Pandey, Rina;Cho, Se Hee;Hwang, Do Kyung;Choi, Won Kook
Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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2014.02a
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pp.335-335
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2014
Over the past several years, transparent conducting oxides have been extensively studied in order to replace indium tin oxide (ITO). Here we report on fluorine doped zinc tin oxide (FZTO) films deposited on glass substrates by radio-frequency (RF) magnetron sputtering using a 30 wt% ZnO with 70 wt% SnO2 ceramic targets. The F-doping was carried out by introducing a mixed gas of pure Ar, CF4, and O2 forming gas into the sputtering chamber while sputtering ZTO target. Annealing temperature affects the structural, electrical and optical properties of FZTO thin films. All the as-deposited FZTO films grown at room temperature are found to be amorphous because of the immiscibility of SnO2 and ZnO. Even after the as-deposited FZTO films were annealed from $300{\sim}500^{\circ}C$, there were no significant changes. However, when the sample is annealed temperature up to $600^{\circ}C$, two distinct diffraction peaks appear in XRD spectra at $2{\Theta}=34.0^{\circ}$ and $52.02^{\circ}$, respectively, which correspond to the (101) and (211) planes of rutile phase SnO2. FZTO thin film annealed at $600^{\circ}C$ resulted in decrease of resistivity $5.47{\times}10^{-3}{\Omega}cm$, carrier concentration ~1019 cm-3, mobility~20 cm2 V-1s-1 and increase of optical band gap from 3.41 to 3.60 eV with increasing the annealing temperatures and well explained by Burstein-Moss effect. Change of work function with the annealing temperature was obtained by ultraviolet photoemission spectroscopy. The increase of annealing temperature leads to increase of work function from ${\phi}=3.80eV$ (as-deposited FZTO) to ${\phi}=4.10eV$ ($600^{\circ}C$ annealed FZTO) which are quite smaller than 4.62 eV for Al-ZnO and 4.74 eV for SnO2. Through X-ray photoelectron spectroscopy, incorporation of F atoms was found at around the binding energy of 684.28 eV in the as-deposited and annealed FZTO up to 400oC, but can't be observed in the annealed FZTO at 500oC. This result indicates that F atoms in FZTO films are loosely bound or probably located in the interstitial sites instead of substitutional sites and thus easily diffused into the vacuum from the films by thermal annealing. The optical transmittance of FZTO films was higher than 80% in all specimens and 2-3% higher than ZTO films. FZTO is a possible potential transparent conducting oxide (TCO) alternative for application in optoelectronics.
Thin films of $V_2O_3$, $VO_2$, and $V_2O_5$ were obtained from a single precursor solution through post-annealing processes under different annealing conditions. As annealed in air, the deposited films became $V_2O_5$ with orthorhombic crystal structure, while they were $V_2O_3$ and $VO_2$ with rhombohedral and monoclinic crystal structure as annealed in vacuums with base pressure of $1{\times}10^{-6}$ Torr and with 10 mTorr $O_2$ pressure, respectively. Electrical and optical measurements indicated that the $V_2O_5$ and $VO_2$ films are semiconducting, while the $V_2O_3$ films are metallic at room temperature. Chromium doping in $VO_2$ resulted in a decrease of the resistivity and changed the conduction type from n-type to p-type. 10% Cr-doped $VO_2$ films were found to have orthorhombic crystal structure, which is different from that of the undoped $VO_2$. Spectral features in the optical absorption spectra of all the films were interpreted as the transitions involving O 2p and V 3d bands. The crystal-field splittings between $t_{2g}$ and $e_g$ states of the V 3d bands are estimated to be about 1.5 and 1.0 eV for $V_2O_5$ and $VO_2$, respectively.
The Journal of the Korea institute of electronic communication sciences
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v.15
no.4
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pp.665-670
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2020
Buffer layer in CIGS thin-film solar cells improves energy conversion efficiency through band alignment between the absorption layer and the window layer. ZnS is a non-toxic II-VI compound semiconductor with direct-transition band gaps and n-conductivity as well as with excellent lattice matching for CIGS absorbent layers. In this study, the structural and optical properties of ZnS thin films, deposited by RF magnetron sputtering method and subsequently performed by the rapid thermal annealing treatment, were investigated for the buffer layer. The zincblende cubic structures along (111), (220), and (311) were shown in all specimens. The rapid thermal annealed specimens at the relatively low temperatures were polycrystalline structure with the wurtzite hexagonal structures along (002). Rapid thermal annealing at high temperatures changed the polycrystalline structure to the single crystal of the zincblende cubic structures. Through the chemical analysis, the zincblende cubic structure was obtained in the specimen with the ratio of Zn/S near stoichiometry. ZnS thin film showed the shifted absorption edge towards the lower wavelength as annealing temperature increased, and the mean optical transmittance in the visible light range increased to 80.40% under 500℃ conditions.
The Transactions of The Korean Institute of Electrical Engineers
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v.59
no.1
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pp.113-115
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2010
In this study, ZnO films have been grown on PES(polyethersu]fone) substrate by PLD(pulsed laser deposition) and characterized as a change of laser density and substrate temperature. Growing conditions were changed with substrate temperatures ranging from 50 to $200^{\circ}C$ and laser densities ranging from $0.2\sim0.4 J/cm^2$. Optical and structural properties were measured by XRD, SEM, AFM, PL measurement.
Kim, Jong-Kuk;Kim, Do-Geun;Lee, Eun-Sung;Lee, Sung-Hun;Lee, Gun-Hwan
한국정보디스플레이학회:학술대회논문집
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2002.08a
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pp.625-627
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2002
MgO thin films were deposited on glass and (100) Si substrates by an Arc Ion Plating (AIP) equipment using a magnesium metal target at various oxygen gas flow. In this work, we investigated the relationship between the structural properties and the discharge characteristics of MgO coating layers. X-ray diffraction and AFM have been used to study behaviors of the structure and surface morphology. The optical transmittance and the ion induced secondary electron emission coefficient of the MgO films have been also measured. The resistivity of the deposited MgO films was gradually increased from 0.17 G ohm/${\square}$ to 0.35 G ohm/${\square}$ with the oxygen gas flow. The growth rate of the MgO coating layer was decreased with increasing the oxygen gas flow, while the optical transmittance was improved.
The rapid growth of zinc-oxide (ZnO) nanostructures (NSs) on woven carbon fiber (WCF) is reported in this study employing a microwave-aided chemical bath deposition process. The effects of different process parameters such as molar concentration, microwave duration and microwave power on morphologies and growth rate of the ZnO on WCF were studied. Furthermore, an attempt has been taken to study influence of different type of growth solutions on ZnO morphologies and growth rates. The surface functionalization of WCF fabrics is achieved by successful growth of crystalline ZnO on fiber surface in a very short duration through one-step microwave synthesis. The morphological, structural and compositional studies of ZnO-modified WCF are evaluated using field-emission scanning electron microscopy, X-ray diffraction and energy dispersive X-ray spectroscopy respectively. Good amount of zinc and oxygen has been seen in the surface of WCF. The presence of the wurtzite phase of ZnO having crystallite size 30-40 nm calculated using the Debye Scherrer method enhances the surface characteristics of WCF fabrics. The UV-VIS spectroscopy is used to investigate optical properties of ZnO-modified WCF samples by absorbance, transmittance and reflectance spectra. The variation of different parameters such as dielectric constants, optical conductivity, refractive index and extinction coefficient are examined that revealed the enhancement of optical characteristics of carbon fiber for wide applications in optoelectronic devices, carbon fiber composites and photonics.
The optical property, the environmental stability and the crystallization of ZnS thin films prepared by ion-assisted deposition (IAD) were investigated and compared with those of conventional electron-beam deposited thin films. The humidity(R.H. 85%) test and the thermal(15$0^{\circ}C$) show that the IAD films have relatively higher refractive index, smaller extinction coefficient and environmentally more stable than the conventional films. It is believed to originate from the reduced adsorption of moisture which reflect the increased packing density and the improved microstructure by ion bombardment. XRD experiments also confirm that conventionally grown films have an amorphous in comparison with the crystalline structured IAD films.
Karim, Mohammad Rezaul;Lee, Hyun-Woo;Cheong, In-Woo;Park, Sung-Min;Oh, Weon-Tae;Yeum, Jeong-Hyun
Proceedings of the Korean Society of Dyers and Finishers Conference
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2009.03a
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pp.158-159
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2009
Conducting polyaniline (PAni)-titanium dioxide ($TiO_2$) nanocomposites have been synthesized by the inverted emulsion polymerization method. The resultant PAni-$TiO_2$ nanocomposites are characterized with their structural, morphological, conducting and optical properties.
Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference
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2005.11a
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pp.281-282
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2005
The AZO thin film was prepared on flexible substrate by Facing Targets Sputtering method. The substrate used the Polycarbonate(PC), thickness 200$\mu$m. In particular, the AZO thin film was prepared at room temperature because the substrate is weak in heat. The structural, electrical, optical properties of the AZO thin film were investigated and the surface was observed by microscope.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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