The feasibility of a midgap metal gate is investigated for a 32 nm MOSFET for low power applications. The midgap metal gate MOSFET is found to deliver $I_{on}$ as high as a bandedge gate if a proper retrograde channel is used. An adequate design of the retrograde channel is essential to achieve the performance requirement given in the ITRS roadmap. A process simulation is also run to evaluate the feasibility of the necessary retrograde profile in manufacturing environments. Based on the simulated result, it is found that any subsequent thermal process should be tightly controlled to retain transistor performance, which is achieved using the retrograde doping profile. Also, the bandedge gate MOSFET is determined be more vulnerable to the subsequent thermal processes than the midgap gate MOSFET. A guideline for gate workfunction $(\Phi_m)$ is suggested for the 32 nm MOSFET.
Metal sulfides are good candidates for cathode materials. Especially, iron sulfides and nickel sulfides have been demonstrated to be potential electrode materials among metal sulfides due to nontoxicity and high theoretical specific capacities. Electrochemical properties (capacity, cycle life, stability etc.) of Li/iron sulfides or nickel sulfides cell were improved by methode such as coating, doping of material, and nanoization of materials etc.
Proceedings of the Materials Research Society of Korea Conference
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2011.10a
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pp.33.1-33.1
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2011
Strontium doped lanthanum manganite (LSM) with perovskite structure for SOFC cathode material shows high electrical conductivity and good chemical stability, whereas the electrical conductivity at intermediate temperature below $800^{\circ}C$ is not sufficient due to low oxygen ion conductivity. The approach to improve electrical conductivity is to make more oxygen vacancies by substituting alkaline earths (such as Ca, Sr and Ba) for La and/or a transition metal (such as Fe, Co and Cu) for Mn. Among various cathode materials, $LaSrMnCuO_3$ has recently been suggested as the potential cathode materials for solid oxide fuel cells (SOFCs). As for the Cu doping at the B-site, it has been reported that the valence change of Mn ions is occurred by substituting Cu ions and it leads to formation of oxygen vacancies. The electrical conductivity is also affected by doping element at the A-site and the co-doping effect between A-site and B-site should be described. In this study, the $La_{1-x}Sr_xMn_{0.8}Cu_{0.2}O_{3{\pm}{\delta}}$ ($0{\leq}x{\leq}0.4$) systems were synthesized by a combined EDTA-citrate complexing process. The crystal structure, morphology, thermal expansion and electrical conductivity with different Sr contents were studied and their co-doping effects were also investigated.
Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference
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2010.06a
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pp.244-244
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2010
Doping process of crystalline silicon solar cell process is very important which is as influential on efficiency of solar. Doping process consists of pre -deposition and diffusion. Each of these processes is important in the process temperature and process time. Through these process conditions variable, p-n junction depth can be controled to low and high. In this paper, we studied a optimized doping pre-deposition temperature for high solar cell efficiency. Using a $200{\mu}m$ thickness multi-crystalline silicon wafer, fixed conditions are texture condition, sheet resistance($50\;{\Omega}/sq$), ARC thickness(80nm), metal formation condition and edge isolation condition. The three variable conditions of pre-deposition temperature are $790^{\circ}C$, $805^{\circ}C$ and $820^{\circ}C$. In the $790^{\circ}C$ pre-deposition temperature, we achieved a best solar cell efficiency of 16.2%. Through this experiment result, we find a high efficiency condition in a low pre-deposition temperature than the high pre-deposition temperature. We optimized a pre-deposition temperature for high solar cell efficiency.
Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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2016.02a
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pp.294.2-294.2
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2016
Graphene, a sigle atomic layered structure of graphite, has drawn many scientific interests for attractive future electronics and optoelectronics beyond silicon-based technology because of its robust physical, optical, and electrical properties. But high metal-graphene contact resistance prevents the successful integration of high speed graphene devices and circuits, although pristine graphene is known to have a novel carrier transport property. Meanwhile, in the recently reported metal-graphene contact studies, there are many attempts to reduce the metal-graphene contact resistance, such as doping and one-dimensional edge contact. However, there is a lack of quantitative analysis of the edge contact scheme through variously designed patterns with different metal contact. We first investigate the effets of edge contact (metal-graphene interface) on the contact resistance in terms of edge pattern design through patterning (photolithography + plasma etching) and electral measurements. Where the contact resistance is determined using the transfer length method (TLM). Finally, we research the role of metal-kind (Palladium, Copper, and Tianium) on the contact resistance through the edge-contacted devices, eventually minimizing contact resistance down to approximately $23{\Omega}{\cdot}{\mu}m$ at room temperature (approximately $19{\Omega}{\cdot}{\mu}m$ at 100 K).
We have studied the $TiO_2$ doping effects on the flux pinning behavior of an $MgB_2$ superconductor synthesized by the in-situ solid-state reaction. From the field-cooled and zero-field-cooled temperature dependences of magnetization, the reversible-irreversible transition of $TiO_2$-doped $MgB_2$ was determined in the H-T diagram (the temperature dependence of upper critical magnetic field and irreversibility line). For comparison, the similar measurements are also obtained from SiC-doped $MgB_2$. The critical current density was estimated from the width of hysteresis loops in the framework of Bean's model at different temperatures. The obtained results manifest that nano-scale $TiO_2$ inclusions served as effective pinning centers and lead to the enhanced upper critical field and critical current density. It was concluded that the grain boundary pinning mechanism was realized in a $TiO_2$-doped $MgB_2$ superconductor.
Transactions on Electrical and Electronic Materials
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v.16
no.2
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pp.78-81
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2015
Pure ZnO and ZnO nanowires doped with 3 wt.% Ga (‘3GZO’) were grown by pulsed laser deposition in a furnace system. The doping of Ga in ZnO nanowires was analyzed by observing the optical and chemical properties of the doped nanowires. The diameter and length of nanowires were under 200 nm and several ${\mu}m$, respectively. Changes of significant resistance were observed and the sensitivities of ZnO and 3GZO nanowires were compared. The sensitivities of ZnO and 3GZO nanowire sensors measured at 300℃ for 1 ppm of ethanol gas were 97% and 48%, respectively.
The fabrication of high quality graphene using chemical vapor deposition (CVD) method for application in semiconductor, display and transparent electrodes is investigated. Temperature and pressure have major impact on the growth of graphene. Graphene doping was obtained by deposition of $MoO_3$ thin films using thermal evaporator. Bilayer graphene and the metal layer graphene were obtained. According to the behavior of graphene growth P-type doping was confirmed. Graphene obtained through experiments was analyzed using optical microscopy, Raman spectroscopy, UV-visible light spectrophotometer, 4-point probe sheet resistance meter and atomic force microscopy.
The belt source evaporation is for the large size AMOLED devices to re-sublimate the organic film deposited on the metal plate. Using the plane source, the PL spectrum of the doped organic film has been studied for the first time. The PL peak of the pure Alq3 film was 512nm and that of the pure Rubrene was 557nm. The PL peak of the 2% Rubrene doped Alq3 film was shifted to $536{\pm}2nm$. The PL peak wavelength measured at the front surface of the film and at the back surface of the film was measured as nearly same as that the doping ratio maintains uniform within the film thickness. In conclusion, the doping control of the organic film becomes real using the belt type plate sublimation deposition.
Colloidal gold with a conducting polymer (e.g., polyaniline) bound on the metal surfaces has been used for the generation of conductimetric signal in a membrane strip immunosensor. Since polyaniline itself at a low pH range revealed a low conductivity, an approach of doping the polymer with a lithium salt was used. As an alternative method, a self-doped (i.e., pH-independent) sustance such as leucoemeraldine base sulfonated polyaniline (LEB-SPAN) can be used as signal generator. It was also highly soluble in water and, thus, such a selected polymer was expected to support a satisfactory property as a label of the immunosensor.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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