The Optimization of Ozone Solubility and Half Life Time in Ultra Pure Water and Alkaline Solution on Semiconductor Wet Cleaning Process (반도체 습식 세정 공정 중 상온의 초순수와 염기성 수용액 내에서 오존의 용해도 최적화)
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- Journal of the Semiconductor & Display Technology
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- v.4 no.4 s.13
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- pp.19-26
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- 2005