• 대한치과보철학회지
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• 제51권4호
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• pp.252-260
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• 2013

연구 목적: 치과 임플란트가 소개된 이후로 단일 치아 상실에 따른 임플란트 수복에 관한 성공적인 연구 결과들이 보고되고 임상적으로도 널리 사용되고 있다. 구강내의 다양한 부위에 따른 연구들이 있어 왔으나, 교합력이 강한 구치부 특히 하악 구치부에서 단일 임플란트에 관한 연구가 필요할 것이다. 본 연구는 하악의 제1대구치와 제2대 구치 부위에 식립된 단일 임플란트의 생존율에 관해 연구, 분석하였다. 연구 대상 및 방법: 2002년부터 2009년까지 대구광역시 소재의 7개 치과의원에서, 하악 제1, 2대구치에 단일 임플란트 치료를 받은 환자 284명에게 식립된 308개의 임플란트를 대상으로 하였다. 하악 제1대구치에 168개의 임플란트가 식립되었고, 하악 제2대구치에 140개의 임플란트가 식립되었다. 이들 임플란트는 식립위치, 환자의 성별, 연령, 임플란트의 직경 및 길이에 따라 분석하였다. 결과:하악 제1대구치에서는 4개의 임플란트가, 하악 제2대구치에서는 10개의 임플란트가 실패하였다. 하악 제1대구치에서는 97.6%, 하악 제2대구치에서는 92.9%의 성공률을 나타내었다. 환자의 연령, 성별, 식립방법, 임플란트의 직경 등에 따른 차이는 관찰할 수 없었다. 결론: 하악 제1대구치 단일 임플란트의 생존율은 하악 제2대구치 단일 임플란트의 생존율보다 높게 나타났다. 이는 하악 제2대구치 부위의 골질이 좋지 않고, 하악의 해부학적인 구조로 인해 하악 제2대구치 부위에 과도한 교합력이 가해질 우려가 있기 때문이라 생각된다.

• 한국진공학회:학술대회논문집
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• 한국진공학회 2012년도 제43회 하계 정기 학술대회 초록집
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• pp.151-151
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• 2012

A new plasma process, i.e., the combination of PIII&D and HIPIMS, was developed to implant non-gaseous ions into materials surface. HIPIMS is a special mode of operation of pulsed-DC magnetron sputtering, in which high pulsed DC power exceeding ~1 kW/$cm^2$ of its peak power density is applied to the magnetron sputtering target while the average power density remains manageable to the cooling capacity of the equipment by using a very small duty ratio of operation. Due to the high peak power density applied to the sputtering target, a large fraction of sputtered atoms is ionized. If the negative high voltage pulse applied to the sample stage in PIII&D system is synchronized with the pulsed plasma of sputtered target material by HIPIMS operation, the implantation of non-gaseous ions can be successfully accomplished. The new process has great advantage that thin film deposition and non-gaseous ion implantation along with in-situ film modification can be achieved in a single plasma chamber. Even broader application areas of PIII&D technology are believed to be envisaged by this newly developed process. In one application of non-gaseous plasma immersion ion implantation, Ge ions were implanted into SiO2 thin film at 60 keV to form Ge quantum dots embedded in SiO2 dielectric material. The crystalline Ge quantum dots were shown to be 5~10 nm in size and well dispersed in SiO2 matrix. In another application, Ag ions were implanted into SS-304 substrate to endow the anti-microbial property of the surface. Yet another bio-application was Mg ion implantation into Ti to improve its osteointegration property for bone implants. Catalyst is another promising application field of nongaseous plasma immersion ion implantation because ion implantation results in atomically dispersed catalytic agents with high surface to volume ratio. Pt ions were implanted into the surface of Al2O3 catalytic supporter and its H2 generation property was measured for DME reforming catalyst. In this talk, a newly developed, non-gaseous plasma immersion ion implantation technique and its applications would be shown and discussed.

• 대한정형외과스포츠의학회지
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• 제10권2호
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• pp.47-53
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• 2011

목적: 전방십자인대 재건술의 수가 증가하면서, 재건술의 실패로 인한 재재건술의 빈도 또한 증가하고 있다. 따라서 저자는 전방십자인대 재건술 후 발생한 이식건 실패의 원인 및 전방십자인대 재재건술 후의 임상적 결과를 분석하였다. 대상 및 방법: 1998년 2월부터 2010년 7월까지 전방십자인대 재건술 실패에 대하여 전방십자인대 재재건술을 시술받은 후 최소 12개월 이상 추시가 가능하였던 36예를 대상으로 하였다. 재건술 후 재재건술까지의 평균기간은 60(5~334)개월이었으며, 처음 전방십자인대 재건술을 시술 시 23예(63.9%)에서 동종 이식건을, 13예(36.1%)에서 자가 이식건을 사용하였다. 전방십자인대 재건술 실패의 주증상으로 불안정성이 가장 많았으며, 전방십자인대 재건술을 한번 시행 받았던 경우가 35예(97.5%), 두 번 시행 받았던 경우가 1예(2.5%)였다. 임상적 결과는 Lysholm 슬관절 점수, Tegner activity 점수를 이용하여 평가하였으며, 안정성은 Lachman 및 pivot shift 검사와 Telos device를 이용하여 평가하였다. 결과: 환자의 평균 추시 기간은 21(12~40)개월이었으며, 전방십자인대 재건술의 실패원인으로는 외상이 19예(52.8%)로 가장 많았고, 대퇴 터널의 부정위치가 13예(36.1%), 경골부 터널의 부정위치가 1예(2.8%), 골융합의 실패 3예(8.4%)로 나타났다. 전방십자인대 재재건술을 시행할 시 34예(94%)에서 동종이식건을, 2예(6%)에서 자가 이식건을 사용하였으며, 21예에서 반월상 연골판 손상이 동반되었다(내측 반월상 연골판 손상 14예, 외측 반월상 연골판 손상 7예). Lysholm 슬관절 점수는 술전 66.5점에서 술후 최종 추시시 92점으로 호전되었다(p<0.01). 환자의 대부분은 수술 결과에 만족(92%)하고 있었다. Tegner activity 점수는 술전 2.0점에서 술후 6.2점으로 호전되었다(p<0.01). Lachman 및 pivot shift 검사에서 33예, 30예가 Gr I 이하로 호전되었으며, Telos device를 이용한 안정성 검사에서는 양측 차이 정도는 술전 평균 15.5 mm에서 술후 최종 추시시 4.5 mm로 의미있게 호전되었다(p<0.01). 환자의 대부분은 수술 결과에 만족(92%)하고 있었다. 결론: 전방십자인대 재 재건술은 1년 이상 추시 결과 약간의 전방 불안정성이 존재하였으나, 임상적 결과 및 환자의 주관적 만족도에 있어서는 우수한 결과를 보였다.

• 대한치과의사협회지
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• 제50권12호
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• pp.743-754
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• 2012

urpose : The purpose of this study was to evaluate the US II plus/GS II Osstem$^{(R)}$ implants through the study for the clinical success rate during the installation of the Osstem¢Á implants after bone graft. Materials and Methods : This study was researched in the 4 medical institutions: Chonnam National University, Chosun University, Bundang Seoul National University Hospital, and FM dental clinic from May, 2002 to September, 2009. Based on the total number of 60 patients whose treatment was the installation of the US II plus/GS II Osstem¢Á implants after bone graft, we evaluated success rate of implants. We analysis the distribution of patient's age and gender, edentulous area, bone type, fixture length and diameter, installation and loading time, donor site, bone graft material and method, antagonistic teeth, and survival and success rate. From these analyses we got the following results. Results : 1. In this study, the total number of patients who have been installed with US II plus implant was 27, and total of 52 implants were installed. The average age was 38.9, with 16 male, and 11 female patients. 2. The total number of patients who have been installed with GS II implant was 33, and total of 54 implants were installed. The average age was 49.7, with 24 male, and 9 female patients. 3. As for bone graft method, either autogenous bone or a mix of autogenous and heterogenous bone was used(88.4%) for US II plus. Chin, iliac, and Maxillary tuberosity were the donor sites for autogenous bone graft, and onlay method of bone graft was performed. 4. Allogenic bone or a mix of autogenous and heterogenous bone was used(77.8%) for GS II. Chin, ramus, and tibia were the donor sites for autogenous bone graft, and GBR method of bone graft was performed. 5. The duration from the installation of implants to setting of final prosthesis was average of 16 months and 10 months for US II plus and GS II respectively. Also, the final follow up period was average of 31 months and 28 months respectively. During this period, one GS II implant was removed from 1 patient due to failure of early osteointegration. 6. The survival rates were 100% and 98.1%, and success rates were 94.2% and 94.4% for US II plus and GS II implant respectively. Conclusion : On the evaluation of our clinical study, both US II plus and GS II Osstem¢Á implants showed the excellent clinical results after bone graft.