Kim, Dong H.;Lee, Tai K.;Kim, Kyung N.;Chungmoo Auh;Kim, Kwang B.;Lee, Seung W.
Proceedings of the Korea Society for Energy Engineering kosee Conference
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1995.05a
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pp.45-52
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1995
The photocatalytic activity of TiO$_2$ was investigated as a function of added amount of Nb$_2$O$_{5}$, heat treatment temperature and the decomposition rate of 1 mM dichloroacetic acid(DCA). Mixed oxides of TiO$_2$ and Nb$_2$O$_{5}$ was prepared by the sol-gel process. The addition of Nb$_2$O$_{5}$ into TiO$_2$ has deleterious effect on the decomposition rate of DCA, which was decreased as the amount of Nb$_2$O$_{5}$ was increased. The excess electrons due to the doping of Nb$_2$O$_{5}$ into TiO$_2$ can promote the reduction process instead of oxidation or recombination rate with electron holes. The most efficient photocatalyst was the one heat treated at 40$0^{\circ}C$ for an hour as far as the heat treatment temperature is concerned. The lower the pH of the solution, the higher the quantum yield.tum yield.
Transparent conducting undoped and Al impurity doped ZnO films were deposited on glass substrate by spin coat technique using 24 days aged ZnO precursor solution with solution of ethanol and diethanolamine. The films were characterized by UV-Visible spectroscopy, X-ray diffraction (XRD), scanning electron microscope (SEM), electrical resistivity ($\rho$), carrier concentration (n), and hall mobility ($\mu$) measurements. XRD data show that the deposited film shows polycrystalline nature with hexagonal wurtzite structure with preferential orientation along (002) crystal plane. The SEM images show that surface morphology, porosity and grain sizes are affected by doping concentration. The Al doped samples show high transmittance and better resistivity. With increasing Al concentration only mild change in optical band gap is observed. Optical properties are not affected by aging of parent solution. A lowest resistivity ($8.5 \times 10^{-2}$ ohm cm) is observed at 2 atomic percent (at.%) Al. With further increase in Al concentration, the resistivity started to increase significantly. The decrease resistivity with increasing Al concentration can be attributed to increase in both carrier concentration and hall mobility.
Kim, D.J.;Sohn, I.Y.;Kim, D.I.;Yoon, O.J.;Yang, C.W.;Lee, N.E.;Park, J.S.
Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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2011.02a
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pp.431-431
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2011
Graphene, two dimensional sheet of sp2-hybridized carbon, has attracted an enormous amount of interest due to excellent electrical, chemical and mechanical properties for the application of transparent conducting films, clean energy devices, field-effect transistors, optoelectronic devices and chemical sensors. Especially, graphene is promising candidate to detect the gas molecules and biomolecules due to the large specific surface area and signal-to-noise ratios. Despite of importance to the disease diagnosis, there are a few reports to demonstrate the graphene- and rGO-FET for biological sensors and the sensing mechanism are not fully understood. Here we describe scalable and facile fabrication of rGO-FET with the capability of label-free, ultrasensitive electrical detection of a cancer biomarker, prostate specific antigen/${\alpha}1$-antichymotrypsin (PSA-ACT) complex, in which the ultrathin rGO sensing channel was simply formed by a uniform self-assembly of two-dimensional rGO nanosheets on aminated pattern generated by inkjet printing. Sensing characteristics of rGO-FET immunosensor showed the highly precise, reliable, and linear shift in the Dirac point with the analyte concentration of PSA-ACT complex and extremely low detection limit as low as 1 fg/ml. We further analyzed the charge doping mechanism, which is the change in the charge carrier in the rGO channel varying by the concentration of biomolecules. Amenability of solution-based scalable fabrication and extremely high performance may enable rGO-FET device as a versatile multiplexed diagnostic biosensor for disease biomarkers.
Due to the luminescence by$ Er ^{ 3+}$ activator, Er-doped $LaPO_4$ powders can be applied for optical amplification materials. In this study, $LaPO_4$:Er nanoparticles were synthesized in solution system using a high-boiling coordinating solvent and their properties were investigated through various spectroscopic techniques. The nanoparticles were to take a single phase of monazite structure by a X-ray diffraction analysis and to have the 5-6 nm of particles size with narrow size distribution by a TEM. And it was confirmed by the EA and FT-IR analyses that the surfaces of nanoparticles are coordinated with the solvent molecules, which will possibly keep from agglomerating between LaPO$_4$:Er nanoparticles. In the emission spectrum of $LaPO_4$:Er nanoparticle at NIR region, on the other hand, it was measured that the emission intensity is very weak, which is due to the transition from $^4$$I_{(13/2)}$ to $^4$$I_{(15/2)}$ of $Er^{3+ }$ion. It was interpreted that the weak luminescence of $LaPO_4$:Er is originated from the hydroxyl groups adsorbed on the surfaces of the nanoparticles, because OH group acts as an efficient quencher for the $^4$$I_{(13/2)}$ \longrightarrow $^4$$I_{(15/2)}$ emission of $Er^{3+}$ activator. But the co-doping of Yb$^{3+}$ as a sensitizer in this nanoparticle results in the increase of the emission intensity at 1539 nm due to the effective energy transfer from $Yb^{3+}$ to $Er^{3+}$ . In addition, the synthesized nanoparticles exhibited good dispersibility with some polymers and effective luminescence at NIR region.n.
Effects of doping rare earth elements on Ln site of $Ln_{0.7}Ca_{0.3}MnO_3$ (Ln = N d, Sm and La) were examined from structure, magnetic and electrical properties. Size of a-axis increased as following order of La < Nd < Sm, whereas c-axis was not much changed. Curie temperatures of 170 K for $Nd_{0.7}Ca_{0.3}MnO_3$, 110 K for $Sm_{0.7}Ca_{0.3}MnO_3$ and 250 K for $La_{0.7}Ca_{0.3}MnO_3$ were obtained. This result coincides with change of Mn-O bond length causing by a-axis lattice constant. The highest magnetroresistance ratios were 22% at 77 K for $Sm_{0.7}Ca_{0.3}MnO_3$, 32% at 110 K for $Nd_{0.7}Ca_{0.3}MnO_3$, and 33% at 180 K for $La_{0.7}Ca_{0.3}MnO_3$.
Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference
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2008.06a
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pp.6-7
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2008
Current sensing in power semiconductors involves sensing of over-current in order to protect the device from harsh conditions. This technique is one of the most important functions in stabilizing power semiconductor device modules. The sense FET is very efficient method with low power consumption, fast sensing speed and accuracy. In this paper we have analyzed the characteristics of proposed sense FET and optimized its electrical characteristics to apply conventional 450V power MOSFET devices by numerical and simulation analysis. The proposed sense FET has the n-drift doping concentration $1.5\times10^{14}cm^{-3}$, size of $600{\mu}m^2$ with 4.5 $\Omega$, and off-state leakage current below 50 ${\mu}A$. We offer the layout of the proposed sense FET to process actually. The offerd design and optimization methods is meaningful, which the methods can be applied to the power devices having various breakdown voltages for protection.
Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference
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2008.06a
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pp.174-174
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2008
Non-volatile memories using ferroelectric-gate field-effect transistors (Fe-FETs) with a metal/ferroelectric/semiconductor gate stack (MFS-FETs) make non-destructive read operation possible. In addition, they also have features such as high switching speed, non-volatility, radiation tolerance, and high density. However, the interface reaction between ferroelectric materials and Si substrates, i.e. generation of mobile ions and short retention, make it difficult to obtain a good ferroelectric/Si interface in an MFS-FET's gate. To overcome these difficulties, Fe-FETs with a metal/ferroelectric/insulator/semiconductor gate stack (MFIS-FETs) have been proposed, where insulator as a buffer layer is inserted between ferroelectric materials and Si substrates. We prepared $SrBi_2Ta_2O_9$ (SBT) film as a ferroelectric layer and $LaZrO_x$ (LZO) film as a buffer layer on p-type (100) silicon wafer for making the MFIS-FET devices. For definition of source and drain region, phosphosilicate glass (PSG) thin film was used as a doping source of phosphorus (P). Ultimately, the n-channel ferroelectric-gate FET using the SBT/LZO/Si Structure is fabricated. To examine the ferroelectric effect of the fabricated Fe-FETs, drain current ($I_d$) versus gate voltage ($V_g$) characteristics in logarithmic scale was measured. Also, drain current ($I_d$) versus drain voltage ($V_d$) characteristics of the fabricated SBT/LZO/Si MFIS-FETs was measured according to the gate voltage variation.
Transactions on Electrical and Electronic Materials
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v.7
no.3
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pp.149-153
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2006
An attempting to produce a p-type diluted magnetic semiconductor (DMS) using $Ti_{1-x}Co_xO_{2-\delta}-based$ thin films was made by suitable control of the deposition parameters including deposition temperature, deposition pressure, and doping level using a pulsed laser deposition method. T$Ti_{0.97}Co_{0.03}O_{2-\delta}-based$ (TCO) films deposited at $500^{\circ}C$ at a pressure of $5\times10^{-6}$ Torr showed an anomalous Hall effect with p-type characteristics. On the other hand, films deposited at $700^{\circ}C$ at $5\times10^{-6}$ Torr showed n-type behaviors by a decreased solubility of cobalt. The charge carrier concentration in the p-type TCO films was approximately $7.9\times10^{22}/cm^3$ at 300 K and the anomalous Hall effect in the p-type TCO films was controlled by a side-jump scattering mechanism. The magnetoresistance (MR), measured at 5 K in p-type TCO films showed a positive behavior in an applied magnetic field and the MR ratio was approximately 3.5 %. The successful preparation of p-type DMS using the TCO films has the potential for use in magnetic tunneling junction devices.
Mohammed, BOUANATI Sidi;SARI, N. E. CHABANE;Selma, MOSTEFA KARA
Transactions on Electrical and Electronic Materials
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v.16
no.3
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pp.124-129
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2015
Organic electronics are the domain in which the components and circuits are made of organic materials. This new electronics help to realize electronic and optoelectronic devices on flexible substrates. In recent years, organic materials have replaced conventional semiconductors in many electronic components such as, organic light-emitting diodes (OLEDs), organic field-effect transistors (OFETs) and organic photovoltaic (OPVs). It is well known that organic light emitting diodes (OLEDs) have many advantages in comparison with inorganic light-emitting diodes LEDs. These advantages include the low price of manufacturing, large area of electroluminescent display, uniform emission and lower the requirement for power. The aim of this paper is to model polymer LEDs and OLEDs made with small molecules for studying the electrical and optical characteristics. The purpose of this modeling process is, to obtain information about the running of OLEDs, as well as, the injection and charge transport mechanisms. The first simulation structure used in this paper is a mono layer device; typically consisting of the poly (2-methoxy-5(2'-ethyl) hexoxy-phenylenevinylene) (MEH-PPV) polymer sandwiched between an anode with a high work function, usually an indium tin oxide (ITO) substrate, and a cathode with a relatively low work function, such as Al. Electrons will then be injected from the cathode and recombine with electron holes injected from the anode, emitting light. In the second structure, we replaced MEH-PPV by tris (8-hydroxyquinolinato) aluminum (Alq3). This simulation uses, the Poole-Frenkel -like mobility model and the Langevin bimolecular recombination model as the transport and recombination mechanism. These models are enabled in ATLAS- SILVACO. To optimize OLED performance, we propose to change some parameters in this device, such as doping concentration, thickness and electrode materials.
The single crystal growth has been carried out with the newly designed 1-T HB(single temperature zone horizontal Bridgman) system for GaAs crystals of 2 inch diameter doped with Si, Zn or undoped. With this method, incidence probability of single crystallinity was shown to be 0.73. Lattice defects evaluated from EPD(etch pit density) measurement were in the range of 5,000-20,000/cm2, dependent upon the doping condition. For the undoped GaAs crystals, carrier concentrations from the Hall measurement were ∼1×1016/cm3 at the seed part, which were less than half the concentrations of double of triple temperature zone(2-T, 3-T) HB grown crystals. By the 1-T HB method, therefore, GaAs crystals can be grown successfully with better yield and higher purity.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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