Son, Seong Ho;Kim, Jin Hwa;Kim, Hyun-Jong;Kim, Sun Jung;Lee, Man Seung
Resources Recycling
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v.23
no.4
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pp.21-29
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2014
Nickel, cobalt and manganese-based(NCM, $Li(Ni_xCo_yMn_z)O_2$) cathode active materials of spent lithium-ion batteries contained valuable metals such as cobalt(15 ~ 20%), nickel(25 ~ 30%), manganese(10 ~ 15%) and lithium(5 ~ 10%). It was investigated the eco-friendly leaching process for the recovery of valuable metal from spent lithium-ion battery NCM cathode active materials by DL-malic acid($C_4H_5O_6$) as an organic leachant in this research. The experiments were carried out to optimize the process parameters for the recovery of cobalt, nickel and lithium by varying the concentration of lixivant, reductant concentration, solid/liquid ratio and temperature. The leaching solution was analyzed using ICP-OES(Inductively Coupled Plasma Optic Emission Spectrometer). Cathode active materials of 5 wt. % were introduced into the leaching solution which was 2 M DL-malic acid in addition of 5 vol. % $H_2O_2$ at $80^{\circ}C$ and it resulted in the recovery of 99.10% cobalt, 99.80% nickel and 99.75% lithium in 120 min. $H_2O_2$ in DL-malic acid solution acts as an effective reducing agents, which enhance the leaching of metals.
The use of plated front contact for metallization of silicon solar cell may alternative technologies as a screen printed and silver paste contact. This technologies should allow the formation of contact with low contact resistivity a high line conductivity and also reduction of shading losses. The better performance of Ni/Cu contacts is attributed to the reduced series resistance due to better contact conductivity of Ni with Si and subsequent electroplating of Cu on Ni. The ability to pattern narrower grid lines for reduced light shading combined with the lower resistance of a metal silicide contact and improved conductivity of plated deposit. This improves the FF as the series resistance is deduced. This is very much required in the case of low concentrator solar cells in which the series resistance is one of the important and dominant parameter that affect the cell performance. A selective emitter structure with highly dopes regions underneath the metal contacts, is widely known to be one of the most promising high-efficiency solution in solar cell processing. This paper using selective emitter structure technique, fabricated Ni/Cu plating metallization cell with a cell efficiency of 17.19%.
The structural and optical properties of Ni-doped transparent glass-ceramics are reviewed. The quantum efficiencies of ceramics were examined to explore suitable crystalline phase for Ni-doping in glass-ceramics. Inverse spinel $LiGa_5O_8$ have the quantum efficiency of almost 100 % at room temperature. Transparent glass ceramics containing $LiGa_5O_8$ was successfully synthesized by heat treatment of $Li_2O-Ga_2-O_3-SiO_2-NiO$ glass. Most of $Ni^{2+}$ ions in glass-ceramic were incorporated into $LiGa_5O_8$ nanocrystals. The near-infrared emission covering from the O-band to L-band (1260-1625 nm) was observed from the Ni-doped $Li_2O-Ga_2O_3-SiO_2$ glass-ceramic though it was not observed from the as-cast glass. The lifetime of the emission was about $580\;{\mu}sec$ even at 300K. The emission quantum efficiency was evaluated as about 10 % that is enough high for practical usage as gain media of optical fiber amplifiers. The figure of merit (the product of the stimulated emission cross section and lifetime) was as high as that of rare-earth-doped glasses. The broad bandwidth, high quantum efficiency and high figure of merit show that transparent glass-ceramics containing $Ni^{2+}:LiGa_5O_8$ nanocrystals are promising candidates as novel ultra-broadband gain media.
The new metrology, Advanced Poly-silicon Ultra-Trace Profiling (APUTP), was developed for measuring bulk Cu and Ni in heavily boron-doped silicon wafers. A Ni recovery yield of 98.8% and a Cu recovery yield of 96.0% were achieved by optimizing the vapor phase etching and the wafer surface scanning conditions, following capture of Cu and Ni by the poly-silicon layer. A lower limit of detection (LOD) than previous techniques could be achieved using the mixture vapor etching method. This method can be used to indicate the amount of Cu and Ni resulting from bulk contamination in heavily boron-doped silicon wafers during wafer manufacturing. It was found that a higher degree of bulk Ni contamination arose during alkaline etching of heavily boron-doped silicon wafers compared with lightly boron-doped silicon wafers. In addition, it was proven that bulk Cu contamination was easily introduced in the heavily boron-doped silicon wafer by polishing the wafer with a slurry containing Cu in the presence of amine additives.
Park, Joong-Hark;Kim, Geon-Hong;Lee, Dong-Jin;Hong, Soon-Jik
Journal of Powder Materials
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v.24
no.5
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pp.389-394
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2017
Ni wires with a diameter and length of 0.4 and 100 mm, respectively, and a purity of 99.9% are electrically exploded at 25 cycles per minute. The Ni nanopowders are successfully synthesized by a pulsed wire evaporation (PWE) method, in which Ar gas is used as the ambient gas. The characterization of the nanopowders is carried out using X-ray diffraction (XRD) and a high-resolution transmission electronmicroscope (HRTEM). The Ni nanopowders are classified for a multilayer ceramic condenser (MLCC) application using a type two Air-Centrifugal classifier (model: CNI, MP-250). The characterization of the classified Ni nanopowders are carried out using a scanning electron microscope (SEM) and particle size analysis (PSA) to observe the distribution and minimum classification point (minimum cutting point) of the nanopowders.
Journal of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers
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v.19
no.11
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pp.1000-1004
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2006
In this paper, thermal stability of Ni-silicide formed on the SOI substrate with $B_{11}$ has been characterized. The sheet resistance of Ni-silicide on un-doped SOI and $B_{11}$ implanted bulk substrate was increased after the post-silicidation annealing at $700^{\circ}C$ for 30 min. However, in case of $B_{11}$ implanted SOI substrate, the sheet resistance showed stable characteristics after the post-silicidation annealing up to $700^{\circ}C$ for 30 min. The main reason of the excellent property of $B_{11}$ sample is believed to be the retardation of Ni diffusion by the boron and bottom oxide layer of SOI. Therefore, retardation of Ni diffusion is highly desirable lot high performance Ni silicide technology.
[ $Ni_2Si$ ] mixed powders were mechanically alloyed by a ball mill and then processed by hot isostatic pressing (HIP) and spark plasma sintering (SPS). In the powder that was mechanically alloyed for 15minutes(MA 15 min), only Ni and Si were observed but in the powder that was mechanically alloyed for 30minutes(MA 30 min), $Ni_2Si$, Ni and Si were mixed together. Some of the MA 15 min powder and MA 30 min powder were processed by HIP under pressure of 150MPa at the temperature of $1000^{\circ}C$ for two hours and some of them were processed by SPS under pressure of 60 MPa at the temperature of $1000^{\circ}C$ for 60 seconds. Both methods completely compounded the powders to $Ni_2Si$. The maximum density of sintered lumps by HIP method was 99.5% and the maximum density of the sintered lump by SPS method was 99.3%. with the hardness of HRc 66 with the hardness of HRc 63. Therefore, the SPS method that can sinter in short time at low cost is considered to be more economical that the HIP method that requires complicated sintering conditions and high cost and the sintering can produce target materials in desired sizes and shapes to be used for thin film.
This study describes a synthesis of spinel-type $Fe_3O_4$ for decomposition of carbon dioxide, using $Fe_3O_4$$7H_2O$ and NaOH, at $40^{\circ}C$ for 20 h. with change of their chemical equivalent ratio from 0.50 to 0.75, 1.00, 1.25 and 1.50, respectively. Addition of 0.1-1.00 mole percentage $NiCl_2,\;RhCl_3$ to the particles of $Fe_3O_4$, Prepared by reacting chemical equivalent ratio 1.00, afforced spinel $Fe_3O_4$. The structure of $Fe_3O_4$ and $NiCl_2,\;RhCl_3$-added $Fe_3O_4$ was investigated with XRD and SEM, respectively.
The design and fabrication of catalysts with low-cost and high electrocatalytic activity for the oxygen evolution reaction (OER) have remained challenging because of the sluggish kinetics of this reaction. The key to the pursuit of efficient electrocatalysts is to design them with high surface area and more active sites. In this work, we have successfully synthesized a highly stable and active NiCo2S4 nanowire array on a Ni-foam substrate (NiCo2S4 NW/NF) via a two-step hydrothermal synthesis approach. This NiCo2S4 NW/NF exhibits overpotential as low as 275 mV, delivering a current density of 20 mA cm-2 (versus reversible hydrogen electrode) with a low Tafel slope of 89 mV dec-1 and superior long-term stability for 20 h in 1 M KOH electrolyte. The outstanding performance is ascribed to the inherent activity of the binder-free deposited, vertically aligned nanowire structure, which provides a large number of electrochemically active surface sites, accelerating electron transfer, and simultaneously enhancing the diffusion of electrolyte.
Cho, Jin Ki;Park, Sang Wook;Kang, Seung Goon;Son, Seong-Ho
Korean Journal of Metals and Materials
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v.46
no.11
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pp.725-729
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2008
Deposition characteristics of electroless plated Ni-W-P films were investigated for various complexing agents. Used complexing agents are sodium citrate, sodium gluconate and sodium malonate. In this study, the existing mixed potential theory could explain the overall mechanism of Ni-W-P electroless plating for all complexing agents. The deposition rate could be also expected by the theory. The deposited Ni-W-P films were evaluated in term of surface hardness and corrosion resistance. Microhardness of the deposit increased about 1,000 Hv after heat treatment for one hour at $400^{\circ}C$, because it was above the crystallization temperature of $Ni_3P$. The deposited Ni-W-P films can exhibit excellent corrosion resistance in using sodium malonate as a complexing agent, the other hand the using sodium gluconate was the worst corrosion resistance. The worst corrosion resistance was due to a large number of nano-sized pin-holes or small pores. The plating current at the mixed potential increases when the using sodium malonate as a complexing agent, it was explained by the cross section.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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