To improve the color gamut of a liquid-crystal display (LCD), we propose a bandpass filter that is added to the backlight unit to optimize the backlight spectrum. The bandpass filter can only transmit red, green and blue light in the visible range, while reflecting the unwanted light. We study the optical properties of the bandpass filter using the transfer-matrix method, and the effect of the bandpass filter on the color gamuts of LCDs is also investigated. When a bandpass filter based on a 5-layer configuration comprising low and high refractive indices ((HL)2H) is used in phosphor-converted white-light-emitting diode (pc-WLED), K2SiF6:Mn4+ (KSF-LED), and quantum-dot (QD) backlights, the color gamuts of the LCDs improve from 72% to 95.3% of NTSC, from 92% to 106.7% of NTSC, and from 104.3% to 112.2% of NTSC respectively. When the incident angle of light increases to 30°, the color gamuts of LCDs with pc-WLED and KSF-LED backlights decrease by 2.9% and 1% respectively. For the QD backlight, the color gamut almost does not change. When the (HL)2H structure is coated on the diffusion film, the color gamut can be improved to 92.6% of NTSC (pc-WLED), 105.6% of NTSC (KSF-LED), and 111.9% of NTSC (QD). The diffusion film has no obvious effect on the color gamut. The results have an important potential application in wide-color-gamut LCDs.
In order to improve the photoluminescent properties and crystallinity, Zn$_2$SiO$_4$:Mn, M(M=Cr, Ti) phosphors were synthesized by the sol-gel method. The willemite single phase was obtained at 110$0^{\circ}C$, which is lower temperature than that of the conventional solid-state reaction (130$0^{\circ}C$). The characteristics of fired samples were obtained by a 147 nm excitation source under VUV (Vacuum Ultraviolet). To investigation the effect of co-dopant, the content of Mn and the ratio of $H_2O$ to TEOS was fixed as 2 ㏖% and 36. 1, respectively. The highest emission intensity was obtained when the concentration of Cr and Ti was 0.1 ㏖% relative to Zn$_2$SiO$_4$:Mn. While the emission intensity decrease continuously the decay time improved as increased the Cr concentration. In the case of Ti added samples, however, the emission intensity increase up to 2 ㏖% concentration.
The purpose of this study was to evaluate the measurement error between conventional films, digital cephalographs and hardcopy. The material consisted of 29 cephalographs which used image modality of Asahi CX-90SP in the Kyung Hee University Dental Hospital. One observer measured fiducial measurements at an interval of four weeks. Measurement error was tested by Dahlberg's formula. A paired t-test was used to detect it between each modality. The results are as follows; 1. The monitor-displayed digital image showed enlargement compared with the conventional image. The cephalometric measurements of the monitor-displayed digital image and conventional image were no statistically significant difference except SNB. 2. In conventional image, measurement errors of linear and angular measurements were 0.23mm, $0.36^{\circ}$, respective. In monitor-displayed digital image, measurement errors of linear and angular measurements were 0.63mm, $0.48^{\circ}$ respective. 3. The reduction ratio of hardcopy was 1.01% compared to the monitor-displayed digital image. Based on the results, it indicates that the digital cephalographs and hardcopy using storage phosphor digital radiography showed the same accuracy as the conventional films in clinical use.
Journal of the Institute of Electronics Engineers of Korea SP
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v.37
no.6
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pp.9-16
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2000
The perception of flicker on the computer display devices depends upon the temporal waveform of the phosphor decay characteristic, the frame rate, and the display size. The lowest frequency at which flicker is not perceived is called the critical fusion frequency or critical frequency. Critical fusion frequency is evaluated by the display illuminance and the modulation (m) defined as the ratio of the amplitude of first harmonic frequency to the DC of the waveform. In this paper, we analyze the relationship bet ween the critical fusion frequency, relating to the decay characteristic of the phosphors and luminance on the monitor, and the frame frequency. Also under considering the viewing angle, we presented the frame frequency that is less sensitive to the full size of the display device.
Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference
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2004.04b
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pp.77-80
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2004
In this study, the purpose is to verified the feasibility to develope Hybrid x-ray detector in order to resolve problems of direct and indirect x-ray detectors. The properties of X-ray detector depend on absorption of X-ray, charge generation by x-ray photon, leakage current. In this study, CdS was used as photoconductor, and $Y_2O_2S:Tb$ as x-ray phosphor was formed on CdS in order to embody Hybrid structure. And Screen printing was used to form Muli-layer. Characteristics of this specimen were analyzed by using SEM, and XRD. And Photoluminescence spectrum of $Y_2O_2S:Tb$, leakage current, with respect to applied voltages, output charge with respect to applied voltages, and X-ray sensitivity were measured. Also, linearity with respect to dose was measured. Leakage current was similar with direct digital x-ray detector, but sensitivity of the hybrid structure is much better than the single-layer structure.
Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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2014.02a
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pp.281-281
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2014
The field emission properties of GaN are reported in the present study. To be a good field emitter, it requires a low work function, high aspect ratio, and strong mechanical stability. In the case of GaN, it has a quite low work function (4.1eV) and strong chemical/mechanical/thermal stabilities. However, so far, it was difficult to fabricate vertical GaN nanostructures with a high aspect ratio. In this study, we successfully achieved vertically well aligned GaN nanostructures with chemical vapor-phase etching methods [1] (Fig. 1). In this method, we chemically etched the GaN film using hydrogen chloride and ammonia gases at high temperature around $900^{\circ}C$. This process effectively forms vertical nanostructures without patterning procedure. This favorable shape of GaN nanostructures for electron emitting results in excellent field emission properties such as a low turn-on field and long term stability. In addition, we observed a uniform fluorescence image from a phosphor film attached at the anode part. The turn-on field for the GaN nanostructures is found to be about $0.8V/{\mu}m$ at current density of $20{\mu}A$/cm^2. This value is even lower than that of typical carbon nanotubes ($1V/{\mu}m$). Moreover, threshold field is $1.8V/{\mu}m$ at current density of $1mA$/cm^2. The GaN nanostructures achieved a high current density within a small applied field range. We believe that our chemically etched vertical nanostructures are the promising structures for various field emitting devices.
Kim, Gyo-Tae;Hong, Ju-Yeon;Kim, Jin-Seon;Heo, Ye-Ji;Sin, Jeong-Uk;Heo, Seung-Uk;Park, Ji-Gun;Nam, Sang-Hui
Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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2014.02a
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pp.397.1-397.1
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2014
최근 방사선 진단 영역에 이용되고 있는 증감지는 입사된 방사선의 감도를 증가시키기 위해 형광체를 사용하고 있으며, 외부의 에너지를 흡수하여 빛으로 방출하는 역할을 한다. 이는 방사선 검출기, 디스플레이, 의료기기 등 다양한 분야에 활용되고 있다. 필름에 X선을 노출 할 경우 형광체의 사용 유무에 따라 방사선 흡수 효율에 영향을 미치며, 이는 발광 효율 및 감도에 주요한 인자로 작용한다. 현재 상용화되어 있는 형광체는 낮은 발광 효율로 인한 한계를 가지므로, 발광 효율 향상을 위하여 제작 구조에 대한 연구가 진행되고 있다. 이 중 반사막을 활용하는 연구가 활발히 진행되고 있다. 일반적으로 형광체의 제조를 위하여 보편적으로 이용하고 있는 스크린프린팅 방법에서 건조 공정을 수행 시 균일도가 감소하는 현상이 발생한다. 이러한 현상은 반사막의 증착을 불균일하게 만드는 원인으로 작용하고 빛의 산란을 초래하는 현상을 초래한다. 이에 본 연구에서는 증착 시 투명도 저하에 따라 반사율이 증가되는 반사막 성질을 가지며, 방수성 및 절연성과 같은 보호층 특성을 지닌 유기성 투명 박막 페를린에 대하여 연구하고자 한다. 본 연구에서는 화학적 증기 증착법(Chemical Vapor Deposition, CVD)을 이용하여 투명 필름의 상단에 페를린을 코팅한 시편과 코팅하지 않은 시편으로 구분하여 제작하였고, 상단에 스크핀프린팅 방법을 활용하여 형광체를 도포 하였다. 시편 제작 후 실험은 시편을 필름 상단에 위치시키고, 일반진단에너지 대역(Model-SF 80)의 X선을 조사하였다. 이 후 현상기(model-pro14)를 통해 현상된 필름에 나타난 광학적 농도(Optical Density, O.D)를 농도계(Fluke Biomedical Nuclear Associates Densitometer)로 측정하였는데, 불확실성을 줄이기 위하여 총 5회를 측정하여 그 중 2번째로 높은 값을 도출하였다. 측정 결과, 페를린을 코팅한 형광체에서는 1.71의 O.D 값이 측정되었고, 페를린을 코팅하지 않은 형광체에서는 1.43의 O.D 값이 측정되었다. 이를 이용하여 투명도를 산출한 결과 상대적으로 약 1.76% 차이가 나타났다. 이러한 결과는 페를린 활용 시 환자의 피폭 선량 저감화 및 해상력 개선을 도모할 수 있을 것으로 사료된다.
$SrAl_2O_4$:$Eu^{2+}, Dy^{3+}$ 축광성 형광체의 합성에 있어서 $B_2O_3$는 일반적으로 고상반응의 촉진을 위한 플럭스로서 첨가된다. 본 연구에서는 플럭스로 첨가되는 $B_2O_3$가 $SrAl_2O_4$:$Eu^{2+}, Dy^{3+}$ 형광체의 결정구조 및 잔광 특성에 미치는 영향을 조사하였다. 합성된 $SrAl_2O_4$:$Eu^{2+}, Dy^{3+}$ 형광체는 520nm에서 최대 피크를 갖는 폭넓은 발광 스펙트럼을 나타내었고, $B_2O_3$ 첨가량의 5wt%일 때 최대값을 나타내었다. $B_2O_3$의 첨가에 의해 $SrAl_2O_4$:$Eu^{2+}, Dy^{3+}$ 결정 내부에는 균일 변형(uniform strain)이 발생하였고 이 결과로 결정격자의 a축과 c축의 길이 및 $\beta$각이 감소하여다. 그리고 $SrAl_2O_4$ 결정내부의 균일 변형은 $Eu^{2+}$이온의 여기과정에서 발생하는 정공(hole)의 포획 사이트인 음이온 결함(negative defect)을 다량 발생시키는 원인이 되고, 결과적으로 $SrAl_2O_4$:$Eu^{2+}, Dy^{3+}$ 결정의 잔광 특성을 향상시키는 것으로 생각되었다.
Kim, Dae-Hun;Jeong, Hyeon-Seok;Kim, Tae-Hwan;Jeong, Je-Myeong
Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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2012.02a
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pp.475-475
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2012
백색 유기발광소자는 매우 얇고, 가볍고, 저전력 구동이 가능하다는 점에서 전색 디스플레이나 조명 시장에서 많은 관심을 끌고 있다. 고효율을 가진 백색 유기발광소자의 제작을 위해서는 일반적으로 쉐도우 마스크를 사용하여 발광 패턴을 만들기 때문에 제작 비용이 비싸다는 단점을 가진다. 본 논문에서는 제작 공정이 간단하고, 저비용의 장점을 가지는 용액 공정을 사용하여 나노 구멍 구조를 가지는 적색 고분자와 청색 저분자의 혼합 발광층으로 백색 유기발광소자를 제작하였다. 이 나노 구멍 구조를 가지는 poly[2-methoxy, 5-(2'-ethyl-hexyloxy)-p-phenylene vinylene] (MEH-PPV)/ 2-methyl-9,10-di(2-naphthyl)anthracene (MADN) 혼합 발광층의 전기적, 광학적 특성을 분석하기 위하여 MEH-PPV/MADN 적층 구조를 가지는 백색 유기발광소자를 제작하여 비교, 분석하였다. 나노 구멍 구조를 가지는 혼합 발광층의 발광 스펙트럼에서 적층 구조보다 청색 파장대의 빛의 비율을 높일 수 있었다. 그 이유는 나노 구멍 구조를 가지는 혼합 발광층에서 정공수송층인 poly(3,4-ethylenedioxythiophene) poly(styrenesulfonate) (PEDOT:PSS) 층과 청색 발광층 사이의 일부분 접합부분의 정공 주입 때문이다. 또한, 혼합 발광층을 가진 백색 유기발광소자의 전류 밀도와 휘도는 구멍을 가진 MEH-PPV 층 때문에 상당히 증가하는 것을 알 수 있다. 혼합 발광층을 가진 백색 유기발광소자의 적색과 청색의 균형은 나노 구멍의 크기를 통해서 조절이 가능하고, 색 안정성은 정공 주입층과 청색 발광층 사이의 직접 접촉에 의한 구동 전압의 변화를 따라 증가시킬 수 있었다. 그 결과, 혼합 발광층을 가지는 백색 유기발광소자에서 적색과 청색 발광층의 발광 균형은 스핀 코팅 속도가 3,000 rpm일 때, 최적의 결과를 나타내었다. 이러한 실험 결과들은 저분자/고분자로 이루어진 혼합 발광층을 가진 백색 유기발광소자에서의 전자와 정공의 전달 및 발광 메커니즘을 분석할 수 있었다.
$ZnGa_2O_4$ thin film phosphors have been deposited using a pulsed laser deposition method on Si(100) substrates at a substrate temperature of $550^{\circ}C$ with oxygen pressures of 100mTorr, and subsequently to investigate their photoluminescence characteristics after post-annealed at $600^{\circ}C$ and $700^{\circ}C$. As a result for X-ray diffraction, $Ga_2O_3$ shape appeared with increasing annealing temperature. The luminescent spectra show a broad band extending from 350 to 600nm peaking at 460nm. A post-annealing treatment of $ZnGa_2O_4$ thin films led to the different shape of luminescent intensity and grain size.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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