PURPOSE. The study compared the color change, lightness, and translucency of hybrid resin ceramics exposed to toothbrush abrasion and surface treatment. MATERIALS AND METHODS. Four hybrid ceramics [Lava Ultimate (LU), Vita Enamic (EN), Shofu HC (SH), and Crystal Ultra (CU)] were compared with a glass-ceramic (Vita Mark II) control. One hundred and twenty specimen blocks were prepared using a precision saw machine. Specimens in each material were divided into four subgroups based on the surface treatment (polishing or staining) and a storage medium (water or citric acid). Simulated tooth brushing with a mixture of 100 RDA (radioactive abrasives) with 0.3 ml distilled water was used for 3650 cycles (7300 strokes) for each specimen. Measurements for the color change, lightness, and translucency were measured after toothbrushing using a spectrophotometer. Statistical analysis compared outcomes using paired t-test, ANOVA, and Tukey post hoc test. RESULTS. The maximum color change was identified in SH (stained acid) [1.44 (0.40)], whereas the lowest was identified in EN (polished water) [0.66 (0.16)] material. The maximum and minimum loss of surface translucency was observed in SH (polished water) [12.3 (0.52)] and EN (stained acid) [6.5 (0.55)] specimens, respectively. Lastly, loss of lightness was the highest in VM (polished acid) [69 (0.95)], whereas the lowest was observed in CU (stained water) [56.7 (0.86)]. CONCLUSION. The comparison presented a significant effect of toothbrush abrasion on translucency and lightness of the hybrid resin ceramics. Color change was not significantly influenced irrespective of the storage medium employed. Surface staining demonstrated the preservation and stability of color and optical properties under the influence of toothbrush abrasion and chemical trauma.
In this paper, the Curing process for Epoxy Molding Compound (EMC) Package was developed by comparing the performance of the EMC/Cu Bi-layer package manufactured by the conventional Hot Press process system and Carbon Nanotubes (CNT) Heater process system of the surface heating system. The viscosity of EMC was measured by using a rheometer for the curing cycle of the CNT Heater. In the EMC/Cu Bi-layer Package manufactured through the two process methods by mentioned above, the voids inside the EMC was analyzed using an optical microscope. In addition, the interfacial void and warpage of the EMC/Cu Bi-layer Package were analyzed through C-Scanning Acoustic Microscope and 3D-Digital Image Correlation. According to these experimental results, it was confirmed that there was neither void in the EMC interior nor difference in the warpage at room temperature, the zero-warpage temperature and the change in warpage.
We demonstrate an effect of annealing temperature on imprinting process of BiLaO thin film for liquid crystal alignment. BiLaO prepared sol-gel process was deposited by spin coating on a glass substrate, and then transferred to a pre-fabricated aligned pattern which is fabricated on a silicon wafer by laser interference lithography. Thin film was annealed at different temperature of 100, 150, 200, and 250 ℃. From the polarized optical microscopy analysis, the liquid crystal orientation was not uniform at the annealing temperature of 200 ℃ or lower and the uniform liquid crystal alignment characteristics were confirmed at the annealing temperature of 250 ℃. From atomic force microscopy, the pattern was not transferred at a temperature of 200 ℃ or lower. In contrast, the pattern was transferred at 250 ℃. Anisotropy of the thin film was obtained by the alignment pattern transferred at a temperature of 250 ℃, and the liquid crystal molecules could be evenly oriented on the thin film. Therefore, it was confirmed that the liquid crystal alignment process by the imprinting process of the BiLaO oxide film was affected by the annealing temperature.
Jo, Young Je;Kim, Jae-Kwan;Han, Seung-Cheol;Kwak, Joon-Seop;Lee, Ji-Myon
Korean Journal of Metals and Materials
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v.47
no.1
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pp.44-49
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2009
Indium tin oxide(ITO) thin films were deposited on the glass substrates by radio-frequency (RF) magnetron sputtering method. The influence of rapid thermal annealing (RTA) treatment on the optical and electrical properties of the films were investigated for the purpose of fabricating plasma display signboard. Structural properties, surface roughness, sheet resistance and transmittance of the ITO film were analysed by using x-ray diffraction method, atomic force microscopy (AFM), four point prove, and ultraviolet-visible spectrometer, respectively. It was found that the RTA treatment increased the transmittance and decreased the resistivity of the ITO film, respectively. Furthermore, we successfully demonstrated the direct-current plasma signboard by using ITO electrode and phosphors.
Do, Nam Gon;Lee, Junyeop;Jung, Dong Geon;Kong, Seong Ho;Jung, Daewoong
Journal of Sensor Science and Technology
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v.30
no.4
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pp.250-254
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2021
A highly sensitive and selective non-dispersive infrared (NDIR) carbon dioxide gas sensor requires achieving high transmittance and narrow full width at half maximum (FWHM), which depends on the interface of the optical filter for precise measurement of carbon dioxide concentration. This paper presents the design, simulation, and fabrication of a Fabry-Perot filter based on a distributed Bragg reflector (DBR) for a low-cost NDIR carbon dioxide sensor. The Fabry-Perot filter consists of upper and lower DBR pairs, which comprise multilayered stacks of alternating high- and low-index thin films, and a cavity layer for the resonance of incident light. As the number of DBR pairs inside the reflector increases, the FWHM of the transmitted light becomes narrower, but the transmittance of light decreases substantially. Therefore, it is essential to analyze the relationship between the FWHM and transmittance according to the number of DBR pairs. The DBR is made of silicon and silicon dioxide by RF magnetron sputtering on a glass wafer. After the optimal conditions based on simulation results were realized, the DBR exhibited a light transmittance of 38.5% at 4.26 ㎛ and an FWHM of 158 nm. The improved results substantiate the advantages of the low-cost and minimized process compared to expensive commercial filters.
Micro-fluidic chip has been fabricated by lithography process on silicon or glass wafer, casting using PDMS, injection molding of thermoplastics or 3D printing, etc. Among these processes, 3D printing can fabricate micro-fluidic chip directly from the design without master or template for fluidic channel fabricated previously. Due to this direct printing, 3D printing provides very fast and economical method for prototyping micro-fluidic chip comparing to conventional fabrication process such as lithography, PDMS casting or injection molding. Although 3D printing is now used more extensively due to this fast and cheap process done automatically by single printing machine, there are some issues on accuracy or surface characteristics, etc. The accuracy of the shape and size of the micro-channel is limited by the resolution of the printing and printing direction or layering direction in case of SLM type of 3D printing using UV curable resin. In this study, the printing direction and thickness of each printing layer are investigated to see the effect on the size, shape and surface of the micro-channel. A set of micro-channels with different size was designed and arrayed orthogonal. Micro-fluidic chips are 3D printed in different directions to the micro-channel, orthogonal, parallel, or skewed. The shape of the cross-section of the micro-channel and the surface of the micro-channel are photographed using optical microscopy. From a series of experiments, an optimal printing direction and process conditions are investigated for 3D printing of micro-fluidic chip.
Jiha Seong;Hyungmin Kim;Seongmin Shin;Kyunghwan Kim;Jeongsoo Hong
Journal of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers
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v.37
no.3
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pp.253-260
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2024
In this study, ITO thin films were fabricated on a glass substrate at different thicknesses without introducing oxygen using RF sputtering system. The structural, electrical, and optical properties were evaluated at various thicknesses ranging from 50 to 300 mm. As the thickness of deposited ITO thin film become thicker from 50 to 100 mm, carrier concentration, mobility, and band gap energy also increased while the resistivity and transmittance decreased in the visible light region. When the film thickness increased from 100 to 300 mm, the carrier concentration, mobility, and band gap energy decreased while the resistivity and transmittance increased. The optimum electrical properties were obtained for the ITO film 100 nm. After optimizing the thickness, the ITO thin films were post-annealed at different temperatures ranging from 100 to 300℃. As the annealing temperature increased, the ITO crystal phase became clearer and the grain size also increased. In particular, the ITO thin film annealed at 300℃ indicated high carrier concentration (4.32 × 1021 cm-3), mobility (9.01 cm2/V·s) and low resistivity (6.22 × 10-4 Ω·cm). This means that the optimal post-annealing temperature is 300℃ and this ITO thin film is suitable for use in solar cells and display application.
$TiO_{2}$/Se : Te heterojunction for color sensor has been fabricated by RF reactive sputtering and thermal evaporation methods onto glass substrate. The optimum deposition condition of $TiO_{2}$ films was such that RF power was 120 W, substrate temperature was $100^{\circ}C$, oxygen concentration was 50%, working pressure was 50 mTorr for the $TiO_{2}$ film thickness of $1000{\AA}$. In this case, the optical transmittance of $TiO_{2}$ film at 550 nm-wavelength was 85%, resistivity was $2{\times}10^9{\Omega}{\cdot}cm$, refractive index was 2.3, and optical bandgap was 3.58 eV. The composition ratio of 0 to Ti by AES analysis was 1.7. When $TiO_{2}$ films were annealed at $400^{\circ}C$ for 30 min. in $O_{2}$ ambient, the optical transmittance of $TiO_{2}$ films at the wavelength range of $300{\sim}580$ nm was improved from 0 to 25%. When Se : Te films were annealed at $190^{\circ}C$ for 1 min., photosensitivity under illumination of 1000 lux was 0.75. The optical bandgap of Se : Te films was 1.7 eV. The structures of Se : Te films were the hexagonal with (100) and (110) orientation. The spectral response of a-Se was improved by the addition of Te, especially in the long wavelength region. The $TiO_{2}$/Se : Te heterojunction showed wide spectral response, and more improved one than that of a-Si film in the blue light region.
The structural characteristics of Antheraea yamamai and Antheraea pernyi silk were investigated by using x-ray diffraction method, IR spectroscopy and polarizing microscopy. The amino acid composition, fiber density, thermal decomposition temperature and glass transition temperature were also measured for relating these physical properties to the structure in comparison with those of Bombyx mori silk fiber. There was no significant structural difference between A. yamamai and A. pernyi silk fiber on an examination of x-ray diffraction curve and IR spectrum. Both of these wild silk fibers showed double diffraction peaks at the Bragg angle 2Θ16.7˚ and 20.5˚by x-ray diffraction analysis as well as IR absorption peaks for the bending vibration of specific groups related to ala-ala amino acid sequence. On the other hand, the x-ray diffraction curve and IR spectrum of Bombyx mori silk fiber are different from those of wild silk fibers, indicating different crystal structure as well as amino acid sequences. It showed under the polarizing microscope examination that the birefringence and optical orientation factor of wild silk fibers are much lower than those of B. mori silk. Also, the surface of degummed wild silk fibers was characterized by the longitudinal stripes of microfibrils in the direction of fiber axies. The amino acid composition, which is strongly related to the fine structure and properties, was not significantly different between these two wild silk fibers. However, the alanine content was somewhat less and polar amino acid content more for A. yamamai. As a result of fiber density measurement, the specific gravities of B. mori, A. pernyi and A. yamamai were 1.355~1.356, 1.308~1.311, 1.265~1.301g/㎤ in the order, respectively. The calculated crystallinity(%) was 64% for B. mori and 51~52% for wild silk fibers, which showed same trend by IR method in spite of somewhat higher value. The thermal decomposition behaviour was examined by DSC and TGA, showing that the degradation temperature was in the order of B mori, A. prernyi and A. yamamai at around 350$^{\circ}C$. It was also observed by TGA that the decomposition seems to proceed step by step according to their specific regions in the fiber structure, resulting the difference in their thermal stabilities. The glass transition temperature was turned out to be 220$^{\circ}C$ for B. mori, 240$^{\circ}C$ A. yamamai and 255$^{\circ}C$ A. pernyi by the dynamic mechanical analysis. It is expected that the chemical properties are affected by the dynamic mechanical behavior in accordance with their structural characters.
The TiO$_2$ coating solutions were synthesized with different concentrations (T1-0.7N, T2-2.0N) of hydrochloric acid used as catalyst. and TiO$_2$ thin films were prepared by sol-gel dip coating. Their structural and optical properties were examined as a function of calcination temperature. XRD results showed that T1 thin films calcined at 400~80$0^{\circ}C$ had the anatase phase, while those calcined at 100$0^{\circ}C$ had the rutile phase. T2 thin films calcined at 40$0^{\circ}C$ and $600^{\circ}C$ had the anatase phase, with the rutile phase for calcination at 80$0^{\circ}C$. Crystallinity of T2 thin films was superior to that of T1 thin films. The crystallite size of TiO$_2$ thin films increased with increasing calcination temperature, and the crystallite size of anatase phase in T2 thin films was larger than that in T1 thin films, but the crystallite size of rutile phase in T2 thin films was smaller. The surface morphology of the films showed that the films were formed more densely in the rutile phase than in the anatase phase, this phenomenon appeared conspicuously in T2 thin films. The transmittance of the samples with thin films on quartz glass calcined at 100$0^{\circ}C$ was significantly reduced at wavelength range about 300-700 nm due to the increased absorption originating from the change of crystallite phase and composition of the films and the scattering effect originating from increasing crystallite size. The refractive index of TiO$_2$ thin films increased, and hence the film thickness as well as the porosity of TiO$_2$ thin films decreased with increasing calcination temperature. Furthermore, the refractive index of T2 thin films was higher than T1 thin films, and porosity of T2 films was lower.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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