We have developed multi-layer passivation films of UV-polymerized film/inorganic composite film to improve the long lifetime of passivated OLEDs for very thin flat panel applications. Preliminary lifetime to half initial luminance ($L_{o}{\sim}\;3,000\;cd/m^2$) of order 300 Hr is achieved on the conventional encapsulated test pixel using a passive matrix drive at room temperature; 570 Hr lifetime is achieved on a de tested multi-layer passivated 9$mm^2$ test pixel.
This study proposes controller with voltage-compensated drivers for producing gray-scaled pictures on passive matrix organic light emitting diodes (PMOLEDs) panels. The controller includes voltage type drivers so the output impedance of the driver is far less than that of the current-type driver. Its low output impedance provides better electron-optical properties than those of traditional current drivers. A free running clock and a group of counters are applied to the gray-scaled function so that phase lock loop (PLL) circuit can be reduced in the controller. A pre-charge function is used to enhance performance of the luminance of an active OLED pixel. As a result, distribution of the low gray level portion is achieved linear relationship with input data. In this work, the digital part of the proposed controller is implemented using FPGA chips, and analog parts are combined with a digital-analog converter (DAC) and analog switches. A still image is displayed on a $48^{\ast}64$ PMOLEDs panel to assess the luminance performance fir the controller. Based on its cost requirement and luminance performance, the controller is qualified to join the market for driving PMOLEDs panels.
Jo Jeong-Dai;Kim Kwang-Young;Lee Eung-Sug;Choi Byung-Oh
Proceedings of the Korean Society of Precision Engineering Conference
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2005.06a
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pp.1511-1513
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2005
The polymer-light emtting diodes(PLEDs) were comprised a design of OLED array, process develop by using ITO thin glass, and fabrication of PDMS stamp by using nanocontact printing. In the study, we describe a different approach for building OLEDs, which is based on physical lamination of thin metal electrodes supported by a PDMS stamp layer against an electroluminescent organic. We develop that devices fabricated in this manner have better performance than those constructed with standard processing techniques. The lamination approach avoids forms of disruption that can be introduced at the electrode organic interface by metal evaporation and has a reduced sensitivity to pinhole or partial pinhole defects. Also, it is easy to build patterned PLED with feature sizes into the nanometer regime. This method provides a new route to PLED for applications ranging from high performance displays to storage and lithography systems, and PLED can used for organic electronics and flexible display.
Proceedings of the Korean Society Of Semiconductor Equipment Technology
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2007.06a
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pp.34-38
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2007
청, 황 2-파장 발광층의 구성에서 청색층으로 GDI602를, 황색층으로 GD1602:Rubrene(10%)를 사용하여 2-파장 백색 유기발광다이오드(WOLED)를 제작하고 이들의 특성을 분석하였다. 실험에서는 GDI602:Rubrene (10%)-황색층의 두께를 $220\{AA}$으로 일정하게 두고, GDI602-청색층의 두께를 달리하여 소자들을 제작하였다. 제작된 소자들의 발광 스펙트럼 특성으로는 GDI602 층의 두께에 따라 중심파장의 위치는 거의 일정하나 2-파장 사이의 상대적 세기가 변화되었으며, GDI602 층의 두께가 얇아질수록 황색파장의 상대적 세기가 강해지는 것을 볼 수 있었다. GDI602 층이 $60{\AA}$인 소자는 11V, $70{\AA}$인 소자는 9V, $80{\AA}$인 소자는 8V, $90{\AA}$인 소자는 7V 에서 순수 백색광(x=0.33, y=0.33)에 가까운 발광 특성을 나타내었다. 또한 GDI602 층의 두께에 따른 효율과 휘도는 백색발광 조건에서 각각 0.51m/W와 $3650cd/m^2(60{\AA})$, 0.61m/W와 $1050cd/m^2(70{\AA})$, 0.91m/W와 $490cd/m^2(80){\AA}$, 1.61m/W와 $250cd/m^2(90){\AA}$을 나타내었다.
Yoon, Jhin-Yeong;Lee, Jeong Seob;Yoon, Seung Soo;Kim, Young Kwan
Bulletin of the Korean Chemical Society
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v.35
no.6
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pp.1670-1674
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2014
Two red emitters, 2-(7-(4-(diphenylamino)styryl)-2-methyl-4H-chromen-4-ylidene)malonitrile (Red 1) and 2-(7-(julolidylvinyl)-2-methyl-4H-chromen-4-ylidene)malonitrile (Red 2) have been designed and synthesized for application as red-light emitters in organic light emitting diodes (OLEDs). In these red emitters, the julolidine and triphenyl moieties were introduced to the emitting core as electron donors, and the chrome-derived electron accepting groups such as 2-methyl-(4H-chromen-4-ylidene)malononitrile were connected to electron donating moieties by vinyl groups. To explore the electroluminescence properties of these materials, multilayered OLEDs using red materials (Red 1 and Red 2) as dopants in $Alq_3$ host were fabricated. In particular, a device using Red 1 as the dopant material showed maximum luminous efficiencies and power efficiencies of 0.82 cd/A and 0.33 lm/W at $20mA/cm^2$. Also, a device using Red 2 as a dopant material presented the CIEx,y coordinates of (0.67, 0.32) at 7.0 V.
The characteristics of $Al_2O_3/Ag/Al_2O_3$ multilayer passivaton prepared by twin target sputtering (TTS) system for organic light emitting diodes. The $Al_2O_3/Ag/Al_2O_3$ multilayer thin film passivation on a PET substrate had a high transmittance of 86.44 % and low water vapor transmission rate (WVTR) of $0.011\;g/m^2$-day due to the surface plasmon resonance (SPR) effect of Ag interlayer and effective multilayer structure for preventing the intrusion of water vapor. Using synchrotron x-ray scattering and field emission scanning electron microscope (FESEM) examinations, we investigated the growth behavior of Ag layer on the $Al_2O_3$ layer to explain the SPR effect of the Ag layer. This indicates that an $Al_2O_3/Ag/Al_2O_3$ multilayer passivation is a promising thin film passivation scheme for organic based flexible optoelectronics.
Deep-blue organic light-emitting diodes (OLEDs) with/without ultra-thin LiF layer inserted at the interface between hole-blocking and electron-transporting layers have been fabricated and investigated. The fundamental structures of the OLEDs are ITO/m-MTDATA/NPB/BCP/LiF (with/ without)/ $Alq_3/LiF/Al.Deep$ blue light emission with CIE coordinate of (0.15, 0.11) has been achieved for all devices. Further, by inserting LiF with thickness of 1nm at the interface between BCP and $Alq_3$ layer, the luminous efficiency as well as the power efficiency is much improved compared to that without. The enhancement of electron injection due to insertion of LiF may account for this improvement.
Jo, Jeong-Dai;Choi, Ju-Hyuk;Kim, Kwang-Young;Lee, Eung-Sug;Esashi, Masayoshi
한국정보디스플레이학회:학술대회논문집
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2006.08a
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pp.186-189
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2006
The flexible organic thin film transistor (OTFT) array to use as a switching device for an organic light emitting diode (OLED) was designed and fabricated in the microcontact printing and room temperature process. The gate, source, and drain electrode patterns of OTFT were fabricated by microcontact printing process. The OTFT array with dielectric layer and organic active semiconductor layer formed at room temperature or at a temperature lower than $40^{\circ}C$. The microcontact printing process using SAM and PDMS stamp made it possible to fabricate OTFT arrays with channel lengths down to even submicron size, and reduced the fabrication process by 10 steps compared with photolithography. Since the process was done in room temperature, there was no pattern shrinkage, transformation, and bending problem appeared. Also, it was possible to improve electric field mobility, to decrease contact resistance, to increase close packing of molecules by SAM, and to reduce threshold voltage by using a big dielectric.
In this paper, the inorganic multi-layer encapsulation of thin film was newly adopted to protect the organic layer from moisture and oxygen. Using the electron beam, Sputter, inorganic multi-layer thin-film encapsulation was deposited onto the Ethylene Terephthalate(PET) and their interface properties between inorganic and organic layer were investigated. In this investigation, the SiON $SiO_2$ and parylene layer showed the most suitable properties. Under these conditions, the water vapor transmission rate (WVTR) for PET can be reduced from level of $0.57g/m^2/day$ (bare substrate) to $1^{\ast}10^{-5}g/m^2/day$ after application of a SiON and $SiO_2$ layer. These results indicate that the $PET/SiO_2/SiON/Parylene$ barrier coatings have high potential for flexible organic light-emitting diode(OLED) applications.
Kim, Hyun-Jae;Diep, Bui Van;Bonnassieux, Yvan;Djeridane, Yassine;Abramov, Alexey;Pere, Roca i Cabarrocas
한국정보디스플레이학회:학술대회논문집
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2005.07b
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pp.1025-1028
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2005
Microcrystalline Si (${\mu}c-Si$) TFTs were fabricated using a conventional bottom gate amorphous Si (a-Si) process. A unique ${\mu}c-Si$ deposition technique and TFT architecture was proposed to enhance the reliability of the TFTs. This three-mask TFT fabrication process is comparable with existing a-Si TFT procesess. In order to suppress nucleation at the bottom interface of Si, before deposition of the ${\mu}c-Si$ an $N_2$ plasma passivation was conducted. A typical transfer characteristic of the TFTs shows a low off-current with a value of less than 1 pA and a sub threshold slop of 0.7 V/dec. The DC stress was applied to verify the use of ${\mu}c-Si$ TFTs for AMOLED displays. After 10,000 s of application of the stress, the off-current was even lowered and sub-threshold slope variation was less than 5%. For AMOLED displays, OLED pixel simulation was performed. A pixel current of 13 ${\mu}A$ was achieved with $V_{data}$ of 10 V. After the simulation, a linear equation for the pixel current was suggested.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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