Etching characteristics of ArF and EUV resists in dual-frequency superimposed capacitively coupled $CF_4/O_2$ /Ar and $CF_4/CHF_3/O_2$ /Ar plasmas
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- 한국진공학회:학술대회논문집
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- 한국진공학회 2008년도 제35회 하계학술대회 초록집
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- pp.291-291
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- 2008