• 한국전기전자재료학회:학술대회논문집
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• 한국전기전자재료학회 2004년도 춘계학술대회 논문집 디스플레이 광소자분야
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• pp.106-108
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• 2004

We have investigated the photolithographic patterning method of light emitting polymer film for polymer light emitting diodes (PLED). Blue light emitting polymers based on polyfluorene, which can be cured photochemically to yield an insoluble form, have been synthesized using Ni(0) mediated Yamamoto polymerization. The relationship between patterning property and several variables such as the intensity of the exposed UV light, the concentrations of additives, has been studied by using optical microscope analysis, UV/visible spectroscopy, and photoluminescence. We have successfully fabricated PLEDs composed of the patterned emissive layer and their electroluminescence property has been also investigated. In this presentation, the detailed photolithographic patterning method and its application for polymer light emitting display will be discussed.

• 공업화학
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• 제9권1호
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• pp.6-12
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• 1998

감광성 고분자를 감지막 재료로 한 FET(Field Effect Transistor)형 $CO_2$센서를 사진식각법으로 제작하였다. 즉, 바탕소자인 pH-ISFET gate 위에 먼저 Ag/AgCl 기준전극을 형성한 후, 수화젤(hydrogel)막 및 기체투과막의 순서로 감지막을 사진식각법으로 형성하였다. 광가교형 감광성 고분자 polyvinyl alcohol 또는 poly(vinyl pyrrolidinone-co-vinyl acetate)를 감지막의 재료로 할 경우에는 사진식각법으로 용매를 포함하는 일정두께의 수화젤막을 형성하는 것이 어려운 것으로 판단되었다. 광중합 감광성 고분자로서 2-hydroxy methacrylate, acrylamide 단량체를 수화젤막 재료로, polyurethane acrylate oligomer를 기체투과막의 재료로써 사용할 경우 사진식각법으로 용이하게 막의 형성이 가능하였고, 제조된 FET형 $CO_2$ sensor는 $CO_2$농도 $10^{-3}{\sim}10^0mole/{\ell}$에서 좋은 직선성을 나타내었다.

• 한국정보디스플레이학회:학술대회논문집
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• 한국정보디스플레이학회 2008년도 International Meeting on Information Display
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• pp.369-372
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• 2008

Black matrix and Ag electrode with uniform line pitches were successfully fabricated through the photolithographic process by using the photosensitive black pastes and Ag pastes with optimized photosensitive properties for high resolution PDPs. The photosensitivity of the black and Ag pastes in the photolithographic process was investigated with the variation of photosensitive BM and Ag pastes and the photolithography process conditions. The important components and formulation of the photosensitive BM and Ag paste we discussed.

• 한국정보디스플레이학회:학술대회논문집
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• 한국정보디스플레이학회 2005년도 International Meeting on Information Displayvol.II
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• pp.1225-1228
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• 2005

Barrier ribs in the plasma display panel(PDP) function to maintain the discharge space between the glass plates as well as to prevent optical crosstalk. Patterning of barrier ribs is one of unique processes for making PDP. In this work photosensitive barrier rib pastes were prepared by incorporating binder polymer, solvent, functional monomers photoinitiator, and barrier rib powder of which surface was treated with fumed silica particles. Study on the function of materials for the barrier rib paste were undertaken. After optimization of paste formulation and photolithographic process, it was found that photolithographic patterning of barrier ribs with photosensitive barrier rib green sheet could be used in the fabrication of high resolution PDP.

• 한국정보디스플레이학회:학술대회논문집
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• 한국정보디스플레이학회 2003년도 International Meeting on Information Display
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• pp.381-384
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• 2003

Photosensitive electordes(Ag and Black) are widely used in the patterning of both address and bus electrodes on the rear and front panel of plasma display panel (PDP). As the need for high resolution(>XGA) and large area(>60 inches) PDP is increased, basic understanding of each component of formulation on the photolithographic process of patterning electrodes are required in order to increase the yield in the production of PDP. In this work, the materials and amount of necessary components of photosensitive electrode paste and their effect on the photolithographic process of patterning electrodes were studied.

• 한국정보디스플레이학회:학술대회논문집
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• 한국정보디스플레이학회 2000년도 제1회 학술대회 논문집
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• pp.177-179
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• 2000

Barrier rib for the plasma display panel (PDP) was made by photolithographic process utilizing photosensitive barrier rib paste. The barrier rib paste was prepared by first dissolving poly(MMA-co-MAA) binder polymer in butyl carbitol(BC) solvent at 15 wt% concentration. To this solution were added a mixture of functional monomers , Irgacure 651 photoinitiator, and barrier rib power and then the whole mixture was dispersed in the three roll mill for 2 hour. The effect of component and concentration of photosensitive barrier rib paste was studied. After optimization of the paste formulation and photolithographic process, barrier rib could be obtained with good resolution up to 110-120 ${\mu}m$ height and 80-90 ${\mu}m$ width.

• 한국섬유공학회:학술대회논문집
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• 한국섬유공학회 2001년도 가을 학술발표회 논문집
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• pp.338-340
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• 2001

최근에 일반적인 고분자 재료의 특성을 보유하며 본질적으로 전기전도성을 띠는 고분자 재료들이 발견되어 이러한 고분자 재료의 응용에 대한 연구가 광범위하게 수행되어 왔으며, 특히 전기전자 산업의 급속한 발전으로 그 중요성이 더욱 커지고 있다. 그 중에서도 본질적 전기전도성 고분자인 폴리피롤 (PPy)은 합성이 쉽고 전기전도도와 안정성이 우수하며, 좋은 기계적 특성과 전기적 안정성 그리고 광학특성을 가지고 있어서 여러 응용분야에서 연구가 진행되어 왔다[1,2]. (중략)

• 센서학회지
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• 제5권1호
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• pp.15-22
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• 1996

감광성 고분자를 감지막 재료로 한 FET형 $Ca^{2+}$ sensor(Ca-ISFET)를 micropool법 및 사진식각법으로 제조하였다. 반도체 공정에 쓰이는 negative photoresist인 OMR-83을 감지막 재료로 사용한 경우, micropool법에 있어서는 가소제인 DOA를 포함하므로 좋은 감응 특성을 나타내었으나, 사진식각법에 있어서는 가소제를 사용할 수 없어 부적합하였다. Poly(vinyl butyral)을 감지막 재료로 하고, 사진식각법으로 제조된 Ca-ISFET는 $Ca^{2+}$ 농도 $10^{-4}{\sim}10^{-1}\;mole/{\ell}$ 범위에서 좋은 직선성을 나타내었으며, 감응기울기는 $23{\pm}0.2\;mV/decade$였다. 감지막 재료로서 PVB는 바탕소자인 pH-ISFET wafer 위에 adhesion promoter 용액의 전처리를 하지 않아도 양호한 부착력을 나타내었으며, 가소제 이행의 문제가 없어서 막의 안정성이 좋은 특성이 있었다.

• 공업화학
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• 제10권8호
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• pp.1114-1118
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• 1999

플라즈마 디스플레이 패널(PDP)의 격벽(barrier rib)은 일정한 선폭과 높이를 가져 균일한 방전 공간을 제공하고, 인접한 셀 간의 전기적, 광학적 혼선(crosstalk)을 방지하기 위해 PDP의 하부 유리 기판 패널에 들어가는 구조물이다. 본 연구에서는 사진식각(photolithography)법으로 격벽을 형성하는데 필요한 감광성 격벽 페이스트가 제조되었다. 페이스트는 바인더 고분자인 에틸셀룰로오즈를 BC/BCA = 30/70 wt %인 혼합 용매에 15 wt %로 용해한 다음 관능성 단량체로서TPGDA/PETA = 50/50 wt % 혼합물, 광개시제로서 Irgacur 651 및 격벽 분말을 도입한 다음 전체를 균일하게 분산시켜 제조하였다. 감광성 격벽 페이스트의 각 성분, 조성 및 공정을 최적화하여 소성 후 높이 약 $100{\mu}m$ 에 이르는 PDP용 격벽을 고해상도로 사진식각법으로 얻을 수 있었다.

• 한국정보디스플레이학회:학술대회논문집
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• 한국정보디스플레이학회 2004년도 Asia Display / IMID 04
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• pp.592-594
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• 2004

We have investigated the photolithographic patterning method of light emitting polymer film for polymer light emitting diodes (PLEDs). Blue light emitting polymers based on polyfluorene, which can be cured photochemically to yield an insoluble form, have been synthesized using Ni(0) mediated Yamamoto polymerization. The relationship between patterning property and several variables such as the intensity of the exposed UV light, the concentrations of additives, has been studied by using optical microscope analysis, UV/visible spectroscopy, and photoluminescence. We have successfully fabricated PLEDs composed of the patterned emissive layer and their electroluminescence property has been also investigated. In this presentation, the detailed photolithographic patterning method and its application for polymer light emitting display will be discussed.