• 제목/요약/키워드: O-plasma treatment

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Ar/Ar-$H_2$ 플라즈마에 의한 Nb금속제조와 Nb금속의 수소용해 (A Study on the Carbothermic Reduction of Nb-Oxide and the refining by Ar/Ar-$H_2$ plasma and Hydrogen solubility of Nb metal)

  • 정용석;홍진석;김문철;백홍구
    • 한국재료학회지
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    • 제3권6호
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    • pp.565-574
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    • 1993
  • Ar/Ar-$H_{2}$ 플라즈마법으로 고순도 Nb금속을 환원 정련하였다. 또한, Ar-(20%)$H_{2}$플라즈마에서의 용융Nb금속과 수소간의 반응을 해석하였다. Ar플라즈마 환원에서는 $C/Nb_{2}O_{5}$=5.00의 비에서 99.5wt%의 금속 Nb을 얻었으며, 니오븀 산화물의 열분해에 의한 O/Sub 2/의 손실은 발생하지 않았다. Ar-(20%)$H_{2}$ 플라즈마에서는 $C/Nb_{2}O_{5}$=4.80의 비에서 99.8wt%의 금속 Nb을 제조하였다. 주된 탈산반응은 H, $H_{2}$와의 반응이었으며,$NbO_{x}$의 증발에 의한 탈산은 발생하지 않았으나, "splash"효과에 의해 Nb의 질량손실이 발생함을 관찰하였다. 탈산반응은 1차 반응속도론에 따랐으며, 탈산의 반응속도 상수(k')는 $7.8 \times 10_{-7}$(m/sec)였다. Ar-(20%)$H_{2}$ 플라즈마법에서 Nb금속 내의 수소 용해도는 60ppm으로 분자상태 수소의 용해도인 40ppm 보다 높았으며, 포화되는 시간은 60초 이내였다. 이를 다시 Ar 플라즈마로 처리함으로써 수소 함량을 10ppm 이하로 감소시킬 수 있었다.소시킬 수 있었다.

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플라즈마 조건 변화에 따른 ITO 특성 분석 및 유기발광소자의 제작에 관한 연구 (A Study on the Characteristic Analysis of ITO and the Fabrication of Organic Light Emitting Diodes by Variation of Plasma Condition)

  • 김중연;강성종;조재영;김태구;오환술
    • 한국전기전자재료학회논문지
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    • 제18권10호
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    • pp.941-944
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    • 2005
  • In this experiment, OLEDs(Organic Light Emitting Diodes) was fabricated to confirm effect of Plasma treatment which increase the hole injection characteristic from anode. Device structure was $ITO/2-TNATA/{\alpha}-NPD/DPVBi/BAlq/Alq_3/Al:Li$. We used DPVBi (4, 4 - Bis (2,2-diphenylethen-1-yls) - Biphenyl) as a blue emitting material. To optimize the process condition of plasma treatment, we used 2 gases of the oxygen and nitrogen gas under 120 mTorr with 100 W, 200 W, and 400 W plasma power. The current efficiency of $N_2$ plasma is more efficient than that of $O_2$ plasma. At $1000 cd/m^2$, we obtained the maximum current efficiency of 6.45 cd/A using $N_2$ gas with 200 W plasma power.

Effect of cold plasma treatment on the quantitative compositions of silkworm powder

  • Jo, You-Young;Seo, YoungWook;Lee, Young Bo;Kim, Seong-Ryul;Kweon, HaeYong
    • International Journal of Industrial Entomology and Biomaterials
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    • 제38권2호
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    • pp.25-30
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    • 2019
  • Atmospheric-pressure plasma technique is a technology for sterilizing agricultural product. In this study, dielectric barrier discharge plasma was applied to silkworm powder for 1 to 5 h with less than 2 ppm of $O_3$ and $NO_2$. Quantitative compositions including proximate contents, mineral and heavy metal contents, fatty acids, vitamins, and DNJ contents were measured. Proximate contents of silkworm powder were protein (57.2%), fat (9.9%), fiber (4.6%), ash (10.1%), and moisture (5.7%). These compositions were not affected by the treatment of plasma. Silkworm powder has 5 abundant minerals potassium (K), phosphorus (P), sulfur (S), calcium (Ca), and magnesium (Mg). Among these minerals, plasma treatment decreased the contents of P and S sharply from 732.3 to 176.8, and 492.7 to 185.2 mg/100g, respectively. Heavy metal contents including lead (Pb), cadmium (Cd), arsenic (As), and mercury (Hg) were not detected in the silkworm powder. Five vitamins such as ascorbic acid (13.6 mg/100g), riboflavin (5.4 mg/100g), ${\beta}$-carotene (1.8 mg/100g), niacin (0.6 mg/100g), and thiamine (0.4 mg/100g) were not significantly changed by plasma treatment. Silkworm powder is composed of 30 parts saturated fatty acids and 70 parts unsaturated ones. The fatty acid composition was not significantly changed by plasma treatment. The DNJ content of silkworm powder (3.72 mg/g) was also nearly constant within the experimental condition of plasma treatment.

Study of Plasma Treatments to Increase Work Function of Multilayer Graphene Film

  • Maeng, Min-Jae;Kim, Ji-Hoon;Kwon, Dae-Gyeon;Hong, Jong-Am;Park, Yongsup
    • 한국진공학회:학술대회논문집
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    • 한국진공학회 2014년도 제46회 동계 정기학술대회 초록집
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    • pp.198.2-198.2
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    • 2014
  • We investigated change of the electronic structure, chemical states and elements ratio in graphene film by using photoelectron spectroscopy (PES). The graphene electrode has attracted considerable interest due to its possible applications in flexible organic light emitting diodes (F-OLEDs). However, to use the graphene for OLEDs, sufficient increase of work function is required, that is related with hole injection barrier. Plasma treatment is one of the most widely used method in OLEDs to increase the work function of the anode such as indium tin oxide (ITO). In this work, we used the plasma treatment, which is generated by various gas types such as O2, and Ar to increase the work function of the graphene film. From these results, we discuss the relation among the change of work function, plasma power, plasma treatment time and gas types.

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아르곤과 산소 대기압 플라즈마 방전 효과를 이용한 살균처리 (Treatment of Ar/O2 Atmospheric Pressure Plasma for Sterilization)

  • 손향호;이원규
    • 공업화학
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    • 제22권3호
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    • pp.261-265
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    • 2011
  • 아르곤과 산소 대기압 플라즈마를 이용한 미생물인 E. coli의 살균효과를 분석하였다. 유전체 격막 방전 형태의 플라즈마 반응기는 아르곤과 산소 혼합기체에서 균일한 플라즈마 방전과 오존 생성에 효과적이었다. 직접적인 대기압 플라즈마 조사에 따른 E. coli의 살균처리 공정에서 산소에 대한 혼합비와 인가전력의 증가는 방전기체의 오존 발생농도를 높여 미생물의 살균효과를 증가시켰다. 반응기와 시료와의 거리는 살균효과를 증가하기 위하여 가급적 작게 하는 것이 효율적이었다. 본 연구를 통하여 대기압 플라즈마는 오존과 같은 산화촉진제의 발생으로 저온에서 E. coli와 같은 미생물을 효과적으로 살균할 수 있어 기존의 살균법을 대체 할 수 있는 차세대 살균기술로서의 개발 가능성을 확인 할 수 있었다.

Polymerization of Tetraethoxysilane by Using Remote Argon/dinitrogen oxide Microwave Plasma

  • Chun, Tae-Il;Rossbach, Volker
    • 한국염색가공학회지
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    • 제21권3호
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    • pp.19-25
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    • 2009
  • Polymerization of tetraethoxysilane on a glass substrate was investigated by remote microwave plasma using argon with portions of nitrous oxide as carrier gas. Transparent layer like a thickness of 0.5 ${\mu}m$ 3 ${\mu}m$ were obtained, differing in chemical composition, depending on plasma power and treatment time as well as on ageing time. In general the milder the treatment and the shorter the ageing was, the higher was the content of organic structural elements in the layer. We have identified that the chemical structure of our samples composed of mainly Si O and Si C groups containing aliphatics, carbonyl groups. These results were obtained by X ray photon spectroscopy, Fourier transformed infrared spectroscopy, and scanning electron microscope combined with Energy dispersive X ray spectroscopy.

The Effect of Etching on Low-stress Mechanical Properties of Polypropylene Fabrics under Helium/Oxygen Atmospheric Pressure Plasma

  • Hwang, Yoon J.;An, Jae Sang;McCord, Marian G.;Park, Shin Woong;Kang, Bok Choon
    • Fibers and Polymers
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    • 제4권4호
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    • pp.145-150
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    • 2003
  • Polypropylene nonwoven fabrics were exposed to He/$O_2$ atmospheric pressure glow discharge plasma. Surface chemical analysis and contact angle measurement revealed the surface oxidation by formation of new functional groups after plasma treatment. Weight loss (%) measurement and scanning electron microscopy analysis showed a significant plasma etching effect. It was investigated in low-stress mechanical properties of the fabrics using Kawabata Evaluation System (KES-FB). The surface morphology change by plasma treatment increased surface friction due to an enhancement of fiber-to-fiber friction, resulting in change of other low-stress mechanical properties of fabric.

IGZO 박막 표면의 수소 이온 빔 처리 효과

  • 이승수;민관식;윤주영;오은순;정진욱;김진태
    • 한국진공학회:학술대회논문집
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    • 한국진공학회 2014년도 제46회 동계 정기학술대회 초록집
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    • pp.154.1-154.1
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    • 2014
  • Indium gallium zinc oxide (IGZO)는 차세대 디스플레이 평판 패널에 사용되는 반도체 화합물의 일종으로 최근 주목받고 있는 물질의 하나이다. 기존의 IGZO를 사용하여 박막을 증착한 뒤 표면 처리를 통해 박막의 특성 변화에 대한 연구들이 진행되어 왔으며, 기존의 연구들은 plasma 환경에 노출을 시켜 간접적인 plasma treatment를 통해 박막의 특성을 향상시켜 왔다. 본 연구에서는 기존의 plasma treatment에서 발견된 방식인 ion beam treatment를 통해 플라즈마를 직접적으로 표면에 조사하여 박막의 특성 변화를 알아보았다. 한국표준과학연구원에서 자체 제작한 chamber를 이용하여 RF sputter로 Si wafer 위에 IGZO 박막을 증착하고 수소 ion beam treatment를 한 뒤, SEM과 XPS를 사용하여 박막 표면의 물성 변화를 분석하였다. 실험에 사용된 chamber에는 sputter gun과 ion beam이 함께 장착되어 있으며, scroll pump와 TMP를 사용하여 pressure를 유지하였다. 실험 시 base pressure는 $1.4{\times}10^{-6}Torr$였다. RF power 150 W. ion beam power 2,000 V에서 실험을 진행하였다.

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열처리된 ZnO:Al 투명도전막의 전기적 및 광학적 특성 (Electrical and Optical Properties of Heat Treated ZnO:Al Transparent Conductive Films)

  • 유권규;김정규;박기철
    • 센서학회지
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    • 제8권2호
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    • pp.189-194
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    • 1999
  • 고주파 마그네트론 스퍼터링법으로 증착된 순수한 ZnO 박막 및 Al이 포핑된 ZnO(AZO) 박막의 열처리온도 및 열처리분위기에 따른 전기적 및 광학적 특성을 4점 측정법 및 Hall 효과 측정법을 통한 비저항의 측정과 광투과도의 측정을 통하여 조사하였다. 대기중에서 열처리된 ZnO 박막 및 ZnO:Al 박막은 각각 $200^{\circ}C$$300^{\circ}C$에서 비저항이 현저하게 증가하였으며 수소 플라즈마 분위기에서 열처리된 ZnO 박막은 $500^{\circ}C$의 열처리온도에서 약 1승 정도 비저항이 증가하였으나 ZnO:Al 박막은 열처리온도에 무관하게 비저항이 거의 일정하였다. 550 nm 에서 측정된 광투과도는 90% 정도로 시편의 불순물도핑, 열처리온도 및 열처리분위기에 무관하게 일정한 것으로 나타났다.

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