• 제목/요약/키워드: NH3-N

검색결과 2,426건 처리시간 0.03초

Performance of Chlorella vulgaris for the Removal of Ammonia-Nitrogen from Wastewater

  • Choi, Hee-Jeong;Lee, Seung-Mok
    • Environmental Engineering Research
    • /
    • 제18권4호
    • /
    • pp.235-239
    • /
    • 2013
  • In the present investigation, the efficiency of Chlorella vulgaris (C. vulgaris) was evaluated for the removal of ammonia-nitrogen from wastewater. Eight different wastewater samples were prepared with varied amounts of $NH_4-N$ concentrations from 15.22 to 205.29 mg/L. Experiments were conducted at pH $7.5{\pm}0.3$, temperature $25^{\circ}C{\pm}1^{\circ}C$, light intensity $100{\mu}E/m^2/s$, and dark-light cycles of 8-16 hr continuously for 8 days. From the results, it was found that $NH_4-N$ was completely removed by C. vulgaris, when the initial concentration was between 5.22-25.24 mg/L. However, only 50% removal was obtained when the $NH_4-N$ concentration was 85.52 mg/L, which further decreased to less than 32% when the $NH_4-N$ concentration exceeded 105.43 mg/L. The further influence of nitrogen on chlorophyll was studied by various $NH_4-N$ concentrations. The maximal value of chlorophyll a (Chl a) content was found to be 19.21 mg/L for 65.79 mg/L $NH_4-N$ concentration, and the maximum specific $NH_4-N$ removal rate of 1.79 mg/mg Chl a/day was recorded at an $NH_4-N$ concentration of 85.52 mg/L. These findings demonstrate that C. vulgaris could potentially be employed for the removal of $NH_4-N$ from wastewater.

Hybrid Plasma Processing에 의한 Si3N4-SiC계 미립자의 합성과정 제어 (Process Control for the Synthesis of Ultrafine Si3N4-SiC Powders by the Hybrid Plasma Processing)

  • 이형직
    • 한국세라믹학회지
    • /
    • 제29권9호
    • /
    • pp.681-688
    • /
    • 1992
  • Ultrafine Si3N4 and Si3N4+SiC mixed powders were synthesized through thermal plasma chemical vapor deposition(CVD) using a hybrid plasma, which was characterized by the supersposition of a radio-frequency plasma and arc jet. The reactant SiCl4 was injected into an arc jet and completely decomposed in a hybrid plasma, and the second reactant CH4 and/or NH3 mixed with H2 were injected into the tail flame through double stage ring slits. In the case of ultrafine Si3N4 powder synthesis, reaction efficiency increased significantly by double stage injection compared to single stage one, although crystallizing behaviors depended upon injection speed of reactive quenching gas (NH3+N2) and injection method. For the preparation of Si2N4+SiC mixed powders, N/C composition ratio could be controlled by regulating the injection speed of NH3 and/or CH4 reactant and H2 quenching gas mixtures as well as by adjusting the reaction space.

  • PDF

도금폐수 중 시안(CN)의 선택적 제거를 위한 Ferrate (VI) 적용 (Application of Ferrate (VI) for Selective Removal of Cyanide from Plated Wastewater)

  • 양승현;김영희
    • 청정기술
    • /
    • 제27권2호
    • /
    • pp.168-173
    • /
    • 2021
  • 도금폐수의 처리는 폐수의 pH, 중금속 및 시안(CN)함유에 따라 다양하고 복잡한 공정이 적용된다. 이중 시안(CN)의 처리는 차아염소산(NaOCl)을 이용한 알칼리 염소 처리법이 일반적으로 많이 사용되고 있다. 그러나, 암모니아성 질소(NH3-N)와 시안(CN)이 동시에 함유될 경우 암모니아성 질소(NH3-N)의 처리를 위해 차아염소산(NaOCl) 이 과다하게 소비되는 문제가 있다. 이러한 문제를 해결하기 위하여 본 연구는 시안(CN)처리에 있어서 1) 알칼리염소법에서 암모니아성 질소(NH3-N)농도에 따른 차아염소산(NaOCl)의 소모량을 조사하고 2) ferrate (VI)가 시안(CN)을 선택적으로 처리할 수 있는지를 평가하였다. 모의폐수를 이용한 실험결과 알칼리염소법에서는 암모니아성 질소(NH3-N)농도가 높을수록 시안(CN)의 제거율이 감소하였으며 차아염소산(NaOCl)의 소비량이 암모니아성 질소(NH3-N) 농도에 따라 선형적으로 증가하였다. Ferrate (VI)를 이용한 시안(CN) 제거에서는 암모니아성 질소(NH3-N) 농도에 관계없이 시안(CN)의 제거를 확인하였으며 이때 암모니아성 질소(NH3-N)의 제거율은 낮아 ferrate (VI)가 시안(CN)을 선택적으로 제거함을 확인하였다. Ferrate (VI)의 시안(CN) 제거효율은 pH가 낮을수록 높게 나타났고 ferrate (VI) 주입량에 관계없이 99% 이상을 보였다. 실제 도금폐수에 적용한 결과에서는 ferrate (VI)와 시안(CN)의 투입 몰비 1:1에서 99% 이상의 높은 제거율을 보였으며 이는 화학양론 반응식의 몰비와 일치하는 결과로 모의 폐수와 동일하게 암모니아성 질소(NH3-N) 및 기타오염물질이 함유된 실제 폐수에서도 선택적으로 시안(CN)을 제거하는 것으로 확인되었다.

AlN의 형성에 미치는 기계적 합금화 분위기의 영향 (Effect of Mechanical Alloying Atmosphere on Formation of AlN)

  • 유승훈;이영성;신광선
    • 한국분말재료학회지
    • /
    • 제12권3호
    • /
    • pp.214-219
    • /
    • 2005
  • In order to investigate the formation of AlN, mechanical alloying was carried out in $N_2$ and $NH_3$ atmosphere. Differential thermal analysis (DTA), x-ray diffraction (XRD) and chemical analysis were carried out to examine the formation behavior of aluminum nitrides. No diffraction pattern of AlN was observed in XRD analysis of the as-milled powders in $NH_3\;or\;N_2$ atmosphere. However, DTA and chemical analysis indicated that the precursors for AlN were formed in the Al powders milled in $NH_3$ atmosphere. The AlN precursors transformed to AlN after heat treatment at and above $600^{\circ}C$. It was considered that the reaction between Al and $NH_3$ was possible by the formation of fresh Al surface during mechanical alloying of Al powders.

Composition and interface quality control of AlGaN/GaN heterostructure and their 2DEG transport properties

  • Kee, Bong;Kim, H.J.;Na, H.S.;Kwon, S.Y.;Lim, S.K.;Yoon, Eui-Joon
    • Journal of Korean Vacuum Science & Technology
    • /
    • 제4권3호
    • /
    • pp.81-85
    • /
    • 2000
  • The effects of $NH_3$ flow rate and reactor pressure on Al composition and the interface of AlGaN/GaN heterostructure were studied. Equilibrium partial pressure of Ga and Al over AiGaN alloy was calculated as a function of growth pressure, $NH_3$flow rate and temperature. It was found equilbrium vapor pressure of Al is significantly lower than that of Ga, thus, the alloy composition mainly controlled by Ga partial pressure. We believe that more decomposition of Ga occur at lower $NH_3$ flow rate and higher growth pressure leads to preferred Al incorporation into AlGaN. The alloy composition gradient became larger at AlGaN/GaN heterointerface at higher reactor pressures, higher Al composition and low $NH_3$ flow rate. This composition gradient lowered sheet carrier concentration and electron mobility as well. We obtained an AlGaN/GaN heterostructure with sheet carrier density of ${\sim}2{\times}10^{13}cm^{-2}$ and mobility of 1250 and 5000 $cm^2$/Vs at 300 K and 100 K, respectively.

  • PDF

만경강과 그 인근 시설재배지 지하수의 시기별 수질변화 (Seasonal Variation in Water Quality of Mankyeong River and Groundwater at Controlled Horticulture Region)

  • 이경보;이덕배;강종국;김재덕
    • 한국토양비료학회지
    • /
    • 제32권3호
    • /
    • pp.223-231
    • /
    • 1999
  • 1. 만경강 수계 수질변화 만경강 수계의 농업용수의 수질 변화를 조사 분석하기 위해 '94, '95년, '97년도 4월에서 9월까지 13개지점을 대상으로 평가하였다. $NH_4-N$, $SO{_4}^{2-}$, $Cl^-$의 농도는 4월에 가장 높았으며 $NO_3-N$는 8월에 높았다. COD 함량은 고온기인 9월에 높게 나타났다. 만경강 주요지천중 $NH_4-N$$SO{_4}^{2-}$ 이온이 농업용수 기준을 초과하였으며, 만경강 중류(Mk-8), 고산천(Mk-9) 그리고 소양천(Mk-11)을 제외하고는 만경강 주요 지천은 농업용수로서 부적당하였다. 만경강 하류(Mk-2, Mk-3)와 전주천(Mk-12) 그리고 삼천천(Mk-13)은 도시생활하수와 산업 폐수에 의해 오염도가 높았으며, 익산천(Mk-6)은 양돈 오수에 의해 오염도가 증가되었다. 만경강의 이온들의 당량합은 산업폐수와 생활하수가 다량 유입되는 만경강 하류인 유천 갑문(Mk-3)이 가장 높았으며 음이온의 당량은 $SO{_4}^{2-}$, $Cl^-$, $NO{_3}^-$, $PO{_4}^{3-}$ 순으로 많았고 양이온은 $Na^+$, $Ca^{2+}$, $NH{_4}^+$, $Mg^{2+}$, $K^+$ 순이었다. 2. 시설원예지 지하수중 화학성분 변화 만경강유역 인근에 있는 시설원예 주산단지에서 사용하는 지하수 수질을 '94년부티 '98년까지 지하수심, 조사시기 영농형태, 경작연수별로 검토하였다. 채수수심이 깊어질수록 $NH_4-N$, NO-N함량이 낮아졌으며, $SO{_4}^{2-}$$Na^+$는 10~15m 이하에서는 큰 차이가 없었다. 지하수중 $NH_4-N$, $NO_3-N$, $PO{_4}^{3-}$, $SO{_4}^{2-}$, $Na^+$, $Cl^-$ 함량기에 비해 갈수기에 높았다. 시설원예연작에 비해 미나리 윤환재배로 지하수중 $NH_4-N$, $NO_3-N$, $PO{_4}^{3-}$, $Na^+$, $Cl^-$함량이 낮아졌다. 완주군 용진면은 지하수중 $NO_3-N$ 함량이 농업용수 기준을 초과하였고, $SO{_4}^{2-}$ 농도는 완주군 용진면, 완주군 삼례면 지역이 타지역보다 높았고 익산시 석탄 등은 지하수중 $PO{_4}^{3-}$, $Na^+$, $Cl^-$ 함량이 타지역보다 높았다.

  • PDF

50% NH3-Air-N2가스분위기에서 Oxynitriding시 Compound Layer의 성장 특성에 미치는 공기첨가효과 (Effect of Air Additions on the Growth Characteristics of the Compound Layer during Oxynitriding in50%NH3+Air+N2 Atmosphere)

  • 김영희;이영숙
    • 열처리공학회지
    • /
    • 제7권3호
    • /
    • pp.206-218
    • /
    • 1994
  • In 50%$NH_3+Air+N_2$ atmospheres, the effect of air additions on the growth characteristics of the compound layer during oxynitriding at $570^{\circ}C$ for 2hr in carbon and alloy steels has been investigated. The ammount of apparent residual ammonia during oxynitriding has shown to be increased with air additions(9~36 Vol. %) and X-ray diffraction analysis of case oxynitreded has shown that the compound layer consist of ${\varepsilon}-Fe_{2-3}$(N, C) phase and ${\gamma}^{\prime}-Fe_4$(N,C) phase. In the case of carbon steels, the thickness of oxide layer, compound layer and porous layer and the amount of ${\varepsilon}-Fe_{2-3}$(N,C) phase in the compound layer were increased with additions of air in 50%$NH_3+N_2$ atmospheres. At the same gas composition, the thickenss of oxide layer, compound layer and porous layer in alloy steels showed slightly thin layer thickness compared to those of carbon steels and the ${\gamma}^{\prime}-Fe_4$(N,C) phase in the compound layer of alloy steels was found barely. Therefore, the most obvious effect of air addition in the gas nitriding atmosphere has been found to in crease further kinetics of nitriding reaction.

  • PDF

Dicyandiamide(DCD)가 고형(固形) 축산폐기물 중(中) 무기화(無機化)된 질소(窒素)의 경시적(經時的) 방출(放出) 및 억제(抑制)에 미치는 영향(影響) (The Effect of Dicyandiamide (DCD) on the Mineralization of Nitrogen from Soild-Animalwaste)

  • 윤순강;우기대;유순호
    • 한국토양비료학회지
    • /
    • 제26권1호
    • /
    • pp.43-48
    • /
    • 1993
  • 질산화작용(窒酸化作用) 억제제(抑制劑) Dicyandiamide(DCD)가 축산폐기물 중 유기질소(有機窒素)의 무기화(無機化) 방출율(放出率)에 미치는 영향을 구명(究明)하고자 생돈분(生豚糞)과 발효돈분(醱酵豚糞)에 DCD를 처리하고 $30^+/-1^{\circ}C$에서 10주간(週間) 항온(恒溫)하면서 매 1주(週) 간격으로 돈분의 pH와 $NH_4-N$, $NO_3-N$을 분석하여 무기태질소(無機態窒素) 농도(濃度)의 경시적(經時的) 방출(放出) 양상(樣相)과 $NO_3-N$ 생성억제(生成抑制) 효과를 조사한 결과는 다음과 같다. 항온기간별(恒溫期間別) 돈분(豚糞)의 pH는 8이상으로 높았으며 DCD를 처리하지 않은 생(生)돈분과 발효돈분(醱酵豚糞)에서 pH는 각각 0.04, 0.06 unit/week로 증가되었다(P<0.05). 항온(恒溫) 1주(週) 만에 생돈분(生豚糞) 중 유기질소(有機窒素)의 20.1%인 2,473ppm이 $NH_4-N$으로 무기화되었으나 발효돈분(醱酵豚糞)에서는 항온 2주(週)까지 $NH_4-N$ 농도가 항온(恒溫) 전(前)과 차이가 없었으며 외형적(外形的)인 무기화작용(無機化作用)은 발견할 수 없었다. 생돈분(生豚糞)에서 항온기간(恒溫期間)이 경과(經過)함에 따른 $NH_4-N$ 농도(濃度) 손실율(損失率)은 DCD 처리시 61.8ppm $NH_4-N$/week, 그리고 DCD 무처리에서는 72.3ppm $NH_4-N$/week로 $NH_4-N$의 형태적 변화가 신속히 진행되었다. DCD 처리(處理)에 따른 $NO_3-N$ 생성억제(生成抑制) 효과는 생돈분에서 통계적(統計的)으로 유의성(有意性)있게 나타났으나($r=0.79^{**}$), 발효돈분(醱酵豚糞)에서는 효과가 인정(認定)되지 않았다. $NH_4-N$ 농도 손실율(損失率)은 생돈분(生豚糞)에서는 1차(次) 회귀(回歸)에 그리고 발효돈분(醱酵豚糞)에서는 2차(次) 회귀(回歸)에 유의성(有意性)있게 따르고 있음을 알 수 있었다.

  • PDF

Analysis of Free Ammonia Inhibition of Nitrite Oxidizing Bacteria Using a Dissolved Oxygen Respirometer

  • Kim, Dong-Jin;Lee, Dong-Ig;Cha, Gi-Cheol;Keller, Jurg
    • Environmental Engineering Research
    • /
    • 제13권3호
    • /
    • pp.125-130
    • /
    • 2008
  • Free ammonia ($NH_3$-N) inhibition of nitrite-oxidizing bacteria (NOB) has been widely studied for partial nitrification (or nitrite accumulation) and denitrification via nitrite ($NO_2^-$-N) as a low-cost treatment of ammonium containing wastewater. The literature on $NH_3$-N inhibition of NOB, however, shows disagreement about the threshold $NH_3$-N concentration and its degree of inhibition. In order to clarify the confusion, a simple and cheap respirometric method was devised to investigate the effect of free ammonia inhibition of NOB. Sludge samples from an autotrophic nitrifying reactor were exposed to various $NH_3$-N concentrations to measure the maximum specific nitrite oxidation rate ($\hat{K}_{NO}$) using a respirometer. NOB biomass was estimated from the yield values in the literature. Free ammonia inhibition of nitrite oxidizing bacteria was reversible and the specific nitrite oxidation rate ($K_{NO}$) decreased from 0.141 to 0.116, 0.100, 0.097 and 0.081 mg $NO_2^-$-N/mg NOB h, respectively, as the $NH_3$-N concentration increased from 0.0 to 1.0, 4.1, 9.7 and 22.9 mg/L. A nonlinear regression based on the noncompetitive inhibition mode gave an estimate of the Inhibition concentration ($K_I$) of free ammonia to be 21.3 mg $NH_3$-N/L. Previous studies gave $\hat{K}_{NO}$ of Nitrobacter and Nitrospira as 0.120 and 0.032 mg/mg VSS h. The free ammonia concentration which inhibits Nitrobacter was $30{\sim}50\;mg$ $NH_3$-N/L and Nitrospira was inhibited at $0.04{\sim}0.08\;mg$ $NH_3$-N/L. The results support the fact that Nitrobacter is the dominant NOB in the reactor. The variations in the reported values of free ammonia inhibition may be due to the different species of nitrite oxidizers present in the reactors. The respirometric method provides rapid and reliable analysis of the behavior and community of the nitrite oxidizing bacteria.

$Si_3N_4$ 기판 위에 PECVD 법으로 형성한 Tungsten Nitride 박막의 특성 (Characteristic of PECVD-$WN_x$ Thin Films Deposited on $Si_3N_4$ Substrate)

  • 배성찬;박병남;손승현;이종현;최시영
    • 전자공학회논문지D
    • /
    • 제36D권7호
    • /
    • pp.17-25
    • /
    • 1999
  • PECVD 법을 이용하여 Tungsten Nitride($WN_x$) 박막을 $WSi_3N_4$ 기판위에 형성하였다. $WN_x$ 박막은 기관온도, 가스의 유량, rf power 등의 공정변수를 변화시키면서 형성되었고, 서로 다른 질소원으로 $NH_3$$N_2$를 각각 사용하여 박막의 특성을 조사하였다. $WN_x$ 막 내의 질소함량은 $NH_3$$N_2$의 유량에 따라 0~45% 정도로 변화하였으며, $NH_3$를 사용하였을 때, 최고 160nm/min의 높은 성장률을 나타내었다. $WSi_3N_4$ 기판 위에서는 TiN이나 Si 위에서보다 높은 성장률을 나타내었다. $WN_x$ 박막의 순도를 AES로 측정해 본 결과 $NH_3$를 사용했을 때 고순도의 박막을 얻을 수 있었다. XRD 분석으로 순수한 다결정의 W가 비정질의 $WN_x$로 변화되는 것을 알 수 있었으며, 이것은 $WN_x$가 식각 공정시 미세 패턴 형성이 W보다 유리할 것이라는 것을 보여준다. TiN, NiCr, Al 등의 다양한 기판 위에 형성해 본 결과 Al 위에서 최대 $1.6 {\mu}m$의 두꺼운 막이 형성되었다.

  • PDF