Transactions on Electrical and Electronic Materials
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제15권4호
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pp.226-229
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2014
In this study, lead-free $(Ba_{0.85}Ca_{0.15})(Ti_{1-x}Zr_x)O_3$ ceramics and a bimorph-type piezoelectric actuator were fabricated using the normal oxide-mixed sintering method, and their dielectric properties, microstructure, and displacement properties were investigated. From the results of X-ray diffraction, the pattern of the specimen has a pure perovskite structure. In addition, no secondary impurity phases were found. The excellent piezoelectric coefficient of $d_{33}=454pC/N$, the electromechanical coupling factor $k_p=0.51$, the dielectric constant ${\varepsilon}_r=3,657$, the mechanical quality factor $Q_m=239$, and $T_c$(Tetragonal-Cubic) =$90^{\circ}C$ were shown at x= 0.085. ${\Delta}k_p/k_p20^{\circ}C$ and ${\Delta}f_r/f_r20^{\circ}C$ showed the maximum value of -0.255 and 0.111 at $-20^{\circ}C$ and $80^{\circ}C$, respectively. The maximum total-displacement was $60{\mu}m$ under the input voltage of 50 V. As a result, it is considered that lead-free $(Ba_{0.85}Ca_{0.15})(Ti_{1-x}Zr_x)O_3$ ceramics is a promising candidate for piezoelectric actuator application for x= 0.085.
Transactions on Electrical and Electronic Materials
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제15권2호
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pp.96-99
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2014
We fabricated $(Li_{0.5-x}Na_xLa_{0.5})Ti_{0.8}Zr_{0.2}O_3$(LNTLZ)ceramics ($0{\leq}x{\leq}0.4$) with a perovskite structure via standard solid state synthesis. The influence of Na content on the structural and electrical properties of LNTLZ ceramics was also investigated. During XRD patterns analysis, all of the samples showed orthorhombic structure. The resistance of LNTLZ ceramics decreased as Na content increased, and the maximum activation energy shows 0.56 eV at x=0.4 at room temperature. These results indicated that LNTLZ ceramics are a candidate for use Lithium ion batteries as electrolytes.
The BST (Ba$_{1-x}$ Sr$_{x}$TiO$_{3}$)(50/50) thin film has been grown by RF magnetron reactive sputtering and its characteristics such as crystallization, surface roughness, and electrical properties have been investigated with varying the film thickness. The crystallization and surface roughness of BST thin film are investigated by using XRD and AFM, respectively The BST thin film anealed at 800.deg. C for 2 min has pure perovskite structure and good surface roughness of 16.1.angs.. We estimate that the thickness and dielectric constant of interface layer between BST film and electrode are 3nm and 18.9, respectively, by measuring the capacitance with various film thickness. As the film thickness increases form 80nm to 240nm, the dielectric constant at 10kHz increases from 199 to 265 and the leakage current density at 200kV/cm decreases from 0.682.mu.A/cm$^{2}$ to 0.181 .mu.A/cm$^{2}$. In the case of 240nm-thick BST thin film, the charge storage density and leakage current density at 5V are 50.5fC/.mu.m$^{2}$ and 0.182.mu.A/cm$^{2}$, respectively. The values indicate that the BST thin film is a very useful dielectric material for the DRAM capacitor.or.
In this study, PZT solutions added impurities of Yttrium acetate were prepared by sol-gel processing and were deposited on Pt/ $SiO_{2}$/Si substrates at 5000 rpm for 20 sec. using spin-coating method. Coated films were annealed at 700-750.deg. C for 30 min. using conventional furnace method. Variations of the crystallographic structure and microstructure of PZT thin films with adding impurities were observed using XRD and SEM, and the electrical properties, such as relative permittivity, tan .delta., hysteresis curves and leakage currents, were measured. As the yttrium contents were increased, the remanent polarization and coercive field were decreased. Variations of remanent polarizations and coercive fields of pure and yttrium doped specimens according to polarization reversal cycles were observed using hysteresis measurement. PZT thin films added $Y^{3+}$ ions were completely crystallized at 750.deg. C. $Y^{3+}$ ions, as donor impurity, substituted Pb.sup 2+/ ions located at A-site of perovskite structure. By substitution of $Y^{3+}$ ions, leakage currents became less by decreasing the space charges. Degradation of remanent polarizations of Yttrium added specimens after fatigue was not observed and coercive fields increased more than those of pure PZT thin films.
Transactions on Electrical and Electronic Materials
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제4권2호
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pp.24-28
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2003
(Ba,Sr,Ca)TiO$_3$ powders, prepared by the sol-gel method, were mixed with organic binder and the BSCT thick films were fabricated by the screen printing techniques on alumina substrates. All the BSCT thick films, sintered at 1420$^{\circ}C$, showed the typical XRD patterns of a perovskite polycrystalline structure. The average grain sizes decreased with increasing amounts of ZrO$_2$, and the BSCT(40/40/20) thick films doped with 2wt% MnO$_2$ showed a value of 8$\mu\textrm{m}$. The thickness of thick films by four-cycle on printing/drying was approximately 951$\mu\textrm{m}$. The relative dielectric constant decreased with increasing Ca content and MnO$_2$ doping amount. The relative dielectric constant, dielectric loss and tunability of the BSCT(50/40/10) thick films doped with 2.0wt% ZrO$_2$ were 772, 0.184% and 15.62%, respectively.
In this study, $Pb(Zr_{0.52}Ti_{0.48})O_3$ ceramic thin films were fabricated from an alkoxide-based by Sol-Gel method. $Pb(Zr_{0.52}Ti_{0.48})O_3$ stock solution was made and spin-coated on the $Pt/SiO_2/Si$ substrate at 4000[rpm] for 30[sec]. Coated specimens were dried at 400[$^{\circ}C$] for 10 [min]. The coating process was repeated 4 times and then heat-treated at 500$\sim$800[$^{\circ}C$], 1 hour. The final thickness of the thin films were about 3000[A]. The crystallinity and microstructure of the thin films were investigated for varing the sintering condition. The ferroelectric perovskite' phases precipitated under the sintering of 700[$^{\circ}C$] for 1 hours. In the $Pb(Zr_{0.52}Ti_{0.48})O_3$ thin films sintered at 700[$^{\circ}C$] for 1 hour, dielectric constant and dielectric loss were 2133, 2.2[%] at room temperature, respectively. $Pb(Zr_{0.52}Ti_{0.48})O_3$ thin film capacitors having good dielectric and electrical properties are expected for the application to the dielectric material of DRAM.
Epitaxial complex oxide thin film heterostructures have attracted a great attention for their multifunctional properties, such as ferroelectricity, and ferromagnetism. Two dimensional electron gas (2DEG) confined at the interface between two insulating perovskite oxides such as LaAlO3/SrTiO3 interface, provides opportunities to expand various electronic and memory devices in nano-scale. Recently, it was reported that the conductivity of 2DEG could be controlled by external electric field. However, the switched conductivity of 2DEG was not stable with time, resulting in relaxation due to the reaction between charged surface on LaAlO3 layer and atmospheric conditions. In this report, we demonstrated a way to control the conductivity of 2DEG in non-volatile way integrating ferroelectric materials into LAO/STO heterostructure. We fabricated epitaxial Pb(Zr0.2Ti0.8)O3 films on LAO/STO heterostructure by pulsed laser deposition. The conductivity of 2DEG was reproducibly controlled with 3-order magnitude by switching the spontaneous polarization of PZT layer. The controlled conductivity was stable with time without relaxation over 60 hours. This is also consistent with robust polarization state of PZT layer confirmed by piezoresponse force microscopy. This work demonstrates a model system to combine ferroelectric material and 2DEG, which guides a way to realize novel multifunctional electronic devices.
Kim, Hyo-Suk;park, Bo Keun;Kim, Chang Gyoun;Son, Seung Uk;Chung, Taek-Mo
한국진공학회:학술대회논문집
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한국진공학회 2014년도 제46회 동계 정기학술대회 초록집
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pp.364.2-364.2
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2014
Magnesium oxide (MgO) thin films have attracted great scientific and technological interest in recent decades. Because of its distinguished properties such as a wide band gap (7.2 eV), a low dielectric constant (9.8), a low refractive index, an excellent chemical, and thermal stability (melting point=$2900^{\circ}C$), it is widely used as inorganic material in diverse areas such as fire resistant construction materials, optical materials, protective layers in plasma display panels, buffer layers of multilayer electronic/photonic devices, and perovskite ferroelectric thin films. Precursor used in the ALD requires volatility, stability, and low deposition temperature. Precursors using a heteroleptic ligands with different reactivity have advantage of selective reaction of the heteroleptic ligands on substrate during ALD process. In this study, we have synethesized new heteroleptic magnesium precursors ${\beta}$-diketonate and aminoalkoxide which have been widely used for the development of precursor because of the excellent volatility, chelating effects by increasing the coordination number of the metal, and advantages to synthesize a single precursor. A newly-synthesized Mg(II) precursor was adopted for growing MgO thin films using ALD.
Transactions on Electrical and Electronic Materials
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제6권3호
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pp.119-123
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2005
$0.10Pb(Sb_{1/2}Sn_{1/2})O_3-0.25PbTiO_3-0.65PbZrO_3$ specimens doped with $ MnO_2\;(0.18\;mol\%)$ and $Y_2O_3\;(0\~0.4\;wt\%)$ were fabricated by the mixed-oxide method. All specimens showed the typical XRD patterns of a perovskite polycrystalline structure and the lattice constant decreased with increasing amount of $Y_2O_3$. The relative dielectric constant and the dielectric loss of the specimens doped with $0.2\;wt\%\;Y_2O_3$ were 704 and 0.0201, respectively. The remanent polarization, the coercive field and the pyroelectric coefficient of the specimen doped with $0.2\;wt\%\;Y_2O_3$ were $10.88\times10^{-2}Cm^{-2},\;11.12\times10^2kVm^{-1}$ and $5.03\times10^{-4}Cm^{-2}K^{-1}$ at $25^{\circ}C$, respectively. The figures of merit, $F_V$ for the voltage responsivity and $F_D$ for the specific detectivity, of the specimen doped with $0.2\;wt\%\;Y_2O_3$ were the good values of $3.04\times10^{-2}\;m^2C^{-1}\;and\;1.50\times10^{-5}\;Pa^{-1/2}$, respectively.
Transactions on Electrical and Electronic Materials
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제5권2호
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pp.66-70
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2004
The Sr$\_$0.7/Bi$\_$2.3/Ta$_2$O$\_$9/(SBT)thin films are deposited on Pt-coated electrode (Pt/TiO$_2$/SiO$_2$/Si) using a RE magnetron sputtering method. The ferroelectric properties of SBT capacitors with annealing times were studied. As a result of conducting the X-ray diffraction analysis and the electron microscopy analysis, the perovskite phase began to grow from 10 minutes after annealing the specimen, and excellent crystallization was accomplished at 60 minutes after annealing the specimen. The remanet polarization (2P$\_$r/) value and the coercive electric field (E$\_$c/) of the SBT thin film specimen showed the most excellent characteristics at 60 minutes after annealing the specimen, which were approximately 12.40 C/$\textrm{cm}^2$ and 30 kV/cm, respectively. The leakage current density of the SBT thin film specimen as annealed for 60 minutes was approximately 2.81${\times}$10$\^$-9/A/$\textrm{cm}^2$.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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