• 한국식품위생안전성학회지
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• 제22권2호
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• pp.88-92
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• 2007

식품용 종이포장재 등에 사용될 수 있는 UV 잉크 인쇄방식에는 광개시제를 이용한 경화방식 또는 전자빔을 이용한 경화방식이 주로 사용된다. 최근 유럽에서 종이팩 포장재의 광개시제로 사용될 수 있는 Isopropylthioxanthone (ITX)에 대한 검출사례가 보고 된 바 있으나, 국내에서는 종이팩 포장재 중 ITX에 대한 모니터링연구가 전무한 상태이므로 제외국 연구동향에 신속히 대응할 수 있는 ITX 분석방법을 확립하고, 확립된 분석방법을 적용하여 국내 유통 종이팩으로 포장된 식품 중 ITX 잔류량에 관한 모니터링을 실시하였다. HPLC/FLD를 이용한 ITX의 분석방법을 확립하였으며, 이때 확립된 분석방법에 대한 상대표준편차 1.09% 이내의 재현성, 상관계수 0.9991 이상의 직선성, 검출한계 0.02 ppb 및 정량한계는 0.1 ppb였다. 또한, 확립된 분석방법을 적용하여 국내 유통 중인 우유, 주스 등 종이팩으로 포장된 제품 87종을 대상으로 ITX 잔류량을 모니터링 한 결과, 모든 식품에서 ITX는 검출되지 않았다.

• Restorative Dentistry and Endodontics
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• 제36권4호
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• pp.313-323
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• 2011

연구목적: 여러 가지 문제점을 가지고 있는 기존의 중합개시제인 CQ와 새로운 개시제인 p-octyloxy-phenyl-phenyl iodonium hexafluoroantimonate (OPPI), 중합촉진제인 지방족 아민(DMAEMA)을 포함한 3종 중합개시시스템을 함유한 레진 모노머의 중합전환률을 증진시키기 위한 각각의 조성 비율을 알아보고 중합개시제와 중합촉진제의 비율에 따른 영향을 분석하고자 하였다. 연구 재료 및 방법: BisGMA/BisEMA/TEGDMA 조성의 레진 모노머를 제조한 다음 다양한 농도 조합의 CQ, OPPI, DMAEMA를 혼합하였다. 각각의 물질을 0.2 wt.% (저농도, L), 1.0 wt.% (중간농도, M), 2.0 wt.% (고농도, H)의 3가지 농도로 혼합하였으며, 그 농도 비율에 따라 9개의 실험군으로 제작하였다: LLL, LMM, LHH, MLM, MMH, MHL, HLH, HML, HHM (CQ-OPPI-DMAEMA의 농도) 중합 시스템이 함유된 각각의 레진 모노머를 NaCl disk에 압착한 다음 Demetron 400 광중합기를 이용하여 5초, 20초, 40초, 60초, 300초 동안 광중합 하였으며, FTIR로 전환률(Degree of Conversion, DC)을 측정하였다. 조성비율은 ANOVA와 Duncan 사후검정법을 이용하였으며 중합개시제와 중합촉진제의 비율이 같은 실험군들의 상호비교에는 T-검정도 시행하였다. 결과: 중합개시시스템을 이루는 조성들의 농도 조합에 따라 중합전환률의 차이를 보였으며, MMH 군과 HHM 군이 높은 초기 중합전환률을 보였다. 중합개시제(CQ, OPPI)와 중합촉진제인 DMAEMA의 비율에 따른 중합전환률의 차이를 보이지 않았으며, CQ의 농도는 전환률에 영향을 주지 않은 반면, OPPI의 농도는 전환률에 영향을 미쳤다. 결론: 중합전환률이 높으며 밝은 색상이 필요한 경우에는 MMH 조합을, 짙거나 불투명한 경우에는 MMH 조합이 추천된다.

• 공업화학
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• 제34권4호
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• pp.444-449
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• 2023

전자 기기의 소형화, 집적화 및 박형화에 따라 인쇄회로기판 제조 시 미세한 회로 패턴이 요구되고 있다. 기존의 인쇄회로기판은 dry film resist를 이용한 photolithography 법을 적용하여 주로 제조하지만, 미세 회로 패턴 구현을 위해서는 정밀한 마스크 설계 및 고가의 노광장비 등이 필요하다는 한계점이 있다. 이에 따라서 최근에는 dry film resist를 대체하여 미세 회로 패턴 형성에 유리한 광경화형 잉크를 직접인쇄 공정을 통해 인쇄회로기판의 회로 패턴을 형성하는 연구들이 관심받고 있다. 광경화형 잉크를 통한 회로 패턴 형성을 위해서는 동박과의 밀착성, 패턴 형성 과정에서의 에칭 저항성, 박리 특성의 제어가 필수적이다. 본 연구에서는 광개시제 종류 및 함량이 다른 여러 광경화형 잉크를 제조하고 이들의 광경화 거동을 분석하였다. 또한, 광경화형 에칭 레지스트 잉크로의 적용성 평가를 위해 에칭 저항성, 박리성, 밀착성 등을 분석하였다.

• 한국정보디스플레이학회:학술대회논문집
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• 한국정보디스플레이학회 2008년도 International Meeting on Information Display
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• pp.816-819
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• 2008

A negative photoresist formulation was developed utilizing synthesized UV monomers containing imide linkage, photoinitiator, UV oligomer, and alkali developable polymer matrix. It was found that via-holes with good resolution, high transmittance and thermal resistance could be obtained by photolithographic process utilizing the negative-type photoresist formulations.

• 한국염색가공학회:학술대회논문집
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• 한국염색가공학회 2009년도 제41차 학술발표회
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• pp.15-16
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• 2009

Poly(vinyl alcohol) was crosslinked by UV irradiation in the presence of water soluble photoinitiators. The crosslinking of PVA films with 1,2,3,4-Butanetetracarboxylic acid(BTCA) and sodium phosphinate monohydrate(SPM) was also achieved via thermal curing. Different factors in the crosslinking including thermal and radiation methods were studied. Gel fraction of PVA films increased with increasing photoinitiator concentration. The maximum gel fraction on the crosslinking method was reached about 81%. The glass transition and maximum decomposition temperature improved by both thermal and radiation crosslinking.

• Bulletin of the Korean Chemical Society
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• 제22권11호
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• pp.1207-1212
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• 2001

A new photochemically bifunctional epoxy and dimethacrylate compounds were synthesized for investigating the photosensitivity under UV irradiation. Photosensitivity of the synthesized chalcone-based compounds was investigated by using UV-visible absorption and Fourier transformed infrared (FT-IR) spectroscopies. The result of spectroscopic analysis substantiated that the two chalcone-based compounds have functions of both photocrosslinking and photopolymerization by UV exposure in the presence of photoinitiator. Two kinds of photochemical reactions proceeded competitively during UV exposure. Particularly, we studied the effect of photopolymerization on the rate of photocrosslink due to cycloaddition in the two oligomeric compounds.

• 한국기계가공학회지
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• 제19권6호
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• pp.88-95
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• 2020

Currently, Fiber-Reinforced Plastic (FRP) composite materials are used in many industrial fields, owing to their superior stiffness and specific strength compared to metals. However, there are issues with FRP inefficiency, due to low productivity of such materials, environmental problems they pose and long curing times needed. Trying to address these issues, research was conducted towards the development of a FRP composite material with excellent properties and short production time, introducing a curing method using a UV lamp. Four types of composite materials were prepared, cured with catalyst or UV (CZ: Catalyst + ZNT 6345, CR: Catalyst + RF 1001 MV, UVZ: Photoinitiator + ZNT 6345, and UVR: Photoinitiator + RF 1001 MV). Examination of the chemical and mechanical properties of these composites showed that UV-cured materials performed better than the catalyst-cured ones. These results indicate that the production process of FRP composite materials can be simplified by using a UV lamp for curing, resulting in composite materials with the same quality, but reduced production time by about 70% compared to currently used practices. This advancement will contribute greatly to the composite material industry.

• 한국세라믹학회지
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• 제41권4호
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• pp.313-322
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• 2004

후막 광식각 기술은 스크린 인쇄 등의 일반적인 후막공정에 노광 및 현상 등의 리소그라피 공정을 접목시킨 새로운 기술이다. 본 연구에서는 후막 광식각 기술을 이용하여 미세라인을 형성할 수 있는 저온동시소성용 Ag 페이스트를 개발하였다. 페이스트를 구성하는 Ag분말과 폴리머, 모노머, 광개시제 등의 양을 조절하여 미세라인을 형성할 수 있는 최적 조성을 연구하였으며. 또한 노광량과 같은 공정변수가 미세라인 형성에 미치는 영향을 연구하였다. 실험결과 폴리머/모노머비, Ag 분말 중량비, 광개시제의 양 등이 미세라인의 해상도에 영향을 미치는 주요 인자임을 확인할 수 있었다. 개발된 감광성 Ag 페이스트를 저온동시소성용 그린 시트에 전면 인쇄한 후 건조, 노광, 현상, 적층, 소성 과정을 통하여, 소성 후 20$\mu\textrm{m}$ 이하의 선폭을 가지는 후막 미세라인을 형성할 수 있었다.

• 폴리머
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• 제28권6호
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• pp.494-501
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• 2004

시클로부탄-1,2,3,4-테트라카복실산 이무수물, 2-(메타크릴로일옥시)에틸-3,5-디아미노벤조에이트 및 1,3-비스(3-아미노프로필)-1,1,3,3-테트라메틸디실록산을 N-메틸-2-피롤리돈 하에서 용액 중합 반응시켜 알칼리 수용액에서 현상이 가능할 뿐만 아니라 가시광선 영역에서 우수한 광투과성을 보이는 신규 감광성 폴리이미드 전구체인 폴리암산 (PAA-0)을 제조하였다. 광개시제의 존재 하에서 노광 후 열경화된 폴리이미드 박막은 2.38 wt%의 테트라메틸암모니움 히드록사이드 수용액에 용해되지 않는 특성을 보였으며, 이를 이용하여 광에 의한 미세 화상 형성 연구를 수행하였다. 폴리이미드 전구체 박막의 광반응에 적합한 광개시제는 2, 2-디메톡시-2-페닐아세토페논임을 알 수 있었고, 최적 광량은 400∼600 mJ/$\textrm{cm}^2$의 범위에 있음이 확인되었다. 감광성 폴리이미드 전구체는 25$0^{\circ}C$의 온도에서 50분간 열경화시킴으로써 투명한 폴리이미드 박막으로 전환이 되었으며, 유기용제를 비롯한 포토레지스트 제거제에 대한 우수한 내용제성 및 가시광선영역에서의 우수한 광투과 특성을 나타내었다.

• Elastomers and Composites
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• 제49권3호
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• pp.210-219
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• 2014

본 연구에서는 아크릴계 점착제를 합성한 후 이소프렌 액상고무를 블렌드하여 광기능성 시트에 적용될 점착제를 제조하였다. 아크릴 점착제의 모노머로는 butyl acrylate, acrylic acid, 2-ethylhexyl acrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate를 사용하였고 용매로는 톨루엔을 사용하였다. 고무계 모노머로는 isoprene 액상고무(LIR-50)를 사용하였고, 아크릴 점착제와의 배합량을 0 ~ 50 wt%로 하여 실험을 진행하였다. 결과에 따르면 LIR-50의 함량이 증가할수록 아크릴계 점착제의 최대 단점이었던 전사현상이 감소하였다. 그 이유는 이소프렌 액상고무의 경우 아크릴 점착제와 달리 극성기가 존재하지 않기 때문에 피착재와 이차결합이 발생하지 않아 경시변화에 따른 전사현상이 감소한 것으로 사료된다. 점착제의 자외선 경화 시 광개시제의 함량이 증가함에 따라, UV에 노출되는 시간이 증가함에 따라 점착제의 경화도가 높아지기 때문에 점착력과 전사현상이 감소하였다. 반면 유지력의 경우는 경화도가 증가하여 분자구조가 망상구조를 이루며 점착제 내부응집력이 증가하기 때문에 유지력은 증가하였다.