$N_2H_4-H_2O$ 용액의 최적 시작 조건을 이용한 Si diaphragm의 제작
(Fabrication or Si Diaphragm using Optimal Etching Condition of $N_2H_4-H_2O$ Solution)
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- 대한전기학회:학술대회논문집
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- 대한전기학회 1989년도 하계종합학술대회 논문집
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- pp.295-298
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- 1989