• 공업화학
• /
• 제10권8호
• /
• pp.1114-1118
• /
• 1999

플라즈마 디스플레이 패널(PDP)의 격벽(barrier rib)은 일정한 선폭과 높이를 가져 균일한 방전 공간을 제공하고, 인접한 셀 간의 전기적, 광학적 혼선(crosstalk)을 방지하기 위해 PDP의 하부 유리 기판 패널에 들어가는 구조물이다. 본 연구에서는 사진식각(photolithography)법으로 격벽을 형성하는데 필요한 감광성 격벽 페이스트가 제조되었다. 페이스트는 바인더 고분자인 에틸셀룰로오즈를 BC/BCA = 30/70 wt %인 혼합 용매에 15 wt %로 용해한 다음 관능성 단량체로서TPGDA/PETA = 50/50 wt % 혼합물, 광개시제로서 Irgacur 651 및 격벽 분말을 도입한 다음 전체를 균일하게 분산시켜 제조하였다. 감광성 격벽 페이스트의 각 성분, 조성 및 공정을 최적화하여 소성 후 높이 약 $100{\mu}m$ 에 이르는 PDP용 격벽을 고해상도로 사진식각법으로 얻을 수 있었다.

• 한국정보디스플레이학회:학술대회논문집
• /
• 한국정보디스플레이학회 2005년도 International Meeting on Information Displayvol.II
• /
• pp.823-827
• /
• 2005

Barrier ribs in the plasma display panel (PDP) function to maintain the discharge space between the glass plates as well as to prevent optical crosstalk. Patterning of barrier ribs is one of unique processes for making PDP. Barrier ribs could be formed by screen-printing, sand blasting, etching, and photolithographic process. In this work photosensitive barrier rib pastes were prepared by incorporating binder polymer, solvent, functional monomers photoinitiator, and barrier rib powder of which surface was treated with fumed silica particles. Studies on the function of materials for the barrier rib paste were undertaken. After optimization of paste formulation and photolithographic process, it was applied to the photosensitive barrier rib green sheet and was found that photolithographic patterning of barrier ribs could be formed with good resolution up to $110{\mu}m$ height and $60{\mu}m$ width after sintering.

• 공업화학
• /
• 제7권2호
• /
• pp.379-386
• /
• 1996

광 이량화 특성을 나타내는 1-methyl-4-[2-(4-diethylacetylphenyl)ethenyl] pridinium methosulfate(SbQ-A염)를 dimethyl sulfate, terephthalaldehyde mono-(diethyl acetal) 및 4-picoline을 이용하여 합성하였다. 합성된 SbQ-A염을 PVA와 반응시켜 동일(MW=77,000-79,000g/mol) 분자량을 가진 PVA내 SbQ의 함량이 다른 PVA-SbQ-H 시료 및 SbQ의 함량은 약 1.3mol%로 같으나 PVA의 분자량이 다른 PVA-SbQ-L들을 합성하였다. Gray scale(GS)법을 이용하여 측정된 PVA-SbQ 수용성 감광성 고분자의 상대감도는 PVA내 SbQ의 함량이 증가함에 따라 증가하였으며, PVA의 분자량이 낮아질수록 감소하였다. PVA-SbQ-H의 경우 SbQ 함량이 2.63mol%인 시료는 PVA에 ammonium dichromate가 혼합된 기존시료보다 90배 증가된 감도를 나타내었다. PVA-SbQ를 사용하여 형광체 슬러리를 제조하고 사진식각공정을 거쳐 형광체의 미세패턴을 형성하였다. 형광체 슬러리 제조시 양이온 계면활성제인 cetyltrimethyl ammonium chloride를 첨가제로 사용하면 형광면의 해상도가 증가됨을 알았다.

• 공업화학
• /
• 제21권4호
• /
• pp.411-416
• /
• 2010

본 연구에서는 알칼리 현상형 감광성 수지재료와 전도성 카본블랙을 이용하여 만들어진 감광성 폴리머 저항 페이스트를 이용하여 후막저항체의 허용편차(tolerance)를 개선하고자 하였다. 먼저 카본블랙과 감광성 수지의 선택이 폴리머 후막저항(polymer thick film resistor, PTFR)의 저항값의 범위와 허용편차의 수준에 미치는 영향을 조사하였다. 이후 테스트 기판상에 감광성 저항 페이스트를 도포하는 방법에 따른 저항값 허용편차의 차이를 평가하였다. 감광성 저항 페이스트를 스크린 인쇄를 이용하여 테스트 기판의 전면에 도포한 경우에는 테스트 기판상에서 균일한 두께의 후막을 형성하기 어렵기 때문에 위치에 따른 저항값의 허용편차가 크게 나타났다. 반면, 롤러를 이용하여 페이스트를 도포하였을 때, 전체 기판 면적에 균일한 두께의 저항체 후막을 형성할 수 있었으며, 저항값 평가 결과 ${\pm}10%$ 이내의 낮은 허용편차를 나타내었다. 포토공정을 이용한 정밀한 패터닝 공정과 롤러를 이용한 균일한 두께의 저항막 도포 공정을 결합함으로써 후막저항의 허용편차를 개선할 수 있었다.

• 공업화학
• /
• 제20권6호
• /
• pp.622-627
• /
• 2009

알칼리 수용액에 현상이 가능한 감광성 수지재료와 전도성 카본블랙 필러를 이용하여 포토 패터닝이 가능한 폴리머 후막 저항 페이스트를 제조하고 평가하였다. 감광성 수지로는 인쇄회로기판의 보호층으로 주로 사용되는 photo solder resist(PSR)를 사용하여 자외선에 의한 노광 및 알칼리 수용액에의 현상이 가능하게 하였다. 감광성 폴리머 저항 페이스트를 제작한 후, PCB 테스트 보드를 이용하여 후막저항체의 전기적 특성을 평가하였다. 카본블랙의 첨가량에 따라 시트저항은 감소하였으나, 과량 첨가시에는 현상성에 한계를 나타내었다. 재경화에 따라서 시트저항이 감소하였으며, 카본블랙의 첨가량이 많을수록 그 변화율은 작게 나타났다. 포토공정을 적용하여, 미세 패터닝된 meander형 후막저항체를 제조할 수 있었고, 이 방법을 통하여 적은 면적에도 시트저항의 수십 배에 달하는 큰 저항값을 구현할 수 있었다.

• 한국정보디스플레이학회:학술대회논문집
• /
• 한국정보디스플레이학회 2007년도 7th International Meeting on Information Display 제7권1호
• /
• pp.893-896
• /
• 2007

A series of new photosensitive polyimides having long alkoxy cinnamate chains were synthesized for liquid crystal (LC) photoalignment material. The polymer after irradiating linearly polarized UV light induced homogeneous and stable LC alignment. The chemical structure of the polymeric material was characterized and their photochemical LC alignment behavior was evaluated.

• 한국정보디스플레이학회:학술대회논문집
• /
• 한국정보디스플레이학회 2005년도 International Meeting on Information Displayvol.II
• /
• pp.1225-1228
• /
• 2005

Barrier ribs in the plasma display panel(PDP) function to maintain the discharge space between the glass plates as well as to prevent optical crosstalk. Patterning of barrier ribs is one of unique processes for making PDP. In this work photosensitive barrier rib pastes were prepared by incorporating binder polymer, solvent, functional monomers photoinitiator, and barrier rib powder of which surface was treated with fumed silica particles. Study on the function of materials for the barrier rib paste were undertaken. After optimization of paste formulation and photolithographic process, it was found that photolithographic patterning of barrier ribs with photosensitive barrier rib green sheet could be used in the fabrication of high resolution PDP.

• 한국정보디스플레이학회:학술대회논문집
• /
• 한국정보디스플레이학회 2000년도 제1회 학술대회 논문집
• /
• pp.41-42
• /
• 2000

Photosensitive polyimides containing cinnamoyl and coumarin side groups were synthesized in a high molecular weight, giving a good quality of films. Nematic liquid-crystal (LC) molecules on the film were aligned along the direction with an angle of $97-99^{\circ}$ respect to the polarization of ultraviolet (UV) light. The LC alignment was induced mainly by the photoaligned polymer chains made by the first UV-exposure even though the film was treated by multiple exposures with changing the polarization of UV light. From these results, it is concluded that the LC alignment on the film is induced by the photodimerization rather than the trans-cis photoisomerization.

• 폴리머
• /
• 제24권3호
• /
• pp.407-417
• /
• 2000

고분자 주쇄에 cyclobutane 또는 페닐과 방향족 술포닐옥시이미드 구조를 갖는 감광성 폴리이미드를 합성하여 광분해 특성에 있어서 고분자의 구조가 미치는 영향을 조사하였다. 폴리이미드는 N-히드록시와 염화 술포닐의 축중합에 의해 제조하였다. 합성된 폴리이미드는 25$0^{\circ}C$까지 열분해가 일어나지 않고 안정하였다. 254nm의 광조사에 따른 폴리이미드의 광분해는 분광학적 측정에 의해 N-O 결합의 절단 또는 이미드 moiety의 계열에 기인되는 것을 알 수 있었다. 본 연구의 폴리이미드는 포지티브형의 광분해성 고분자로의 활용이 가능한 것이 확인되었으며, 특히 pyromellitic diimide moiety를 함유하는 폴리이미드의 포지티브 화상은 높은 감도와 해상도를 나타내었다.

• 한국인쇄학회지
• /
• 제11권1호
• /
• pp.71-84
• /
• 1993

Practically to put use high-photosensitive polymer, poly(vinyl cinnamoyl acetate), we investigated and confirmed UCHIDA`s synthesis, according to control solvent, which is the esterification of poly (vinyl alcohol) with monochloroacetic acid and can be freely conrolled the successive cinnamoyl acetoxyl esterfication of PVCiA, and intruducing photosensitizers,studied the photosensitivity of PVCiA.