$Hf(MMP)_4$ 원료 물질을 이용해서 증착한 MOCVD $HfO_2$ 박막의 특성 분석
(Metal-organic chemical vapor deposition of $HfO_2$ films using a new precursor $Hf(MMP)_4$ )
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- 한국재료학회:학술대회논문집
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- 한국재료학회 2002년도 추계학술발표강연 및 논문개요집
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- pp.81-81
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- 2002