• 한국광학회:학술대회논문집
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• 한국광학회 2003년도 하계학술발표회
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• pp.264-265
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• 2003

광 회절한계를 극복한 기록밀도 향상 기술로 대두된 근접장 응용 정보저장기술은 차세대 광 정보저장의 핵심기술로 간주되고 있다. 근접장을 응용한 기술에는, 근접장 헤드구조의 관점에서, 근접장 효과 렌즈(SIL), 탐침형, 미소구멍레이저, 안테나 구조 등 나노크기 Aperture를 가지는 구조 등이 있다. 그러나 각각의 근접장 헤드구조에 적합한 특히, 탐침형 근접장 방식에 적합한 근접장 매체에 대한 활발한 연구는 아직 진행되고 있지 않다. (중략)

• 한국광학회:학술대회논문집
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• 한국광학회 2003년도 하계학술발표회
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• pp.290-291
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• 2003

근접장 측정에서 가장 많이 쓰이는 근접장 광섬유 탐침은 몇가지 단점을 가지고 있다. 단점 중 하나는 광 전달율이 매우 낮다는 점이다. 전형적으로 근접장 광섬유 탐침의 aperture가 100nm일때 빛이 통과할 때의 광 전달율은 $10^{-5}$만큼 떨어진다. 그리고 sample과 probe간의 수십 nm의 근접장거리를 유지하기 위해 복잡한 장치가 필요하다는 점이다. 이러한 단점을 보완하여 본 연구실에서는 근접장 측정에서 핵심이 되는 근접장 광섬유 탐침의 새로운 개념인 나노 탐침 제작을 연구하였다. (중략)

• 대한기계학회논문집A
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• 제30권12호
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• pp.1557-1563
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• 2006

A scanning electron microscope (SEM) is well known as a measurement and analysis equipment in nano technology, being widely used as a crucial one in measuring objects or analyzing chemical components. It is equipped with an electron optical system that consists of an electron beam source, electromagnetic lenses, and a detector. The present work concerns numerical analysis for the electron optical system so as to facilitate design of each component. Through the numerical analysis, we investigate trajectories of electron beams emitted from a nano-scale field emission tip, and compare the result with that of experimental observations. Effects of various components such as electromagnetic lenses and an aperture are also discussed.

• 한국정밀공학회지
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• 제25권4호
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• pp.134-139
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• 2008

A spirally arrayed nano-pattern is designed as a model pattern for the next generation optical storage media. The pattern consists off types of embossed rectangular dot, which are 50nm, 100nm, 150nm and 200nm in length and 50nm in width. The height of the dot is designed to be 50nm. The pitch of the spiral track of the pattern is 100nm. A ER(Electron resist) master for this pattern is fabricated by e-beam lithography process. The ER is first spin-coated to be 50nm thick on a Si wafer and then the model pattern is written on the coated ER layer by e-beam. After developing this pattern written wafer in the solution, a ER pattern master is fabricated. The most conventional e-beam machine can write patterns in orthogonal way, so we made our own pattern generator which can write the pattern in circular or spiral way. This program generates the patterns to be compatible with the e-beam machine from Raith(Raith 150). To fabricate 50nm pattern master precisely, a series of experiments were done including the design compensation for the pattern size, optimization of the dose, acceleration voltage, aperture size and developing. Through these experiments, we conclude that the higher accelerating voltages and smaller aperture size are better for mastering the nano pattern which is in order of 50nm. With the optimized e-beam lithography process, a spiral arrayed 50nm pattern master adopting PMMA resist was fabricated to have dimensional accuracy over 95% compared to the designed. Using this pattern master, a metal pattern stamp will be fabricated by Ni electro plating for injection molding of the patterned plastic substrate.

• Current Optics and Photonics
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• 제1권2호
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• pp.157-162
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• 2017

In large liquid crystal displays, the image quality in an oblique viewing direction is a crucial issue. From this perspective, 8-domain polymer-stabilized vertical alignment (PS-VA) mode has been developed to suppress the color shift in oblique viewing directions, compared to that in 4-domain PS-VA mode. To realize the 8-domain PS-VA, the four domains in a pixel are each divided into two regions, such that applying different electric potentials result in different tilt angles in these two regions, while keeping four azimuthal directions in each domain. However, applying different voltages in a pixel causes drawbacks, such as requiring additional processes to construct a capacitor and a transistor, which will further reduce the aperture ratio. Here we propose a different approach to form the 8-domain, by controlling surface polar anchoring energy and the width of patterned electrodes in two regions of a pixel. As a result, the gamma-distortion index (GDI), measured at an azimuthal angle of $0^{\circ}$, is reduced by about 23% and 8%, compared to that of a conventional 4-domain at polar angles of $30^{\circ}$ and $60^{\circ}$ respectively.

• 대한전기학회:학술대회논문집
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• 대한전기학회 2001년도 추계학술대회 논문집 전기물성,응용부문
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• pp.47-49
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• 2001

본 논문에서는 근접장 홀로그램의 저장 밀돌르 높이기 위한 각도 다중화 저장, stack-wise 저장 방식에 대한 실험 결과를 보고 하였다. 또한 NSOM을 이용한 방식의 느린 자료 접근 및 전송 시간을 개선하기 위한 실리콘 나노 aperture array를 이용한 홀로그램 저장 및 재생 방식 및 그 실험 결과를 제시하였다. 제안된 방식들은 근접장 광 메모리의 저장 용량을 증가시키는데 큰 역할을 하리라 생각된다.

• Current Optics and Photonics
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• 제4권1호
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• pp.16-22
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• 2020

In high resolution imaging devices, smaller aperture in the color filter causes cross talk which provides incorrect information. Plasmonic color filters (PCFs) have been reported as an alternative of the conventional color resist based-color filter (CRCF) and many studies on PCFs demonstrated the filtering function by PCFs with a sub-micron size. In this work, we investigated the cross talk performance of PCFs compared to CRCFs. The effect of cross talk over distance from the filter were measured for each filter. Despite poorer spectral filtering characteristics, PCFs were more robust against cross talk than CRCFs. Also, the further away from the filter, the more cross talk appeared. As a result, PCFs showed less cross talk than CRCFs at about 82% of the results measured at a distance of 2~10 ㎛. This study will help to make practical use of PCFs in high-resolution imaging applications.

• Journal of the Optical Society of Korea
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• 제5권4호
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• pp.136-139
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• 2001

We investigated a high-output ower, periodically poled lithium niobate(PPLN) optical parametric oscillator(OPO) pumped by a Q-switched Nd:YAG laser. Given the low optical damage threshold and the limited aperture (0.5mm thick) of PPLN, we tried to maximize the signal output power in a linear cavity consisting of two flat mirrors with a loosely focused pump beam. It is found that this simple cavity structure allowed a robust OPO operation, which was not sensitive to alignment compared with the conventional ones using concave mirrors. A maximum energy of 100$\mu$J/pulse was achieved for the signal at 1.36${\mu}{\textrm}{m}$, while the oscillation threshold was 0.3 mJ/pulse for the pump at 1064 nm.

• 한국정보통신학회논문지
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• 제19권5호
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• pp.1040-1046
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• 2015

전자 및 전파통신기술의 급속한 발전에 따라 인류는 정보통신의 커다란 혜택을 누릴 수 있게 되었다. 그러나 전자파환경은 보다 복잡해지고, 그만큼 제어하가 어려워졌다. 이에 따라 ANSI, FCC, CISPR(국제무선장해규제기구) 등과 같은 국제기구에서는 다양한 전자파환경의 제어 및 대책을 수립해 오고 있다. 본 논문에서는 전파흡수체의 현황과 미래의 스마트 흡수체, 나아가서 방열 기능을 가지는 전파흡수체의 설계 방법을 제안한다. 설계한 전파흡수체는 2 GHz~2.45 GHz에서 20 dB 이상의 흡수능을 발휘하며, 개구의 크기, 간격 및 두께는 각각 6 mm, 9 mm, and 6.5 mm로 하였다. 이 스마트 전파흡수체는 다양한 전자, 통신, 제어, 전파 시스템의 회로 및 부품 보호용 소재로 활용될 수 있을 것으로 보인다.

• 폴리머
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• 제29권4호
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• pp.418-421
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• 2005

본 연구에서는 나노/마이크로 소자 및 MEMS 제작에 활용가능하고 또한 수십 마이크로미터 크기의 3차원 곡면을 가진 형상을 제작하기 유리한 이광자 광중합을 이용한 다중조사 복셀 매트릭스 스캐닝법(multi-exposure voxel matrix scanning method)에 의한 나노 복화공정을 개발하였다. 이 공정을 통하여는 높이에 따라 14가지의 색을 가진 등고선으로 표현된 3차원 자유곡면 형상을 적층방식이 아닌 단일 층으로 3차원으로 제작할 수 있다. 여기서 수광각도가 1.25인 집광렌즈를 사용하여 레이저의 조사시간에 따라 1.2 um에서 6.4 um까지 변하는 복셀의 높이 차이를 이용하여 3차원 곡면 제작이 가능하다. 본 연구의 유용성을 검토하기 위하여 몇 가지 3차원 곡면형상을 초미세 입체 패터닝 공정에서 사용하는 일반적인 적층방식을 사용하지 않고 단층으로 제작하여 시간을 단축하였다.