펄스형 방전플라즈마 발생장치인 플라스마 포커스장치에서 발생하는 가시광선영역의 빛을 시간적분 분석법으로 분광 분석하였다. 플라스마 포커스장치는 펄스방전에 의해 전기에너지를 빛에너지로 발생시킬 수 있는 장치이다. 분광분석기는 초점거리가 0.5 m인 모노크로메터를 사용하였다. 시간적분 분석법은 분광된 일정한 범위의 가시광선영역의 파장대를 필름에 현상하여 densitometer로 분석하는 방법이다. 가시광선 발생은 방전전압과 기체압력의 최적조건에서 발생되었는데 방전전압은 13kV이고 아르곤과 헬륨기체가 가시광선영역의 빛을 발생시키는데 사용되었다.
펄스형 방전플라스마장치에서 축방향 플라스마 curren sheath의 속력을 측정하였고, snowplow 모델과 비교하였다. Current sheath의 속력은 $10^6cm/s$로 측정되었다. 측정된 속력 중에서 가벼운 기체인 수소와 헬륨은 모델의 이론과 비슷한 결과가 나왔으나 무거운 기체인 아르곤은 이론과 조금 벗어났다. 그 이유는 current sheath의 불안정성 때문으로 추정된다.
목적: 불화규소 아크릴레이트 RGP 콘택트렌즈(Boston EO, Boston XO)를 공기 중에서 플라즈마로 처리하여 표면의 성분, 형상, 습윤성의 변화를 연구하였다. 방법: 성분과 결합구조는 X-선광전자분광분석기(XPS), 형상과 거칠기는 원자현미경(AFM)으로 관찰하였으며, 습윤성의 변화는 접촉각을 측정하여 평가하였다. 결과: 플라즈마 처리에 의해 표면에서 불소는 크게 감소하고, 산소와 실리콘은 증가하였다. 산소를 포함하는 친수성기(C-O, Si-O)가 증가하고, 소수성인 표면이 감소하였으며, 접촉각이 증가하였다. 그러나 불소의 치환으로 생성된 C-O는 습윤성을 증진하지 않았다. 결과: 플라즈마 처리한 다음 6개월이 지나면 표면조성에는 큰 변화가 없으나, 접촉각이 다시 증가하였다. 결론: 불소의 함량이 높은 RGP 콘택트렌즈의 플라즈마 처리에 의한 습윤성 증가는 활성화된 표면과 Si-O의 증가, 소수성 표면의 감소에 의한 것으로 판단된다.
지주파 PECVD 방법으로 아세틸렌 분암비를 달리하면서 제작한 비정질 탄소 박막에서의 분광 특성을 조사하였다. Raman 분광으로부터 D 피크와 G 피크의 상대적인 세기로부터 $sp^3/sp^2$은 수소함량에 대한 경향성을 알 수가 있었으며, FTIR 분광으로부터 계산된 수소함량은 16~37 atm %, $sp^3/sp^2$d,s 0.22~1.44로 변화하였다. 이와 같은 분광특성에 의하여 최적의 아세틸렌 분압비는~15%임을 알 수가 있었다.
Using ray-optics code incorporated with three-dimensional PDP cell simulation, we have analysed the energy flow in the PDP cell from the electric power input to the visible light output. Also, the visible light output profile and viewing angle distribution were obtained. We applied our code to the analysis of the barrier rib height effect on the visible light luminance and efficiency of the sustaining discharge. Although cells with higher barrier rib generate more VUV photons, less ratio of visible photons are emitted toward front panel due to the shadow effect. Thus, there exists optimal barrier rib height giving the highest visible luminance and efficiency. This kind of code can be a powerful tool in designing cell geometry.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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