PURPOSE. The purpose of this study was to evaluate cell toxicity due to ion release caused by galvanic corrosion as a result of contact between base metal and titanium. MATERIALS AND METHODS. It was hypothesized that Nickel (Ni)-Chromium (Cr) alloys with different compositions possess different corrosion resistances when contacted with titanium abutment, and therefore in this study, specimens ($10{\times}10{\times}1.5mm$) were fabricated using commercial pure titanium and 3 different types of Ni-Cr alloys (T3, Tilite, Bella bond plus) commonly used for metal ceramic restorations. The specimens were divided into 6 groups according to the composition of Ni-Cr alloy and contact with titanium. The experimental groups were in direct contact with titanium and the control groups were not. After the samples were immersed in the culture medium - Dulbecco's modified Eagle's medium[DMEM] for 48 hours, the released metal ions were detected using inductively coupled plasma mass spectrometer (ICP-MS) and analyzed by the Kruskal-Wallis and Mann-Whitney test (P<.05). Mouse L-929 fibroblast cells were used for cell toxicity evaluation. The cell toxicity of specimens was measured by the 3-{4,5-dimethylthiazol-2yl}-2,5-diphenyltetrazolium bromide (MTT) test. Results of MTT assay were statistically analyzed by the two-way ANOVA test (P<.05). Post-hoc multiple comparisons were conducted using Tukey's tests. RESULTS. The amount of metal ions released by galvanic corrosion due to contact between the base metal alloy and titanium was increased in all of the specimens. In the cytotoxicity test, the two-way ANOVA showed a significant effect of the alloy type and galvanic corrosion for cytotoxicity (P<.001). The relative cell growth rate (RGR) was decreased further on the groups in contact with titanium (P<.05). CONCLUSION. The release of metal ions was increased by galvanic corrosion due to contact between base metal and titanium, and it can cause adverse effects on the tissue around the implant by inducing cytotoxicity.
The purpose of this study was to investigate the dissolution components during corrosion of amalgams and to identify surface corrosion products in the modified Fusayama artificial saliva. Four type of amalgam alloys were used: low copper lathe cut amalgam alloy (Cavex 68), low copper spherical amalgam alloy (Caulk Spherical Alloy), high copper admixed amalgam alloy (Dispersalloy) and high copper single composition amalgam alloy (Tytin). Each amalgam alloy and Hg were triturated according to the manufacturer's direction by means of mechanical amalgamator (Capmaster, S.S.White), and then the triturated mass was inserted into the cylindrical metal mold which was 10mm in diameter and 2.0mm in height and condensed with compression of 150kg/$cm^2$ using oil pressor. The specimens were removed from the mold and stored at room temperature for 7 days and cleansed with distiled water for 30 minutes in an ultrasonic cleaner. The specimens were immersed in the modified Fusayama artificial saliva for the periods of 1 month, 3 months and 6 months. The amounts of Hg, Cu, Sn and Zn dissolved from each amalgam specimen immersed in the artificial saliva for the periods of 1 month, 3 months and 6 months were measured using Inductivity Coupled Plasma Atomic Emission Spectrometry (ICPQ-1000, Shimadzu, Japan) and amount of Ag dissolved from amalgam specimen was measured using Atomic Absorption Spectrophotometry (Atomic Absorption/Flame emission spectrophotometer M-670, Shimadzu, Japan). A surface corrosion products of specimens were analysed using Electron Spectroscopy Chemical Analyser (ESCA PHI-558, PERKIN ELMER, U.S.A.). The secondary image and back scattered image of corroded surface of specimens was observed under the SEM, and the corroded surface of specimens was analysed with the EDX. The following results were obtained. 1. The dissolution amount of Cu was the most in high copper admixed amalgam(Dispersalloy) and the least in high copper single composition amalgam(Tytin). 2. Sn and Zn were dissolved during all the experiment periods, and dissolution amounts were decreased as the time elapsed. 3. Initial surface corrosion products were ZnO and SnO. 4. Corrosion of ${\gamma}$ and ${\gamma}_2$ phase in low copper amalgams was observed and Ag-Cu eutectic alloy phase was corroded in low copper spherical amalgam(Caulk Sperical Alloy). 5. Corrosion of ${\gamma}$ and $\eta$' phase in high copper amalgams was observed and Ag-Cu eutectic alloy phase was corroded in high copper admixed amalgam(Dispersalloy). 6. Sn-Cl was produced in the subsurface of low copper amalgams and high copper admixed amalgam.
Nitride films such as TiN, CrN etc. deposited on glass by PVD processes have been developed for many industrial applications. These nitride films deposited on glass were widely used for not only decorative and optical coatings but also wear and corrosion resistance coatings employed as dies and molds made of glass for the example of lens forming molds. However, the major problem of nitride coatings on glass by PVD process is non-uniform film owing to pin-hole and micro crack. It is estimated that nonuniform coating is influenced by a different surface energy between metal nitrides and glass due to binding states. In this work, therefore, for the evaluation of nucleation and growth mechanism of nitride films on glass TiN and CrN film were synthesized on glass with various nitrogen partial pressure by unbalanced magnetron sputtering. Prior to deposition, for the examination of relationship between surface energy and film microstructure plasma pre-treatment process was carried out with various argon to hydrogen flow rate and substrate bias voltage, duty cycle and frequency by using pulsed DC power supply. Surface energy owing to the different plasma pre-treatment was calculated by the measurement of wetting angle and surface conditions of glass were investigated by X-ray Photoelectron Spectroscopy(XPS) and Atomic Force Microscope(AFM). The microstructure change of nitride films on glass with increase of film thickness were analyzed by X-Ray Diffraction(XRD) and Scanning Electron Microscopy(SEM).
마그네슘 합금은 낮은 밀도를 가지는 장점을 이용하여 자동차, 항공, 이동전화, 컴퓨터 등에 많이 쓰이고 있으나 기계적 강도가 낮고 내부식성이 좋지 않아 사용이 제한되었다. 마그네슘 합금 표면에 내식성 산화층을 형성하기 위하여 환경 친화적인 전해 플라즈마 산화법(PEO)을 연구에 사용하였다, PEO법은 수용약 중에서 플라즈마를 발생시켜 전기화학적 산화막을 형성시키는 방법이다. 인가전압과 전휴가 산화피마에 미치는 영향에 대하여 고찰하였다, 또한, 직류와 펄스전류를 사용하여 결과를 분석하였다. 펄스전류를 사용하고 정전류법을 사용한 경우에 치밀한 산화막을 얻을 수 있었다, 부식특성 분석을 위하여 양극산화분극방법을 이용하였다. 표면의 강도는 처리전의 AZ9ID에 비하여 5배 이상 증가하였다.
In recent years, multifunctional ternary nitride thin films have received extenstive attention due to its versatility in many applications. In particular, noble metal based ternary nitride thin films showed a promising properties in the application of Multifunctional heating resistor films because its good electrical properties and excellent resistance against oxidation and corrosion. In this study, we prepared multifunctional noble metal based ternary nitride thin films by atomic layer deposition (ALD) and plasma-enhanced ALD (PEALD) method. ALD and PEALD techniques were used due to their inherent merits such as a precise composition control and large area uniformity, which is very attractive for preparing multicomponent thin films on large area substrate. Here, we will demonstrate the design concept of multifunctional noble metal based ternary thin films. And, the relationship between microstructural evolution and electrical resistivity in noble metal based ternary thin films will be systemically presented. The useful properties of noble metal based ternary thin films including anti-corrosion and anti-oxidation will be discussed in terms of hybrid functionality.
Commercially pure titanium (Cp-Ti) and Ti alloys (typically Ti-6Al-4V) display excellent corrosion resistance and biocompatibility. Although the chemical composition and topography are considered important, the mechanical properties of the material and the loading conditions in the host have, conventionally. Ti and its alloys are not bioactive. Therefore, they do not chemically bond to the bone, whereas they physically bond with bone tissue. The electrochemical deposition process provides an effective surface for biocompatibility because large surface area can be served to cell proliferation. Plasma electrolyte oxidation (PEO) enables control in the chemical composition, porous structure, and thickness of the TiO2 layer on Ti surface. Silicon (Si) in particular has been found to be essential for normal bone and cartilage growth and development. Zinc (Zn) plays very important roles in bone formation and immune system regulation, and is also the most abundant trace element in bone. The objective of this work was to study on electrochemical behaviors of PEO-treated Ti-6Al-4V Alloy in solution containing Zn and Si ions. The morphology, the chemical composition, and the microstructure analysis of the sample were examined using FE-SEM, EDS, and XRD. The potentiodynamic polarization and AC impedance tests for corrosion behaviors were carried out in 0.9% NaCl solution at similar body temperature using a potentiostat. The promising results successfully demonstrated the immense potential of Si/Zn-TiO2 coatings in dental and biomaterials applications.
Various types of multilayer coatings including Al/$Al_2O_3$ structure have been prepared on Nd-Fe-B permanent magnet to modify the morphology of the coating and to enhance the corrosion resistance of the magnet. Magnetron sputtering has been employed to make the multilayer coatings. $Al_2O_3$sputtering conditions were optimized in reactive sputtering by varying the deposition parameters. The formation of $Al_2O_3$ film was confirmed from the binding energy shift measured by electron spectroscopy for chemical analysis. 3 types of coating structures were designed and prepared by magnetron sputtering. The coating structures consist of (1) single Al coating, (2) modified coatings having oxide or plasma treated layer in the middle of coating structure, and (3) Al/$Al_2O_3$ multilayer coatings. Surface and cross-sectional morphologies showed that Al/$Al_2O_3$ multilayer grew as a layered structure, and that very compact Zone 3 like structure were formed. X-ray diffraction peak showed that the crystal orientations of multilayer coatings were similar to that of the bulk powder pattern. Hardness increased drastically when the Al thickness was around 1im in the Al/$Al_2O_3$ multilayer. From the salt spray test and pressure cooker test, it has been shown that the multilayer coatings showed good corrosion resistance compared to Al single or modified layer coatings.
국내 원전에서 증기발생기 세정 후 발생되는 Fe-EDTA 함유 폐액 처리를 위한 초임계수 산화공정 (Supercritical Water Oxidation Process), 광촉매 산화 공정 (Photocatalyst Oxidation Process) 및 DBD 상온 플라즈마 공정 (Dielectric Barrier Discharge Atmospheric Pressure Plasma Process)이 평가되었다. 초임계수 산화 공정에 의해 99.98 %이상의 EDTA 전환율을 나타내어 EDTA 처리를 위한 효과적인 반응공정임을 확인하였으나 공정의 안정성, 부식 방지대책 등이 마련되어야 할 것으로 판단된다. 광촉매산화공정으로는 10 % 정도의 낮은 EDTA전환율을 보여 세정폐액 처리 공정으로는 부적합한 것으로 나타났다. DBD를 이용한 Methylene Blue 분해 결과 저 에너지 소비율로 높은 유기물 분해 효율을 얻을 수 있었으나 실 EDTA 공정에의 적용 및 공정 규모 확장 등에 대한 향후 연구 평가가 필요한 것으로 사료된다.
Engineering ceramics as sapphire are widely used in industry owing to their superior mechanical and corrosion properties. However, micromachining of sapphire is a considerable challenge due to its transparency. Recently, direct ablation of sapphire has been demonstrated with a visible laser pulse at sufficiently high laser intensity. In this work, the theoretical model for pulsed laser ablation of sapphire is suggested and numerical analysis is carried out using the model. Sapphire ablation begins with plasma generation by the laser interaction with surface defects, impurities and contaminations in the initial stage of machining. Subsequent absorption of the visible laser beam can be explained by three mechanisms: metalization of sapphire surface due to the EUV radiation from the hot plasma, increments of surface roughness and temperature-dependent absorption coefficient. Comparison of the computation results with experimental observation indicates that the proposed model of sapphire is reasonable.
Metallic glass alloys having dense packing structure have short range ordered structure with long range homogeneity. Therefore, they can provide complete corrosion protection and unique electrical properties. Recently, metallic glass thin films have received much attention to extend its application fields combining with PVC coating technologies. The metallic glass thin films can change the surface properties of the conventional bulk materials which need anticorrosion properties. However, multi-component alloying targets are required to fabricate the metallic glass thin films because metallic glass alloys contain more than three elements. Recently, many researchers have been reported the properties of the metallic glass thin films synthesized with multi-cathode systems or amorphous target. But, it is difficult to fabricate the large sized sputtering targets for mass production equipment with high toughness and thermal stability. In this study, newly developed sputtering target with glass forming ability and the properties of the metallic glass thin films will be introduced with respect to the various application fields such as bipolar plate in PEM fuel cell and decorative coatings for electric device and construction fields.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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