In this work, a carbon-doped carbon nitride photocatalyst is successfully synthesized through a simple centrifugal spinning method after heat treatment. The morphology and properties of the prepared photo catalyst are characterized by X-ray diffraction (XRD), scanning electron microscopy (SEM), transmission electron microscopy (TEM), UV-vis spectrophotometer (UV-vis), and specific surface area. The results show that the band gap of the prepared sample, g-CN-10 is 2.1 eV, is significantly lower than that of pure carbon nitride, 2.7 eV. As the amount of cotton candy increased, the absorption capacity of the prepared catalyst for visible light is significantly enhanced. In addition, the degradation efficiency of Rhodamine B (RhB) by sample g-CN-10 is 98.8 % over 2 h, which is twice that value of pure carbon nitride. The enhancement of photocatalytic ability is attributed to the increase of specific surface area after the carbon doping modifies carbon nitride. A possible photocatalytic degradation mechanism of carbon-doped carbon nitride is also suggested.
최근 디스플레이 산업의 확대에 따라 투명 전도 산화물(Transparent Conducting Oxides:TCOs)의 수요가 급증하고 있다. 이 중 ZnO는 wide bandgap (3.37eV)와 large exciton binding energy (60meV)의 값을 가져 차세대 투명 전도 산화물, LED와 LD 등의 소자 소재로 각광받고 있다. ZnO는 electron을 내어놓는 native defect 때문에 기본적으로 n-type 물성을 띈다. 그래서 dopant를 이용해 p-type ZnO를 제작할 때 native defect를 줄이는 것이 중요한 요점이 된다. 이 때 buffer layer를 사용하여 native defect를 줄이는 방법이 사용되고 있다. 본연구에서는 RF-magnetron sputtering법을 이용하여 c-plane sapphire 기판 위에 다양한 조건의 ZnO buffer layer를 증착하고, 그 위에 ZnO:(Al,P) co-doping한 APZO를 증착하였다. ZnO buffer layer 증착조건의 변수는 증착온도와 Ar:O2의 비율을 변수로 두었다. 이러한 박막을 FE-SEM, XRD, Hall effect measurement, AFM을 통하여 미세구조와 물성을 관찰하였다. 이 때 APZO보다 낮은 증착온도에서 ZnO buffer layer가 증착되면 APZO를 증착하는 동안 chamber 내부에서 열처리하는 효과를 얻게 되고, UHV(Ultra High Vaccum)에서 열처리 될 때 ZnO buffer layer의 mophology와 결정성이 변하게 되는 모습을 관찰아혔다. 또한 본 실험을 통해 ZnO buffer layer의 증착 온도가 APZO의 증착온도보다 높을 때 제어 가능한 실험이 됨을 확인 할 수 있었다.
Current sensing in power semiconductors involves sensing of over-current in order to protect the device from harsh conditions. This technique is one of the most important functions in stabilizing power semiconductor device modules. The Power MOSFET is very efficient method with low power consumption, fast sensing speed and accuracy. In this paper, we have analyzed the characteristics of proposed sense FET and optimized its electrical characteristics to apply conventional 40 V power MOSFET by numerical and simulation analysis. The proposed sense FET has the n-drift doping concentration $1.5\times10^{14}\;cm^{-3}$, size of $600\;{\mu}m^2$ with $4.5\;{\Omega}$, and off-state leakage current below $50\;{\mu}A$. We offer the layout of the proposed Power MOSFET to process actually. The offerd design and optimization methods are meaningful, which the methods can be applied to the power devices having various breakdown voltages for protection.
Pentacene was dissolved in N-methyspyrrolidone (NMP) and mixed with poly(3,4-ethylenedioxythiophene), poly(styrenesulfonate) (PEDOT:PSS). The solution color changed from deep purple to intense yellow. As the dissolution time increased, visible absorption decreased and ultraviolet (UV) absorption increased. PEDOT:PSS or Pentacene-PEDOT:PSS was spin-coated to control the layer thickness. Three-layered Schottky diodes consisting of Al, PEDOT:PSS or PEDOT:PSS-pentacene, and Au with thickness of 300nm, respectively, were fabricated. The current densities of $4.8{\mu}A/cm^2$ at 2.5MV/m and $660{\mu}A/cm^2$ at 1.9MV/m were obtained for the Au/PEDOT:PSS/Al and Au/Pentacene-PEDOT:PSS/Al Schottky diodes, respectively. The current density of the Schottky diode was enhanced by about two orders of magnitude by doping pentacene to PEDOT:PSS.
We have fabricated white organic light-emitting diodes (OLEDs) by co-doping of red and blue phosphorescent guest emitters into the single host layer. Tris(2-phenyl-1-quinoline) iridium(III) [$Ir(phq)_3$] and iridium(III)bis[(4,6-di-fluorophenyl)-pyridinato-$N,C^{2^{\prime}}$]picolinate (FIrpic) were used as red and blue dopants, respectively. The effects of dopant concentration on the emission, carrier conduction and external quantum efficiency characteristics of the devices were investigated. The emissions on the guest emitters were attributed to the energy transfer to the guest emitters and direct excitation by trapping of the carriers on the guest molecules. The white OLED with 5% FIrpic and 2% $Ir(phq)_3$ exhibited a maximum external quantum efficiency of 19.9% and a maximum current efficiency of 45.2 cd/A.
PVDF as a semicrystal polymer, having a structure with C-F dipole moments, has been widely investigated because of its excellent chemical stability, mechanical strength, and ferroelectricity. In this study, ferroelectic ${\beta}$ type - PVDF layer was prepared by using an electrostatic spray deposition method and the effects of the addition of Ni-nitrate in precursor solution on the properties of PVDF layer were evaluated. Crystallinity and chemical structure of the PVDF layer were analyzed by a X-ray diffraction and Fourier Transform Infrared Spectrophotometer. Surface structure and fractured cross section of the layer were examined by a field emission-scanning electron microscope. LCR meter was used to obtain the dielectric properties of the layer. As the addition of an inorganic metal salt in PVDF sol, ${\beta}$ type - PVDF crystals were appeared in the hydrated metal salts doped-layer since the strong hydrogen bondings $(O-H{\cdots}F-C)_n$ due to high polarity of OH- were formed.
Phosphorus is known to pile-up at the silicon surface when it is thermally oxidized. A thin layer, about 40nm thick from the silicon surface, is created containing more phosphorus than the bulk of the emitter. This layer has a gaussian profile with the peak at the surface of the silicon. In this study the pile-up effect was studied if this layer can act as a front surface field for solar cells. The effect was also tested if its high dose of phosphorus at the silicon surface can lower the contact resistance with the front metal contact. P-type wafers were first doped with phosphorus to create an n-type emitter. The doping was done using either a furnace or ion implantation. The wafers were then oxidized using dry thermal oxidation. The effect of the pile-up as a front surface field was checked by measuring the minority carrier lifetime using a QSSPC. The contact resistance of the wafers were also measured to see if the pile-up effect can lower the series resistance.
In this study, in order to develop multilayer ceramic actuator for ultrasonic nozzle and ultrasonic vibrator, PMN-PNN-PZT ceramics were fabricated using $Li_2CO_3$. $Na_2CO_3$ and ZnO as sintering aids. And then, their piezoelectric and dielectric properties according to the amount of ZnO addition were investigated. The addition of ZnO improved density, dielectric constant, electromechanical coupling factor, mechanical quality factor and piezoelectric d constant of PMN-PNN-PZT ceramics due to the increase of sinterability and accepter doping effect. Electromechanical coupling factor and mechanical quality factor of PMN-PNN-PZT ceramics increased with ZnO amount up to 0.4wt% and then decreased. At the sintering temperature of $900^{\circ}C$ and 0.4wt% ZnO addition, density, dielectric constant, electromechanical coupling factor, mechanical quality factor and piezoelectric d constant showed the optimum value of 7.876g/$cm^2$, 1299, 0.612, 1151 and 369pC/N, respectively.
한국정보디스플레이학회 2006년도 6th International Meeting on Information Display
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pp.1583-1586
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2006
All non-dopant white organic light-emitting diodes (WOLEDs) have been realized by using solid state highly fluorescent red bis(4-(N-(1- naphthyl)phenylamino)phenyl)fumaronitrile (NPAFN) and amorphous bipolar blue light-emitting 2-(4- diphenylamino)phenyl-5-(4-triphenylsilyl)phenyl- 1,3,4-oxadiazole (TPAOXD), together with well known green fluorophore tris(8- hydroxyquinolinato)aluminum $(Alq_3)$. The fabrication of multilayer WOLEDs did not involve the hard-tocontrol doping process. Two WOLEDs, Device I and II, different in layer thickness of $Alq_3$, 30 and 15 nm, respectively, emitted strong electroluminescence (EL) as intense as $25,000\;cd/m^2$. For practical solid state lighting application, EL intensity exceeding $1,000\;cd/m^2$ was achieved at current density of $18-19\;mA/cm^2$ or driving voltage of 6.5-8 V and the devices exhibited external quantum efficiency $({\eta}_{ext})$ of $2.6{\sim}2.9%$ corresponding to power efficiency $({\eta}_P)$ of $2.1{\sim}2.3\;lm/W$ at the required brightness.
$MgB_2$ thin films with superior superconducting properties are very promising for superconducting magnets, electronic devices and coated conductor electric power applications. A clear understanding of flux pinning mechanism in $MgB_2$ films could be a big aid in improving the performance of $MgB_2$ by the enhancement of $J_c$. The fabrication advancement and the understanding of flux pinning mechanism of $MgB_2$ thin and thick films fabricated by using hybrid physical-chemical vapor deposition (HPCVD) are reviewed. The distinct kind of $MgB_2$ films, such as single-crystal like $MgB_2$ thin films, $MgB_2$ epitaxial columnar thick films, and a-axis-oriented $MgB_2$ films are included for flux pinning mechanism investigation. Various attempts made by researchers to improve further the flux pinning property and $J_c$ performance by means of doping in $MgB_2$ thin films by using HPCVD are also summarized.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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