In this paper, new concept of the diesel fuel processing is introduced for the stable operation of solid oxide fuel cells (SOFCs). Heavier hydrocarbons than $CH_4$, such as ethylene, ethane, propane, and etc., induce the carbon deposition on anode of SOFCs. In the reformate of heavy hydrocarbons (diesel, gasoline, kerosene, and JP-8), concentration of ethylene is usually higher than low hydrocarbons such as ethane, propane, and butane. So, removal of low hydrocarbons (over C1-hydrocarbons), especially ethylene, at the reformate gases is important for stable operation of SOFCs. New methodology as named "post-reformer" is introduced for removing the low hydrocarbons at the reformate gas stream. Catalyst of the NECS-PR4 is selected for post-reforming catalyst because the catalyst of NECS-PR4 shows the high selectivity for removing low hydrocarbons and achieving the high reforming efficiency. The diesel reformer and post-reformer are continuously operated for about 200 hours as integrated mode. The reforming performance is not degraded and low hydrocarbons in the diesel reformate are completely removed.
Proceedings of the Korean Institute of Information and Commucation Sciences Conference
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2008.10a
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pp.583-587
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2008
본 연구는 LCD 용 비정질 실리콘 박막 트랜지스터의 제조공정에서 가장 중요한 광 식각 공정을 중심으로 전체 공정을 개발하고, 공정의 안정성을 개선하여 소자의 신뢰성을 높이고자 한다. 본 연구의 수소화 된 비정질 실리콘 박막 트랜지스터는 Inverted Staggered 형태로 게이트 전극이 하부에 있다. 실험 방법은 게이트전극, 절연층, 전도층, 에치스토퍼 및 포토레지스터층을 연속 증착한다. 스토퍼층을 게이트 전극의 패턴으로 남기고, 그 위에 $n^+a-Si:H$ 층 및 NPR(Negative Photo Resister)을 형성시킨다. 상부 게이트 전극과 반대의 패턴으로 NPR층을 패터닝하여 그것을 마스크로 상부 $n^+a-Si:H$ 층을 식각하고, 남아있는 NPR층을 제거한다. 그 위에 Cr층을 증착한 후 패터닝하여 소오스-드레인 전극을 위한 Cr층을 형성시켜 박막 트랜지스터를 제조한다. 여기서 각 박막의 패터닝은 광 식각 공정으로 각 단위 박막의 특성에 맞는 광식각 공정이 필요하다. 제조한 박막 트랜지스터에서 가장 흔히 발생되는 문제는 주로 광식각공정시 발생하며, PR의 잔존이나 세척 시 얇은 화학막이 표면에 남거나 생겨서 발생되기도 하며, 이는 소자를 파괴시키는 주된 원인이 될 수 있다. 이와 같이 공정에 보다 엄격한 기준의 PR 패터닝, 박막의 식각 그리고 세척 등의 처리공정을 정밀하게 조절하여 소자의 특성을 확실히 개선 할 수 있었다.
The Transactions of the Korean Institute of Power Electronics
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v.16
no.5
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pp.466-476
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2011
In this paper, a high-performance current control for the single-phase PWM converter under distorted source voltages is proposed using a composite observer. By applying the composite observer, the fundamental and high-order harmonic components of the source voltage and current are extracted without a delay. The extracted fundamental component is used for a phase-lock loop (PLL) system to detect the phase angle of the source voltage. A multi-PR (proportional-resonant) controller is employed to regulate the single-phase line current. The high-order harmonic components of the line current are easily eliminated, resulting in the sinusoidal line current. The simulation and experimental results have verified the validity of the proposed method.
Moon Kanghun;Shin Subum;Park In-Sung;Lee Heon;Cha Han Sun;Ahn Jinho
Journal of the Microelectronics and Packaging Society
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v.12
no.4
s.37
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pp.275-280
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2005
We propose a new approach to greatly simplify the fabrication of conventional nanoimprint lithography (NIL) by combined nanoimprint and photolithography (CNP). We introduce a hybrid mask mold (HMM) made from UV transparent material with a UV-blocking Cr metal layer placed on top of the mold protrusions. We used a negative tone photo resist (PR) with higher selectivity to substrate the CNP process instead of the UV curable monomer and thermal plastic polymer that has been commonly used in NIL. Self-assembled monolayer (SAM) on HMM plays a reliable role for pattern transfer when the HMM is separated from the transfer layer. Hydrophilic $SiO_2$ thin film was deposited on all parts of the HMM, which improved the formation of SAM. This $SiO_2$ film made a sub-10nm formation without any pattern damage. In the CNP technique with HMM, the 'residual layer' of the PR was chemically removed by the conventional developing process. Thus, it was possible to simplify the process by eliminating the dry etching process, which was essential in the conventional NIL method.
The hybrid system composed of a photocatalytic reactor and a biofilter was operated under various operating conditions in order to treat malodorous waste air containing ammonia which is a major air pollutant emitted from composting factories and many publicly owned treatment works. Total ammonia removal efficiency of the hybrid system was maintained to be ca. 80% even though its inlet loads were increased at a higher operating stage according to an operating schedule of the hybrid system. The ammonia removal efficiency of photocatalytic reactor was decreased from 65% to 22% as ammonia inlet loads to photocatalytic reactor were increased. In spite of same inlet loads of ammonia to the photocatalytic reactor, the ammonia removal efficiency of photocatalytic reactor with lower ammonia concentration of fed-waste air was higher than that with higher ammonia concentration of fed-waste air. To the contrary, during the first half of the hybrid system operation the ammonia removal efficiency of a biofilter was quite suppressed while, despite of increased ammonia inlet loads, the ammonia removal efficiency of the biofilter was continuously increased to 78% and reached the ammonia removal efficiency similar to what Lee et al. attained. The maximum ammonia elimination capacity of the photocatalytic reactor was observed to be ca. 16 g-N/$m^3$/h. In an incipient stage of hybrid system run, the ammonia elimination capacity of the biofilter showed little sensitivity against ammonia inlet loads to the hybrid system. However, in the 2nd half of its run, the ammonia elimination capacity of the biofilter was increased abruptly in case of high ammonia inlet loads to the hybrid system. In 6th stage of hybrid system run, total ammonia inlet load attained at ca. 80 g-N/$m^3$/h corresponding to 16 g-N/$m^3$/h of ammonia elimination capacity of the photocatalytic reactor. Then, the remaining ammonia inlet load to the 2nd and main process of the biofilter and its elimination capacity was expected and shown to be ca 64 g-N/$m^3$/h and ca 48 g-N/$m^3$/h, respectively. The ammonia elimination capacity of the biofilter was close to 1,200 g-N/$m^3$/day of the maximum elimination capacity of the investigation performed by Kim et al.
Proceedings of the Korean Institute of Information and Commucation Sciences Conference
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2007.06a
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pp.507-509
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2007
본 연구는 기존의 방식으로 만든 비정질 실리콘 박막 트랜지스터의 제조공정에서 발생되는 결함에 대한 원인을 분석하고 해결함으로써 수율을 증대시키고 신뢰성을 개선하고자한다. 본 연구의 수소화 된 비정질 실리콘 박막 트랜지스터는 Inverted Staggered 형태로 게이트 전극이 하부에 있다. 실험 방법은 게이트전극, 절연층, 전도층, 에치스토퍼 및 포토레지스터층을 연속 증착한다. 스토퍼층을 게이트 전극의 패턴으로 남기고, 그 위에 $n^+a-Si:H$ 층 및 NPR(Negative Photo Resister)을 형성시킨다. 상부 게이트 전극과 반대의 패턴으로 NPR층을 패터닝하여 그것을 마스크로 상부 $n^+a-Si:H$ 층을 식각하고, 남아있는 NPR층을 제거한다. 그 위에 Cr층을 증착한 후 패터닝하여 소오스-드레인 전극을 위한 Cr층을 형성시켜 박막 트랜지스터를 제조한다. 이렇게 제조한 박막 트랜지스터에서 생기는 문제는 주로 광식각공정시 PR의 잔존이나 세척 시 얇은 화학막이 표면에 남거나 생겨서 발생되며, 이는 소자를 파괴시키는 주된 원인이 된다. 그러므로 이를 개선하기 위하여 ashing 이나 세척공정을 보다 엄격하게 수행하였다. 이와 같이 공정에 보다 엄격한 기준의 세척과 여분의 처리공정을 가하여 수율을 확실히 개선 할 수 있었다.
Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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2012.02a
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pp.488-488
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2012
상압에서 12인치 실리콘 웨이퍼 표면처리가 가능한 장치를 개발하였다. 배치타입 공정으로 플라즈마 발생 전극은 직경 340 mm의 대면적 원형 형태을 가지고 있다. 시스템은 탈부착이 가능한 플라즈마 모듈부와 공정챔버로 나누어지며 균일도를 높이기 위해 웨이퍼스테이지는 가열, 회전 및 축간 조절이 가능하게 설계하였다. 플라즈마발생은 DBD 전극방식을 채용하고 있으며 공정가스흐름 및 전극배열 등을 연구하였다. 또한, 기판 온도, 가스 조합 등의 공정파리미터를 변화시켜가며 높은 애슁 속도 및 균일도를 얻기 위한 실험이 진행되었다. 주파수 15 kHz, 인가 파워 7 kW, 시편 가열 온도 95도, 60 rpm, 80 spm에서 분당 200 nm의 PR제거율을 확인하였다.
Proceedings of the Materials Research Society of Korea Conference
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2009.05a
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pp.57.1-57.1
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2009
나노이산화티타늄은 인체에는 화장품, 의약, 식품분야 등에 쓰이고 외부 환경 재료에는 광촉매로서 유독가스 정화제, 옥내 외 항균, 수소발생 가시광 응답형 촉매 및 멤브레인 필터 등과 전자소재용 유전재료, 발광 재료 등 용도가 다양하다. 나노 산화티타늄 화합물의 제조법은 수열합성법, 기상법 등 여러 방법이 있다. 이들에 대한 리뷰의 목적은 2009년도 정부의 투자 계획 중에서 본제목에 관련되는 핵심 산업 재원 원천기술 개발, 태양광, 풍력 등의 신재생 에너지 개발, 록색 기술 개발을 통한 에너지절약형 LED 개발, 차세대 핵심환경 기술 개발, 핵심나노기반기술개발 등의 개발을 위하여 4,363억 원의 예산을 편성하고 연구자와 기술자들이 참여하여 유익한 실적이 창출되기를 원하고 있으므로 본 발표자들은 이 분야에서 연구하는 연구자와 기술자들에게 이 분야에 관련되는 자료를 참고로 제시하는데 있다. 페로브스카이트형 산화물인 유전재료($BaTiO_3$), 발광재료(CaTiO3:Pr3+적색), 박막형 반응기재료($Ca0.8Sr0.2TiO_3$), 등의 여러 가지 산화물은 류통식 급속 승온 수열 합성법, 겔 졸 법, 수열 합성법 등 여러 방법에 의하여 페로브스카이트형 산화물 입자 직경이 약 20nm~100nm 범위까지 합성된다. 태양광을 조사하여 물을분해 해서 수소를 생산하는 산화티타늄계 가시광 응답형 Vis-$TiO_2$ 박막은 기상법으로 제조하는데 한 예로써 RF 스퍼터링법으로 박막을 제조하여 수소와 산소를 회수하였으며, 황도프산화티타늄, 질소 도프 산화티타늄은 유기물 분해에 의한 공해제거, $NO_x$ 제거 등 환경정화에 사용되고, 고온 고압수법/산화티타늄 복합기술에 의해서는 바이오매스 분해 하고, 일종의 수열법인 개량형 HyCOM 법은 가시광 응답성 산화티타늄을 합성하여 NO가스 제거에 사용한다. 이들 여러 방법에 관한 것을 소개하고저 한다.
Journal of Nuclear Fuel Cycle and Waste Technology(JNFCWT)
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v.10
no.2
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pp.125-132
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2012
The dehydration schemes of rare earth (La, Ce, Nd, Pr, Sm. Eu, Gd, Y) chloride hydrates was investigated by using a dehydration apparatus. To prevent the formation of the rare earth oxychlorides, the operation temperature was changed step by step ($80{\rightarrow}150{\rightarrow}230^{\circ}C$) based on the TGA (thermo-gravimetric analysis) results of the rare earth chloride hydrates. A vacuum pump and preheated Ar gas were used to effectively remove the evaporated moisture and maintain an inert condition in the dehydration apparatus. The dehydration temperature of the rare earth chloride hydrate was increased when the atomic number of the rare earth nuclide was increased. The content of the moisture in the rare earth chloride hydrate was decreased below 10% in the dehydration apparatus.
UV/VIS spectrophotometer interfaced with HPIC(High Performance Ion Chromatography) has been applied to the determination of lanthanide elements. The separation of lanthanide elements with HPIC helped to avoid erroneous analytical results due to interferences. Individual lanthanide elements at ppm level were separated on a HPIC CS5 column using pyromellitic acid and oxalic acid. The individual lanthanide elements were detected at 520nm following post-column reaction with PAR. Sm, Eu, Gd, Y, Tb, Dy, Ho, Er, Tm, Tb, and Lu were separated by pyromellitic acid. La, Ce, Pr and Nd were separated by oxalic acid. Appropriate pH of pyromellitic acid for separation was at pH 2.99.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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