• 제목/요약/키워드: Photosensitive Paste

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감광성 폴리머 저항 페이스트를 이용한 Low Tolerance 후막 저항체 (Thick Film Resistors with Low Tolerance Using Photosensitive Polymer Resistor Paste)

  • 김동국;박성대;이규복;경진범
    • 공업화학
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    • 제21권4호
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    • pp.411-416
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    • 2010
  • 본 연구에서는 알칼리 현상형 감광성 수지재료와 전도성 카본블랙을 이용하여 만들어진 감광성 폴리머 저항 페이스트를 이용하여 후막저항체의 허용편차(tolerance)를 개선하고자 하였다. 먼저 카본블랙과 감광성 수지의 선택이 폴리머 후막저항(polymer thick film resistor, PTFR)의 저항값의 범위와 허용편차의 수준에 미치는 영향을 조사하였다. 이후 테스트 기판상에 감광성 저항 페이스트를 도포하는 방법에 따른 저항값 허용편차의 차이를 평가하였다. 감광성 저항 페이스트를 스크린 인쇄를 이용하여 테스트 기판의 전면에 도포한 경우에는 테스트 기판상에서 균일한 두께의 후막을 형성하기 어렵기 때문에 위치에 따른 저항값의 허용편차가 크게 나타났다. 반면, 롤러를 이용하여 페이스트를 도포하였을 때, 전체 기판 면적에 균일한 두께의 저항체 후막을 형성할 수 있었으며, 저항값 평가 결과 ${\pm}10%$ 이내의 낮은 허용편차를 나타내었다. 포토공정을 이용한 정밀한 패터닝 공정과 롤러를 이용한 균일한 두께의 저항막 도포 공정을 결합함으로써 후막저항의 허용편차를 개선할 수 있었다.

Field Emission Characteristics of Dot-patterned Photosensitive CNT paste

  • Kim, Jin-Hee;Lee, Han-Sung;Jeon, Ji-Hyeon;Goak, Jeung-Choon;Lee, Nae-Sung
    • 한국정보디스플레이학회:학술대회논문집
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    • 한국정보디스플레이학회 2007년도 7th International Meeting on Information Display 제7권1호
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    • pp.786-789
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    • 2007
  • Fabrication of dot-patterned carbon nanotube (CNT) emitters with excellent field emission properties using photo-sensitive CNT paste is described. The photosensitive CNT paste showed good photopatternability, which led us to easily form $10-{\mu}m-diameter$ dot arrays. We presented a parametric study on formulating the photo-sensitive paste and their resultant field emission characteristics.

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Photosensitive Electrode Paste Formulation and Its Effect on Photolithographic Process

  • Park, Lee-Soon;Im, Moo-Sik;Park, Jin-Woo;Kim, Hong-Tak;Ryu, Jae-Hwa;Park, Seung-Tae
    • 한국정보디스플레이학회:학술대회논문집
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    • 한국정보디스플레이학회 2003년도 International Meeting on Information Display
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    • pp.381-384
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    • 2003
  • Photosensitive electordes(Ag and Black) are widely used in the patterning of both address and bus electrodes on the rear and front panel of plasma display panel (PDP). As the need for high resolution(>XGA) and large area(>60 inches) PDP is increased, basic understanding of each component of formulation on the photolithographic process of patterning electrodes are required in order to increase the yield in the production of PDP. In this work, the materials and amount of necessary components of photosensitive electrode paste and their effect on the photolithographic process of patterning electrodes were studied.

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Photosensitive Barrier Rib Paste and Materials and Process

  • Park, Lee-Soon;Kim, Soon-Hak;Jang, Dong-Gyu;Kim, Duck-Gon;Hur, Young-June;Tawfik, Ayman
    • 한국정보디스플레이학회:학술대회논문집
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    • 한국정보디스플레이학회 2005년도 International Meeting on Information Displayvol.II
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    • pp.823-827
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    • 2005
  • Barrier ribs in the plasma display panel (PDP) function to maintain the discharge space between the glass plates as well as to prevent optical crosstalk. Patterning of barrier ribs is one of unique processes for making PDP. Barrier ribs could be formed by screen-printing, sand blasting, etching, and photolithographic process. In this work photosensitive barrier rib pastes were prepared by incorporating binder polymer, solvent, functional monomers photoinitiator, and barrier rib powder of which surface was treated with fumed silica particles. Studies on the function of materials for the barrier rib paste were undertaken. After optimization of paste formulation and photolithographic process, it was applied to the photosensitive barrier rib green sheet and was found that photolithographic patterning of barrier ribs could be formed with good resolution up to $110{\mu}m$ height and $60{\mu}m$ width after sintering.

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Field Emission properties of photosensitive carbon nanotube paste with different inorganic binders

  • Park, Jae-Hong;Moon, Jin-San;Jeong, Jin-Soo;Yoo, Ji-Beom;Park, Chong-Yun;Nam, Joong- Woo;Park, Jong-Hwan;Choe, Deok-Hyeon
    • 한국정보디스플레이학회:학술대회논문집
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    • 한국정보디스플레이학회 2005년도 International Meeting on Information Displayvol.II
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    • pp.1451-1454
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    • 2005
  • We report effects of inorganic binder on the emission properties of CNT paste for low cost and high low-cost and large area field emission devices or displays. Two types of photosensitive carbon nanotube (CNT) paste were formulated by using of glass frit and spin on glass (SOG) as an inorganic binder and investigated their emission properties according to inorganic binders and firing conditions.

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LTCC 내장형 미세 라인 인덕터 구현을 위한 감광성 Ag Paste 조성에 관한 연구 (Study on the Compositions of Photosensitive Ag Paste for Patterning Embedded Fine-Line Inductor in LTCC)

  • 이상명;박성대;유명재;이우성;강남기;남산
    • 한국세라믹학회지
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    • 제44권3호
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    • pp.157-161
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    • 2007
  • Line width under $100\;{\mu}m$ with good resolution is difficult to achieve using conventional thick-film process utilizing screen printing method. However combined with lithography technology finer line and space for miniaturization and highly integrated package is achievable. In this study, photosensitive Ag paste of optimum formulation used for thick film lithography technology was fabricated by various Ag powder, glass powder and additives. As the result, line width of $30\;{\mu}m$ with good definition and reduced mismatch during co-firing with LTCC substrate was acquired. Formulated Ag paste was used to pattern embedded fine line inductor with over 90% yield.

에폭시 아크릴레이트를 이용한 감광성 폴리머 저항 페이스트 조성 (Compositions for Photosensitive Polymer Resistor Paste Using Epoxy Acrylates)

  • 김동국;박성대;이규복;경진범
    • 공업화학
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    • 제23권2호
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    • pp.157-163
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    • 2012
  • 6종의 에폭시 아크릴레이트와 전도성 카본블랙을 이용하여 감광성 저항 페이스트를 제작하고, 그들의 알칼리 수용액에 대한 현상성과 열경화 후 저항값을 평가하였다. 자외선에 의한 광경화성 및 알칼리 용액에 대한 현상성을 부여하기 위해서 카르복시기를 가진 에폭시 아크릴레이트 올리고머, 아크릴레이트 모노머, 광개시제 등이 사용되었다. 또한 열경화성 조성물을 얻기 위하여 유기 과산화물을 페이스트에 첨가하였다. 실험 결과, 올리고머의 종류에 따라서 일부 페이스트들은 현상이 되지 않았으며, 현상된 페이스트 중, 측정된 저항값은 동일한 카본블랙 함량에서도 페이스트 조성에 따라 다른 값들을 나타내었다. 최종적으로 최적의 올리고머를 선정하고, 카본블랙의 함량과 모노머의 종류, 경화 온도를 조절함으로써 약 0.5 $k{\Omega}/sq.$의 면저항을 나타내는 감광성 저항 페이스트 조성물을 얻을 수 있었다.

저온동시소성용 감광성 은(Ag)페이스트의 광식각 특성 (Photolithographic Properties of Photosensitive Ag Paste for Low Temperature Cofiring)

  • Park, Seong-Dae;Kang, Na-Min;Lim, Jin-Kyu;Kim, Dong-Kook;Kang, Nam-Kee;Park, Jong-Chul
    • 한국세라믹학회지
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    • 제41권4호
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    • pp.313-322
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    • 2004
  • 후막 광식각 기술은 스크린 인쇄 등의 일반적인 후막공정에 노광 및 현상 등의 리소그라피 공정을 접목시킨 새로운 기술이다. 본 연구에서는 후막 광식각 기술을 이용하여 미세라인을 형성할 수 있는 저온동시소성용 Ag 페이스트를 개발하였다. 페이스트를 구성하는 Ag분말과 폴리머, 모노머, 광개시제 등의 양을 조절하여 미세라인을 형성할 수 있는 최적 조성을 연구하였으며. 또한 노광량과 같은 공정변수가 미세라인 형성에 미치는 영향을 연구하였다. 실험결과 폴리머/모노머비, Ag 분말 중량비, 광개시제의 양 등이 미세라인의 해상도에 영향을 미치는 주요 인자임을 확인할 수 있었다. 개발된 감광성 Ag 페이스트를 저온동시소성용 그린 시트에 전면 인쇄한 후 건조, 노광, 현상, 적층, 소성 과정을 통하여, 소성 후 20$\mu\textrm{m}$ 이하의 선폭을 가지는 후막 미세라인을 형성할 수 있었다.

Photolithographic Method of Patterning Barrier Ribs for PDP by Green Sheet

  • Park, Lee-Soon;Jang, Dong-Gyu;Hur, Young-June;Lee, Sung-Ho;Kim, Duck-Gon;Kwon, Young-Hwan
    • 한국정보디스플레이학회:학술대회논문집
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    • 한국정보디스플레이학회 2005년도 International Meeting on Information Displayvol.II
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    • pp.1225-1228
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    • 2005
  • Barrier ribs in the plasma display panel(PDP) function to maintain the discharge space between the glass plates as well as to prevent optical crosstalk. Patterning of barrier ribs is one of unique processes for making PDP. In this work photosensitive barrier rib pastes were prepared by incorporating binder polymer, solvent, functional monomers photoinitiator, and barrier rib powder of which surface was treated with fumed silica particles. Study on the function of materials for the barrier rib paste were undertaken. After optimization of paste formulation and photolithographic process, it was found that photolithographic patterning of barrier ribs with photosensitive barrier rib green sheet could be used in the fabrication of high resolution PDP.

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