• 산업기술연구
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• 제26권A호
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• pp.181-188
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• 2006

In this study, we analyzed the effects of several process variables on the removal efficiencies of NO and $SO_2$ by the dielectric barrier discharge process combined with photocatalysts. The $TiO_2$ photocatalysts were coated onto the spherical-shaped glass beads as dielectric materials by the dip-coating method to analyze the effects of photodegradation reaction on the NO and $SO_2$ removal. As the voltage applied to the plasma reactor increases, or as the pulse frequency of applied voltage increases, the NO and $SO_2$ removal efficiencies increase. Also as the residence time increases, or as the initial concentration of NO decreases, the NO and $SO_2$ removal efficiencies increase. The higher the amount of $TiO_2$ particles coated onto the glass bead is, the larger the surface area of $TiO_2$ particles for the photodegradation reaction is and the NO and $SO_2$ are removed more quickly by the faster photodegradation reactions.

• 청정기술
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• 제13권2호
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• pp.115-121
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• 2007

본 연구에서는 유전체 장벽 방전-광촉매 복합 공정에 의한 NO 및 $SO_2$ 제거를 실험적으로 분석하였다. 유전체 장벽 방전을 위해 유전체로서 유리구가 사용되었고 $TiO_2$ 광촉매 입자는 딥코팅(dip-coating) 방법에 의해 높은 비표면적을 가지는 스펀지 형태로 유리구에 코팅되었다. 플라즈마 반응기에 인가된 전압이나 펄스 주파수, 혹은 기체의 체류시간이 증가함에 따라, NO 및 $SO_2$의 제거효율은 증가하였다. NO 및 $SO_2$ 공급농도 증가하면 NO 및 $SO_2$ 제거에 더 많은 에너지가 요구되어 NO 및$SO_2$의 제거효율이 감소하였다. 본 연구의 실험 결과들은 NO 와 $SO_2$를 제거하기 위한 유전체 장벽 방전-광촉매 복합 공정 설계의 기초 자료로 사용될 수 있다.