Since earlier in 1947 the writer had been devoting part of his time to study alluvial fans in Korea based on his own interest in geomorphology. However, it was in 1958 when a new geography department was set up and the Research Center of National Lands was established in the university of Kyung Hee, the writer started scientific investigation for alluvial fans. The Following alluvial fans have been studied by the writer: those of Mt. Kwanak and Mt. Chungge in 1947; those of Pulkuksa in 1948; those of Suhnamsa, Suh Myun, Pusan in 1950; those of Shindonae, Mt. Kerrong, in summer of 1958; those of Hwaomsa, Kure and Yongsan Myun, Changhung, in winter of 1958. The article is the comparative study of the above mentioned alluvial fans including Suhkwangsa Fan, Chugaryng Rift Valley. Of course this is not the study covering all af alluvial fans in Korea. Within the limits of his surbey, the writer has com to a conclusion which may be helpful for the Korean alluvial fm study. 1. Korean alluvial fans are generally found in rift valleys or basins. 2. They are formed in places of below 220-meter contour line. 3. The slope from fna apex to river valley is 20-40 degree. The slope of fan surface is 5-20 degree, but most of them under 16 degree. A sudden change of slope is taken place or the fan apex and fan center. 4. Hills (100-200m) are developed on the surfaces of alluvial fans. 5. Most of rivers in alluvial fans are geyser rivers. 6. The depth of well : from ground surface to the well water surface is 4-8 m; water depth is 1-2m. 7. Land utilization; cultivated land 30%: non cultivatedland 70%. The area occupied by upland fields is twice of paddy field area. 8. Settlement : agglomerated settlement is developed on the top or the end of fan and surrounded by windbreakers. 9. Farming pattern at the top of fan fields are rectangular and parallel to flumes but at the center of fan, they are irregular and perpendicular to flumes.
We investigate the crystallographic orientation and strain states of the Ni/Ag ohmic contacts on p-type GaN. The Ag film in the Ni/Ag contact was severely agglomerated during high temperature annealing in air ambient. As a results, after annealing for 24 h, the Ni/Ag contact shows non-linear I-V curve and low light reflectance of ~21% at 460 nm wavelength. High-resolution X-ray diffraction results show that the interplanar spacing of Ag (111) planes is almost same to that of bilk Ag after annealing for 24 hrs, indicating that the in-plane tensile strain in the Ag film was fully relaxed due to the Ag agglomeration.
Journal of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers
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v.20
no.4
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pp.308-317
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2007
We fabricated thermally-evaporated 10 nm-Ni/(poly)Si and 10 nm-$Ni_{0.5}Co_{0.5}$/(Poly)Si structures to investigate the microstructure of nickel silicides at the elevated temperatures required lot annealing. Silicides underwent rapid annealing at the temperatures of $600{\sim}1100^{\circ}C$ for 40 seconds. Silicides suitable for the salicide process formed on top of both the single crystal silicon actives and the polycrystalline silicon gates. A four-point tester was used to investigate the sheet resistances. A transmission electron microscope and an Auger depth profilescope were employed for the determination of vortical microstructure and thickness. Nickel silicides with cobalt on single crystal silicon actives and polycrystalline silicon gates showed low resistance up to $1100^{\circ}C$ and $900^{\circ}C$, respectively, while the conventional nickle monosilicide showed low resistance below $700^{\circ}C$. Through TEM analysis, we confirmed that a uniform, $10{\sim}15 nm$-thick silicide layer formed on the single-crystal silicon substrate for the Co-alloyed case while a non-uniform, agglomerated layer was observed for the conventional nickel silicide. On the polycrystalline silicon substrate, we confirmed that the conventional nickel silicide showed a unique silicon-silicide mixing at the high silicidation temperature of $1000^{\circ}C$. Auger depth profile analysis also supports the presence of this mixed microstructure. Our result implies that our newly proposed NiCo-alloy composite silicide process may widen the thermal process window for the salicide process and be suitable for nano-thick silicides.
Once a site is contaminated with polychlorinated biphenyls (PCBs), serious environmental and human health risks are inevitable. Therefore, innovative but economical in situ remediation technologies must be immediately applied to the contaminated site. Recently, nanoscale zero-valent iron (nano-ZVI) particles have successfully been applied for the dechlorination of various chlorinated organic compounds like TCE, PCE and DDT, and they are considered to be environmentally safe due to the high abundance of iron in the earth's crust. Nano-ZVIs are much more reactive than granular ones, but tend to agglomerate due to their high surface energy and magnetic properties. In order to prevent them from being agglomerated toward larger particles, TiO2 was used as a support to immobilize the nano-ZVI particles as much as possible. 10wt% ZVI/TiO2 was prepared by adding NaBH4 slowly into an FeSO4/TiO2 aqueous slurry. In spite of their non-uniformity in size, the nano-ZVI particles were quite successfully dispersed onto the exterior surface of a non-porous TiO2 powder. The ZVI/TiO2 was then employed to degrade Aroclor 1242, a kind of PCBs standard, in spiked soil, and its reactivity towards the degradation of Aroclor 1242 was investigated. The fabricated ZVI/TiO2 degraded Aroclor 1242 in soil quite effectively, but the creation of remaining dechlorinated compounds, possibly high molecular weight hydrocarbons, in the soil was unavoidable.
Journal of the Korea Academia-Industrial cooperation Society
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v.17
no.4
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pp.772-779
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2016
Silver nanoparticles were prepared by reacting silver nitrate and trisodium citrate in an aqueous solution. Their size and shape were investigated by scanning electron microscopy (SEM). The synthesis was carried with different silver nitrate concentration, addition of TSC, solvent, surfactant, ultrasonication, and dispersing agent. With higher concentration of silver nitrate or TSC, the particles became large or agglomerated. The SEM results showed that the nanoparticles have spherical and pseudospherical shape with a narrow size distribution. The hydrophobic solvent did not affect the dispersibility, but the hydrophilic solvent enhanced it. The addition of HPMC surfactant caused the size to increase (50-100 nm) with non-uniform shapes and partial agglomeration. The dispersibility was significantly improved by ultrasonication for over 3 hours after the addition of a dispersing agent. Complete dispersion was achieved by adding the dispersant, and the nanoparticle sizes were as follows: 30-40 nm (BYK-182) < 42-78 nm (BYK-192) < 51-113 nm (BYK-142). The nanoparticles were 38.45-46.28 nm after the addition of 2-4 wt% TSC in 0.002 M silver nitrate solution.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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