A Stacked Polusilicon Structure by Nitridation in N2 Atmosphere for Nano-scale CMOSFETs (나노 CMOS 소자 적용을 위한 질소 분위기에서 형성된 질화막을 이용한 폴리실리콘 적층 구조)
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- Journal of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers
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- v.18 no.11
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- pp.1001-1006
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- 2005