[ $R_{1/3}Sr_{2/3}FeO_{3}$ ](R=Pr, Nd, and Sm) was synthesized and their magnetic properties and charge ordering(CO) transition related with lattice dynamics and oxygen vacancy were systematically investigated. The charge disproportion ation(CD) in $R_{1/3}Sr_{2/3}FeO_{3}$(R=Pr,Nd) was in which two kins of iron with valence state $Fe^{3+}$ and $Fe^{5+}$ were found with ratio of 2:1. In this charge ordering state a sequence of $Fe^{3+}Fe^{3+}Fe^{5+}Fe^{3+}Fe^{3+}Fe^{5+}$ exists aligned along the [111] direction of the pseudocubic perovskite structure. The charge ordering exist in distorted structure involving $t_{pd}$ hybridization. The disordering phases coexist in distorted structure as temprature in creases that is controlled amount of oxygen vacancy. The magnetic hyperfine fields indicate charge tranfering temperature as it dissapeared drastically.
The electrical, optical and structural properties of ZnNiO thin _ films deposited on Si substrates using rf-magnetron sputtering method have been investigated before and after the thermal annealing processes. The crystallinity of the ZnNiO thin film become degraded with increasing the Ni contents. This is mainly because the lattice of the thin film was expanded due to the oxygen-deficient conditions. Concerning the electrical properties of the thin film, the carrier concentration increases ($6.81\times10^{14}\textrm{cm}^{-2}$) and Hall mobility decreases (36.3 $\textrm{cm}^2$/Vㆍs) with higher doping concentration of Ni. However, the carrier concentration and Hall mobility became low ($1.10\times10^{14}\textrm{cm}^2$ and high (209.6 $\textrm{cm}^2$/Vㆍs), respectively, after the thermal annealing process at $1000 ^{\circ}C$. We also observed a strong luminescene center peaking at 546 nm in photoluminescence spectra, which was caused by a deep level center in the ZnO band gap with oxygen deficient ZnNiO structure.
The oxidation of carbon monoxide by gaseous oxygen on 0.53, 1.02, and 1.51 mol $\%$CoO-doped $-Fe_2O_3$ catalysts has been investigated in the temperature range from 340 to 480$^{\circ}C$ under various CO and $O_2$ partial pressures. The oxidation rates have been correlated with 1.5-order kinetics; the 0.5-order with respect to $O_2$ and the first-order with respect to CO. In the above temperature range, the activation energy is 0.34 $\pm$ 0.01 eV${\cdot}$$mol^{-1}$. The electrical conductivity of 0.53, 1.02, and 1.51 mol %CoO-doped $\alpha$-$Fe_2O_3$ has been measured at 350$^{\circ}C$ under various $P_{CO}and $P_{O_2}$. From the conductivity data it was found that $O_2$ was adsorbed on Vo formed by doping with CoO, while CO appeared essentially to be chemisorbed on the lattice oxygen of the catalyst surface. The proposed oxidation mechanism and the dominant defect were supported by the agreement between the kinetic data and conductivities.
Cadmium-doped indium sesquioxide systems with a variety of CdO mol % were prepared to investigate the effect of doping on the electrical properties of indium sesquioxide. The electrical conductivities of pure $In_2O_3$ and Cd-doped $In_2O_3$ systems were measured in the temperature range from 25 to $1200^{\circ}C$ and $P_O_2$ range from $10^{-7}$ to $10^{-1}$ atm, and the thermoelectric power was measured in the same temperature range. The electrical conductivity and thermopower decreased with increasing CdO mol % indicating that all the samples are n-type semiconductors. The electrical conductivities of pure $In_2O_3$ and lightly doped $In_2O_3$ were considerably affected by the chemisorption $O_2$ at temperatures of 400 to $560^{\circ}C$ and then gaseous oxygen was reversibly chemisorbed at the temperature. The predominant defects in $In_2O_3$ are believed to be triply-charged interstitial indiums at temperatures above $560^{\circ}C$ and oxygen vacancies below $560^{\circ}C$. In Cd-doped $In_2O_3$ systems, cadmium acts as an electron acceptor and inhibits the transfer of lattice indium to interstitial sites, which give rise to the decrease of the electrical conductivity.
Nitrogen (N)-doped ordered mesoporous carbons (OMCs) with a dual transition metal system were synthesized as non-Pt catalysts for the ORR. The highly nitrogen doped OMCs were prepared by the precursor of ionic liquid (3-methyl-1-butylpyridine dicyanamide) for N/C species and a mesoporous silica template for the physical structure. Mostly, N-doped carbons are promoted by a single transition metal to improve catalytic activity for ORR in PEMFCs. In this study, our N-doped mesoporous carbons were promoted by the dual transition metals of iron and cobalt (Fe, Co), which were incorporated into the N-doped carbons lattice by subsequently heat treatments. All the prepared carbons were characterized by via transmission electron microscopy (TEM), X-ray diffraction (XRD) and X-ray photoelectron spectroscopy (XPS). To evaluate the activities of synthesized doped carbons, linear sweep was recorded in an acidic solution to compare the ORR catalytic activities values for the use in the PEMFC system. The dual transition metal promotion improved the ORR activity compared with the single transition metal promotion, due to the increase in the quaternary nitrogen species from the structural change by the dual metals. The effect of different ratio of the dual metals into the N doped carbon were examined to evaluate the activities of the oxygen reduction reaction.
Kim, Eun-Mi;Moon, Jong-Ha;Lee, Won-Jae;Kim, Jin-Hyeok
Journal of the Korean Ceramic Society
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v.43
no.6
s.289
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pp.362-368
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2006
Epitaxial $Ba_{0.5}Sr_{0.5}TiO_3$ (BSTO) thin films have been grown on TiN buffered Si (001) substrates by Pulsed Laser Deposition (PLD) method and the effects of substrate temperature and oxygen partial pressure during the deposition on their dielectric properties and crystallinity were investigated. The crystal orientation, epitaxy nature, and microstructure of oxide thin films were investigated using X-Ray Diffraction (XRD) and Transmission Electron Microscopy (TEM). Thin films were prepared with laser fluence of $4.2\;J/cm^2\;and\;3\;J/cm^2$, repetition rate of 8 Hz and 10 Hz, substrate temperatures of $700^{\circ}C$ and ranging from $350^{\circ}C\;to\;700^{\circ}C$ for TiN and oxide respectively. BSTO thin-films were grown on TiN-buffered Si substrates at various oxygen partial pressure ranging from $1{\times}10^{-4}$ torr to $1{\times}10^{-5}$ torr. The TiN buffer layer and BSTO thin films were grown with cube-on-cube epitaxial orientation relationship of $[110](001)_{BSTO}{\parallel}[110](001)_{TiN}{\parallel}[110](001)_{Si}$. The crystallinity of BSTO thin films was improved with increasing substrate temperature. C-axis lattice parameters of BSTO thin films, calculated from XRD ${\theta}-2{\theta}$ scans, decreased from 0.408 m to 0.404 nm and the dielectric constants of BSTO epitaxial thin films increased from 440 to 938 with increasing processing oxygen partial pressure.
The oxidation of carbon monoxide of low concentration on the natural manganese dioxide (NMD) has been investigated in a fixed bed reactor. The experimental variables were concentration of oxygen (500ppm~99.8%) and carbon monoxide (500ppm~10000ppm) and catalyst temperature ($50{\sim}750^{\circ}C$). The NMD(Natural Manganese Dioxide) has been characterized by temperature - program reduction(TPR) using 2.4% $CO/H_2$ as a reducing agent, thermogravimetric analysis (TGA), and reduction of NMD by 2.4% $CO/H_2$. It was found that the NMD catalyst activity on the unit area was greater than the $MnO_2$ catalyst for oxidation of CO at the same temperature. The thermal stability of oxidation activity was considered to be maintained when the NMD was heated to $750^{\circ}C$. The TGA, reduction by CO, and TPR of the NMD showed that the NMD had active lattice oxygen which was easily liberated on heating in the absence and low concentration of oxygen. The reaction order in CO is 0.701 between 500~3500ppm and almost zero between 3500~10000ppm of CO.
The x values and electrical conductivities of the nonstoichiometric compounds$ CeO_{2-x} have been measured in a temperature range from 600 to 1200$^{\circ}C$ under oxygen partial pressure of $2{\times}10^{-1}{\sim}1{\times}10^{-4}$ atm. The enthalpy of the defect formation shows an endothermic process with the oxygen partial pressure dependence (1/n value) of -1/3.18 ∼ -1/3.69. The activation energy and 1/n value for the electrical conductivity are estimated as 1.75 eV and -1/4, respectively. According to the x values, the $\sigma$ values, and the thermodynamic data, the defect structure of the ceria seems to be the formation of singly charged negative oxygen vacancies. The n-type semiconducting behaviors could be explained by the presence of excess metals in the lattice as the conduction electron donor.
Kim, Yeong-Lee;An, Cheol-Hyeon;Bae, Yeong-Suk;Kim, Dong-Chan;Jo, Hyeong-Gyun
Proceedings of the Materials Research Society of Korea Conference
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2009.05a
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pp.28.1-28.1
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2009
The superior properties of ZnO such as high exciton binding energy, high thermal and chemical stability, low growth temperature and possibility of wet etching process in ZnO have great interest for applications ranging from optoelectronics to chemical sensor. Particularly, vertically well-aligned ZnO nanorods on large areas with good optical and structural properties are of special interest for the fabrication of electronic and optical nanodevices. Currently, low-dimensional ZnO is synthesized by metal-organic chemical vapor deposition (MOCVD), molecular beam epitaxy (MBE), thermal evaporation, and sol.gel growth. Recently, our group has been reported about achievement the growth of Ga-doped ZnO nanorods using ZnO seed layer on p-type Si substrate by RF magnetron sputtering system at high rf power and high growth temperature. However, the crystallinity of nanorods deteriorates due to lattice mismatch between nanorods and Si substrate. Also, in the growth of oxide using sputtering, the oxygen flow ratio relative to argon gas flow is an important growth parameter and significantly affects the structural properties. In this study, Phosphorus (P) doped ZnO nanorods were grown on c-sapphire substrates without seed layer by radio frequency magnetron sputtering with various argon/oxygen gas ratios. The layer change films into nanorods with decreasing oxygen partial pressure. The diameter and length of vertically well-aligned on the c-sapphire substrate are in the range of 51-103 nm and about 725 nm, respectively. The photoluminescence spectra of the nanorods are dominated by intense near band-edge emission with weak deep-level emission.
The electrocatalytic characteristics of oxygen reduction reaction of the $PtxM_{(1-x)}$ (M = Co, Cu, Ni) supported on multi-walled carbon nanotubes (MWNTs) have been evaluated in a Polymer Electrolyte Membrane Fuel Cell (PEMFC). The $Pt_xM_{(1-x)}$/MWNTs catalysts with a Pt : M atomic ratio of about 3 : 1 were synthesized and applied to the cathode of PEMFC. The crystalline structure and morphology images of the $Pt_xM_{(1-x)}$ particles were characterized by X-ray diffraction and transmission electron microscopy, respectively. The results showed that the crystalline structure of the Pt alloy particles in Pt/MWNTs and $Pt_xM_{(1-x)}$/MWNTs catalysts are seen as FCC, and synthesized $Pt_xM_{(1-x)}$ crystals have lattice parameters smaller than the pure Pt crystal. According to the electrochemical surface area (ESA) calculated with cyclic voltammetry analysis, $Pt_{0.77}Co_{0.23}$/MWNTs catalyst has higher ESA than the other catalysts. The evaluation of a unit cell test using Pt/MWNTs or $Pt_xM_{(1-x)}$/MWNTs as the cathode catalysts demonstrated higher cell performance than did a commercial Pt/C catalyst. Among the MWNTs-supported Pt and $Pt_xM_{(1-x)}$ (M = Co, Cu, Ni) catalysts, the $Pt_{0.77}Co_{0.23}$/MWNTs shows the highest performance with the cathode catalyst of PEMFC because they had the largest ESA.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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