회:학술대회논문집
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    • 한국정보디스플레이학회 2004년도 Asia Display / IMID 04
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    • pp.1079-1082
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    • 2004
  • Dense $BaMgAl_{10}O_{17}:Eu^{2+}$ phosphor particles with a spherical shape have been synthesized through spray pyrolysis method using basic aluminum nitrate precursor as a spray solution. Also, a thin layer of silica on the surface of $BaMgAl_{10}O_{17}:Eu^{2+}$ particles were coated by hydrolysis reaction of alkoxide sources with the particles. The correlation between PL intensity and surface treatment by coating for the dense $BaMgAl_{10}O_{17}:Eu^{2+}$ particles have been investigated.

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메틸클로로실란류의 열분해를 이용한 탄화규소의 화학증착 (Chemical Vapor Deposition of Silicon Carbide by the Pyrolysis of Methylchlorosilanes)

  • 최병진;박동원;조미자;김대룡
    • 한국세라믹학회지
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    • 제32권4호
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    • pp.489-497
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    • 1995
  • The DDS((CH3)2SiCl2)+H2 gas mixture, where C atoms exist in excess in the molecules, was used for chemical vapor deposition of SiC in order to prevent codeposition of free Si in MTS(Ch3SiCl3)+H2 system. The deposition rate was more rapid than MTS, however differ from that of MTS, it decreased after shwoing a maximum at 140$0^{\circ}C$. The stoichiometry was highly improved by using the DDS as a precursor, although there exist a little pyrolytic C at 150$0^{\circ}C$. The preferred orientation was (220) in MTS, however, it changed to (111) in DDS. The microstructure of the layer deposited at lower temperature were dense, however it grew coarse with the increase in the temperature.

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코르크 삭마를 고려한 비행체 1D 온도해석 도구 개발 (A Development of One-dimensional Thermal Analysis Tool for Flight Vehicle with Cork Insulation)

  • 정태빈
    • 한국군사과학기술학회지
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    • 제21권4호
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    • pp.464-470
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    • 2018
  • A development of one-dimensional thermal analysis tool is performed to estimate the thickness of cork insulation for flight vehicle. In the calculation of cork temperature, the cork density model, heat of ablation and pyrolysis gas enthalpy model were applied. The calculation for the two-layer model of cork and metal was performed by the tool and compared with the experimental data. The results for the two aerodynamic heating conditions were 17 % and -12 % different from the experimental data, respectively. The effect of mechanical ablation not included in the calculation can be expected as the cause of the difference. The temperature-density curve of cork which adjusted by experimental data was also presented.

적층 액츄에이터용 아크릴릭계 바인더/압전 세라믹계의 열분해 거동 (Pyrolysis Behavior of Acrylic Binder/Piezoelectric Ceramic System for Multilayer Actuator)

  • 박성의;이전국;정형진
    • 분석과학
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    • 제6권2호
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    • pp.231-238
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    • 1993
  • 적층 액츄에이터에서 바인더의 열적 거동이 액츄에이터의 물성을 좌우하므로 압전-전왜 재료로서 우수한 PNN-PZT/Acrylic binder의 혼합물에서 고분자 열분해 메카니즘과 결합제 번아웃 공정에 영향을 끼치는 요소들을 FTIR, DSC, TGA와 같은 분석기기를 통하여 분석하였다. 결합제는 2단계를 거쳐 번아웃이 되며, 산소 분위기일 경우 열분해가 활발해져서 최종 잔유물이 5% 내외로 최소화되므로 물성이 좋은 액츄에이터를 얻을 수 있다.

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고온 필라멘트 다이아몬드 CVD에서 기체유동변수가 결정성장에 미치는 영향 (Effects of Gas Flow Variables on the Crystal Growth of Diamond in Hot Filament-Assisted CVD)

  • 서문규;이지화
    • 한국세라믹학회지
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    • 제31권1호
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    • pp.88-96
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    • 1994
  • Hot filament-assisted CVD was carried out to deposit diamond films on Si(100) substrate at 90$0^{\circ}C$ using a 1% CH4-H2 mixture gas. Deposition was made at various conditions of mass flow rate of the feed gas (30~1000 sccm), pressure (2.5~300 Torr), and filament-substrate distance (4~15 mm), and the deposited films were characterized by SEM, XRD, and Raman spectroscopy. As the flow rate increases, the growth rate also increased but the crystallinity of the film was degraded. A longer filament-substrate distance simply caused both the growth rate and the crystallinity to become poorer. On the other hand, the pressure variation resulted in a maximum growth rate of 2.6 ${\mu}{\textrm}{m}$/hr at 10 Torr and the best film quality around 50 Torr, exhibiting an optimum condition. The observed trends were interpreted in terms of the flow velocity-dependent pyrolysis reaction efficiency and mass transport through the boundary layer.

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Sol-gel법으로 제조된 $\textrm{PbTiO}_3$ 박막의 온도에 따른 수축 및 응력거동 (In Situ Shrinkage and Stress Development for $\textrm{PbTiO}_3$, Films Prepared by Sol-gel Process)

  • 박상면
    • 한국재료학회지
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    • 제9권7호
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    • pp.735-739
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    • 1999
  • 본 연구에서는 sol-gel법으로 제조된 $PbTiO_3$ (PT) 단층박막내의 실시간 응력과 두께 수축거동, 그리고 다층박막의 미세경도를 온도의 함수로 측정하여 열처리에 따른 PT박막내의 물리화학적 변화를 설명하였다. 단층박막은 상온에서 $220^{\circ}C$까지 급격한 수축을 보였으며 총수축량의 83%가 이 온도구간에서 일어났다. as-spun된 박막 내에는 이미 75MPa의 인장응력이 존재하였으며 13$0^{\circ}C$부터 뚜렷이 증가하여 $250^{\circ}C$에서 147MPa의 최대 인장응력을 나타냈다. 인장응력의 급격한 감소가 일어나는 $370^{\circ}C$부터는 본격적으로 치밀화된 PT박막과 Si 기판과의 열팽창계수 차이가 주로 박막내의 응력을 결정하며, 이것은 다층박막의 미세경도가 $300^{\circ}C$ 이후에서 급격히 증가하는 사실로도 뒷받침된다. 한편 다층박막에서 단층박막과 달리 $550^{\circ}C$까지 열처리후 Perovskite 상이 많이 생성되었으며 이는 박막 두께의 증가에 따른 homogenous 핵생성 site의 증가 때문이라고 생각된다

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Hybrid MBE Growth of Crack-Free GaN Layers on Si (110) Substrates

  • 박철현;오재응;노영균;이상태;김문덕
    • 한국진공학회:학술대회논문집
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    • 한국진공학회 2013년도 제44회 동계 정기학술대회 초록집
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    • pp.183-184
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    • 2013
  • Two main MBE growth techniques have been used: plasma-assisted MBE (PA-MBE), which utilizes a rf plasma to supply active nitrogen, and ammonia MBE, in which nitrogen is supplied by pyrolysis of NH3 on the sample surface during growth. PA-MBE is typically performed under metal-rich growth conditions, which results in the formation of gallium droplets on the sample surface and a narrow range of conditions for optimal growth. In contrast, high-quality GaN films can be grown by ammonia MBE under an excess nitrogen flux, which in principle should result in improved device uniformity due to the elimination of droplets and wider range of stable growth conditions. A drawback of ammonia MBE, on the other hand, is a serious memory effect of NH3 condensed on the cryo-panels and the vicinity of heaters, which ruins the control of critical growth stages, i.e. the native oxide desorption and the surface reconstruction, and the accurate control of V/III ratio, especially in the initial stage of seed layer growth. In this paper, we demonstrate that the reliable and reproducible growth of GaN on Si (110) substrates is successfully achieved by combining two MBE growth technologies using rf plasma and ammonia and setting a proper growth protocol. Samples were grown in a MBE system equipped with both a nitrogen rf plasma source (SVT) and an ammonia source. The ammonia gas purity was >99.9999% and further purified by using a getter filter. The custom-made injector designed to focus the ammonia flux onto the substrate was used for the gas delivery, while aluminum and gallium were provided via conventional effusion cells. The growth sequence to minimize the residual ammonia and subsequent memory effects is the following: (1) Native oxides are desorbed at $750^{\circ}C$ (Fig. (a) for [$1^-10$] and [001] azimuth) (2) 40 nm thick AlN is first grown using nitrogen rf plasma source at $900^{\circ}C$ nder the optimized condition to maintain the layer by layer growth of AlN buffer layer and slightly Al-rich condition. (Fig. (b)) (3) After switching to ammonia source, GaN growth is initiated with different V/III ratio and temperature conditions. A streaky RHEED pattern with an appearance of a weak ($2{\times}2$) reconstruction characteristic of Ga-polarity is observed all along the growth of subsequent GaN layer under optimized conditions. (Fig. (c)) The structural properties as well as dislocation densities as a function of growth conditions have been investigated using symmetrical and asymmetrical x-ray rocking curves. The electrical characteristics as a function of buffer and GaN layer growth conditions as well as the growth sequence will be also discussed. Figure: (a) RHEED pattern after oxide desorption (b) after 40 nm thick AlN growth using nitrogen rf plasma source and (c) after 600 nm thick GaN growth using ammonia source for (upper) [110] and (lower) [001] azimuth.

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경막형 용융결정화에 의한 나프탈렌 혼합물의 분리에 관한 냉각속도와 결정화기 형태의 영향 (Effect of Cooling Rate and Crystallizer Type on the Separation of Naphthalene Mixture by Layer Melt Crystallization)

  • 강소림;고주영;김철웅;박소진
    • 청정기술
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    • 제13권1호
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    • pp.72-78
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    • 2007
  • 석유 잔사유(PGO)에 포함된 유효성분을 분리하기 위한 기초 연구로 컬럼 및 봉형 용융 결정화기를 사용하여 나프탈렌에 불순물로 2-메틸나프탈렌, 인덴, 1-메틸나프탈렌을 각각 포함시킨 혼합물에 관한 분리정제 연구를 수행하였다. 결정화시, 나프탈렌의 순도는 냉각속도가 낮거나, 융점이 상대적으로 낮은 불순물이 포함될 수 록 증가하는 경향을 나타내었으며, 동일한 조건에서 컬럼형 결정화기의 순도는 봉형에 비해 결정화후 부분용융에서 순도의 증가에 기인하여 높은 경향을 나타내었다.

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