Fabrication of the Ni/SiC Schottky Barrier Diode-The Effect of Post $H_2$ Plasma Treatment
(니켈전극을 이용한 탄화규소 쇼트키 다이오드 제작 및 수소 플라즈마 처리 효과에 관한 연구)
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- Proceedings of the Korean Ceranic Society Conference
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- 2003.04a
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- pp.40.2-40
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- 2003