MOCVD법에 의한 $PbTiO_3$ 박막 증착시 Ti Bath 온도와 기판오도 변화에 따른 박막의 증착특성
(Dependences of $PbTiO_3$ Thin Films on Ti Bath Temperature and Deposition Temperature)
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- 한국세라믹학회지
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- 제33권4호
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- pp.371-378
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- 1996