• 한국재료학회지
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• 제17권11호
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• pp.593-600
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• 2007

Aluminum was anodized in a $H_2SO_4$ solution, and titanium (IV) oxide ($TiO_2$) was electrodeposited into nanopores of anodic porous alumina in a mixed solution of $TiOSO_4$ and $(COOH)_2$. The photocatalytic activity of the prepared film was analyzed for photodegradation of methylene blue aqueous solution. Consequently, we found it was possible to electrodeposit $TiO_2$ onto anodic porous alumina, and synthesized it into the nanopores by hydrolysis of a titanium complex ion under AC 8-9 V when film thickness was about $15-20{\mu}m$. The photocatalytic activity of $TiO_2$-loaded anodic porous alumina ($TiO_2/Al_2O_3$) at an impressed voltage of 9 V was the highest in every condition, being about 12 times as high as sol-gel $TiO_2$ on anodic porous alumina. The results revealed that anodic porous alumina is effective as a substrate for photocatalytic film and that high-activity $TiO_2$ film can be prepared at low cost.

• 한국전기전자재료학회논문지
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• 제16권9호
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• pp.801-806
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• 2003

In recent years, there has been large interest in the fabrication of the self organized nanoscale structures since not only their potential utilization in electronic, optoelectronic, and magnetic devices but also their fundamental interest such as uniformity and regularization. An attractive candidate of these materials is anodic porous alumina film(Al$_2$O$_3$) which is formed by the anodization of aluminum in an appropriate acid solution. In this study to fabricate the porous alumina film with very uniform and nearly parallel pores the anodization was carried out under constant voltage mode in 0.3M oxalic acid as an electrolyte. The hexagonally ordered arrays with a few $\mu\textrm{m}$ in size two-dimensional polycrystalline structure were obtained of which pore densities were 1.1${\times}$10$\^$10//$\textrm{cm}^2$.

• 한국진공학회지
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• 제15권5호
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• pp.518-526
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• 2006

나노 다공성 알루미나 박막을 제작하고 이를 주형으로 사용해서 진공증착에 의해 규칙적으로 배열된 나노우물구조와 나노그물구조의 금속 박막들(알루미늄, 주석, 코발트)을 제작하였다. 원하는 금속물질을 증발시키기 위하여 저항가열 방법을 사용하였으며, 증착은 torr의 기저진공 속에서 수행되었다. 실험결과에 의하면, 나노우물과 나노그물 구조의 박막 중 어떤 구조가 합성되느냐 하는 것은 증착되는 물질의 양에 의해서 큰 영향을 받는다는 사실을 알 수 있었다. 세포의 크기가 100 nm이고 세공 직경이 60 nm인 다공성 알루미나 박막을 사용했을 때는 대략 우물구조를 합성하는데 필요한 질량의 절반이하 정도가 증착되게 되면 그물 구조가 합성되는 경향을 보여주었다.

• Bulletin of the Korean Chemical Society
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• 제27권8호
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• pp.1159-1163
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• 2006

Aluminum nanotube has been fabricated by a physical vapor deposition/atmospheric pressure injection using an anodic porous alumina film as a template. The pore external-, and inside diameters and the length of the aluminum nanotubes fabricated by this method are 60 nm, 35 nm and 2 $\mu$m, respectively. The structure of the fabricated aluminum nanotubes was examined by a kind of chemical treatment as extraction of copper on the cross-sectional area of these aluminum tubes in a mixed solution of $CuCl_2$ and HCl by difference of ionization tendency between aluminum and copper. The composition of the aluminum nanotube was identified by the two dimensional Hybrid Plasma Equipment Model (HPEM) employing the inductively coupled plasma.

• 한국자기학회지
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• 제22권1호
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• pp.6-10
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• 2012

본 연구에서는 인산 용액 하에서 2차 양극 산화 기법에 의해 제작된 양극 산화 알루미나 기판 상에 최대 13 nm 두께의 얇은 니켈 박막을 증착하며 증착 시 박막 두께에 따라 감소하는 박막의 저항 변화를 살펴보았다. 양극 산화 알루미나 막 표면에 존재하는 미세 기공 구조를 따라 증착된 니켈 박막 역시 다공 구조의 박막으로 성장하게 되며 증착된 박막의 두께 범위 내에서 박막의 저항은 $150k{\Omega}$ 이상의 값을 보이면서 박막 두께에 따른 저항의 감소가 매우 천천히 일어나는 것을 확인할 수 있었다. 측정된 저항 값은 기존에 보고된 균일한 기판 상에 증착된 동일 두께의 니켈 박막에 비해 매우 큼을 볼 수 있었으며 기판 표면에 존재하는 기공 구조에 의해 핵자가 형성될 수 있는 표면 면적 비가 박막 성장을 설명하는 스미기(percolation) 현상이론에서 예측하는 임계 값보다 매우 적어 미세 기공에 의해 박막의 성장과 함께 나타나는 전자 전도 채널의 형성이 저해됨으로 이해될 수 있다. 이와 함께 기존의 박막 두께에 따른 비저항 모델과 비교해 보았을 때 미세 기공의 경계에서 나타나는 전자 산란 현상 역시 박막저항의 증가에 기여함을 알 수 있다.

• 한국표면공학회지
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• 제43권5호
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• pp.248-254
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• 2010

Porous $Al_2O_3$ film can be utilized as template for fabrication of nano-structured materials. Porous anodic alumina layer as template was prepared by anodization of aluminum in oxalic acid, and the pore diameter and barrier-type alumina layer can be controlled for proper anodizing parameter by widening process in $H_3PO_4$ solution. The $SiO_2$ nanodot and Ni nanowire was fabricated using anodic alumina template and their characteristics were investigated using SEM and TEM with EDS. Especially the growth mechanism of $SiO_2$ nanodot in alumina membrane compared with thinning of the alumina barrier layer during anodization was also investigated.

• 한국분말재료학회지
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• 제22권6호
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• pp.438-442
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• 2015

Porous thick film of alumina which is fabricated by freeze tape casting using a camphene-camphor-acrylate vehicle. Alumina slurry is mixed above the melting point of the camphene-camphor solvent. Upon cooling, the camphene-camphor crystallizes from the solution as particle-free dendrites, with the $Al_2O_3$ powder and acrylate liquid in the interdendritic spaces. Subsequently, the acrylate liquid is solidified by photopolymerization to offer mechanical properties for handling. The microstructure of the porous alumina film is characterized for systems with different cooling rate around the melting temperature of camphor-camphene. The structure of the dendritic porosity is compared as a function of ratio of camphene-camphor solvent and acrylate content, and $Al_2O_3$ powder volume fraction in acrylate in terms of the dendrite arm width.

• 한국전기전자재료학회:학술대회논문집
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• 한국전기전자재료학회 2010년도 하계학술대회 논문집
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• pp.268-268
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• 2010

AC anodizing on aluminum foil was investigated by the variation of AC voltage and frequency. The voltage and frequency were applied in the range of approximately 40~200V, 0~400Hz. The porous alumina film was formed and the growth rate of oxide film is increased with frequency. The structural property was analyzed by SEM and XRD. SEM results show the approximate relation between frequency, voltage and growth rate. The AC voltage effect on the structural modulation of porous alumina indicates that AC anodizing is useful for the application to nanocapacitor material.

• 한국세라믹학회지
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• 제31권8호
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• pp.927-933
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• 1994

Alumina composite membranes were prepared by chemical vapor deposition (CVD) using aluminum-tri-isopropoxide as a precursor. Porous alumina supports were used in deposition, which were in disk shape with mean pore diameter of 0.1 ${\mu}{\textrm}{m}$ and prepared by slip-coasting process. film deposition morphology on porous support was simulated through depositing alumina film on polycrystalline silicon pattern, and its step coverage observed by SEM showed one deviated from uniform step coverage. N2 permeability through composite membranes and the pressure dependence decreased as the deposition time increased. Initially, the N2 permeability of the top layer was tend to decrease rapidly, and then the degree of decrease in N2 permeability was tend to diminish with deposition time. The N2 permeability increased with heat treatment temperature and the crack was generated in top layer at 100$0^{\circ}C$.

• 한국자기학회지
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• 제23권4호
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• pp.126-129
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• 2013

본 연구에서는 인산 용액 하에서 2차 양극 산화 기법에 의해 제작된 양극 산화 알루미나 막을 마스크로 이용하여 정렬된 니켈 나노점 구조를 제작하였다. $2{\mu}m$ 두께의 얇은 양극 산화 알루미나 막 표면에 평균 279 nm 크기의 기공구조를 형성하였으며 이를 얇은 니켈 박막의 열 증착 시 다공 구조 마스크로 이용하여 정렬된 니켈 나노점 구조를 제작하였다. 형성된 니켈 나노점의 크기는 평균 293 nm의 크기를 가지고 있으며 알루미나 막 표면상의 기공 구조의 형상을 따르고 있음을 볼 수 있었다. 제작된 나노점 구조의 자기적 특성을 상온에서 자기이력곡선의 측정을 통해 살펴보았으며 연속적인 니켈 박막과 비교하였을 때 고립된 나노점 구조로 인하여 자화용이축을 따라 각형비의 감소와 보자력의 증가가 나타남을 관찰할 수 있었다. 본 연구를 통해 양극 산화 막을 마스크로 이용한 박막 증착 과정을 통해 균일한 자기 나노점 구조를 제작할 수 있음을 확인할 수 있었다.