• 센서학회지
• /
• 제15권4호
• /
• pp.297-301
• /
• 2006

We have fabricated a multi-mode nonlinear plastic optical fiber (POF) using organic nonlinear optical materials and demonstrated the propagation of light. The refractive indices of core and cladding are 1.5240 and 1.5172. We made a POF preform by rod-in tube method. The core diameter of the fabricated POF is about $30{\mu}m$. We evaluated the temperature characteristics of POF. The sensitivity is $0.345{\;}mW/^{\circ}C$ and the linearity of sensor was good.

• 한국산학기술학회논문지
• /
• 제21권2호
• /
• pp.25-31
• /
• 2020

정보전송시스템의 백본 역할을 하고 있는 광시스템에서는 시스템의 성능평가 및 최적화를 위해 신호와 잡음의 통계 특성에 대한 평가가 필수적이다. 광 수신시스템에서는 수신감도를 개선하기 위해 광 검출기 전단에 광증폭기를 채용하여 수신감도를 개선하고 있으나 광 검출기의 출력부에 첨가되는 ASE 잡음으로 인해 광수신기에서 광신호에 대한 전자신호의 대역폭이 비가 변화되는 문제점 또한 존재한다. 이러한 신호들의 대역폭의 비의 변화 문제는 출력단에 존재하는 필터의 통과대역 특성에 따라 변화하게 되는데, 주파수 응답 효과는 무한대의 차수를 갖는 필터를 구성하면 해결할 수 있으나 이를 실제 구현하는 것은 거의 불가능하므로 본 논문에서는 버터 워쓰 필터를 구현하여 필터의 차수에 따른 광 수신시스템의 주파수 응답 특성을 평가하였다. 시뮬레이션 결과를 통해 Butter-Worth 필터의 차수 N이 증가하면 필터의 수신감도가 증가됨을 확인 할 수 있었다. 또한 다양한 n_sp값의 변화에 대한 시뮬레이션 결과 n_sp가 증가할수록 수신감도가 증가함을 확인할 수 있었다. 즉, n_sp에 따라 광전류의 평균치는 증가하고 분산은 감소하기 때문인 것으로 평가할 수 있다.

• 한국광학회:학술대회논문집
• /
• 한국광학회 2009년도 창립 20주년기념 특별학술발표회
• /
• pp.80-81
• /
• 2009

• 한국광학회:학술대회논문집
• /
• 한국광학회 2004년도 제15회 정기총회 및 동계학술발표회
• /
• pp.56-57
• /
• 2004

• 한국광학회:학술대회논문집
• /
• 한국광학회 2008년도 동계학술발표회 논문집
• /
• pp.271-272
• /
• 2008

• 한국광학회:학술대회논문집
• /
• 한국광학회 2004년도 하계학술발표회
• /
• pp.16-17
• /
• 2004

• 마이크로전자및패키징학회지
• /
• 제7권4호
• /
• pp.37-42
• /
• 2000

고성능과 고속화의 면에서 광저장장치의 관심은 상당히 높다. 그러나 하드디스크와 비교하여 광저장장치는 임의의 데이터에 대한 탐색속도가 매우 늦다. 따라서, 광저장장치에서의 새로운 형태의 연구가 필요하다. 본 연구는 하드디스크 장치와 유사한 스윔 암 구동기를 사용한 광저장장치의 공기베어링의 특성에 관해 연구하였다. 광저장장치에서 요구되어지는 최적의 슬라이더 형상을 구하기 위하여 공기 베어링면의 형상변화에 따른 부상상태에 관한 민감도를 연구하였다.

• 한국소음진동공학회논문집
• /
• 제15권1호
• /
• pp.12-19
• /
• 2005

This paper proposed a dual actuator using Bimorph PZT for information storage device based on prove array NSOM(near-field scanning optical microscopy). The gap between the media and the optical head should be maintained within the optical tolerance. Therefore, a new actuator having high sensitivity is required. Bimorph PZT, which has fast access time and high sensitivity characteristic, is suitable for this precise actuating system. This paper is focused on derivation of mathematical model of dual Bimorph PZT actuator and control algorithm. Hamilton's principle was used for mathematical model. The model is verified by FEA(finite element analysis), and compared with experimental results. Different control algorithms were used for two Bimorph PZT actuating same direction and opposite direction. The gap between recording media and optical head was controlled within 20nm in experiment.

• 센서학회지
• /
• 제29권4호
• /
• pp.270-274
• /
• 2020

In this study, a read-out integrated circuit (ROIC) that can be applied to a colorimetry-based optical sensor for analyzing total phosphorus and total nitrogen was developed and characterized. The proposed ROIC minimizes the effect on temperature fluctuation, improves sensitivity, and extends the dynamic range by utilizing a dual optical path and feedback control circuit. Using a dual optical path makes it possible to calibrate the output signal of the optical sensor automatically, along with the temperature fluctuation. The calibrated voltage is fed back into the measurement stage; thus, the output current of the measurement is adaptively controlled. As a result, the sensitivity and dynamic range of the proposed ROIC are improved. Finally, a total-phosphorus analysis was conducted by utilizing the ROIC. The ROIC was found to operate stably over a wide temperature range.

• 한국진공학회:학술대회논문집
• /
• 한국진공학회 2012년도 제42회 동계 정기 학술대회 초록집
• /
• pp.182-182
• /
• 2012

Plasma etching is used in various semiconductor processing steps. In plasma etcher, optical- emission spectroscopy (OES) is widely used for in-situ endpoint detection. However, the sensitivity of OES is decreased if polymer is deposited on viewport or the proportion of exposed area on the wafer is too small. Because of these problems, the object is to investigate the suitability of using plasma impedance monitoring (PIM) and self plasma optical emission spectrocopy (SPOES) with statistical approach for in-situ endpoint detection. The endpoint was determined by impedance signal variation from I-V monitor (VI probe) and optical emission signal from SPOES. However, the signal variation at the endpoint is too weak to determine endpoint when $SiO_2$ and SiNx layers are etched by fluorocarbon on inductive coupled plasma (ICP) etcher, if the proportion of $SiO_2$ and SiNx area on Si wafer are small. Therefore, modified principal component analysis (mPCA) is applied to them for increasing sensitivity. For verifying this method, detected endpoint from impedance monitoring is compared with optical emission spectroscopy.