• 한국재료학회지
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• 제11권9호
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• pp.792-796
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• 2001

For electron beam lithography and SEM(scanning electron microscopy) applications, miniaturized electrostatic lenses called a microcolumn have been fabricated. In this paper, we report the fabrication technique for 20~30$\mu\textrm{m}$ apertures of electron lenses based on silicon and Mo membrane using an active Q-switched Nd:YAG laser. Experimental conditions of laser micromachining for silicon and Mo membrane are improved. The geometrical structures, such as the diameter and the preciseness of the micron-size aperture are dependent upon the total energy of the laser pulse train, laser pulse width, and the diameter of laser spot.

• 한국고분자학회:학술대회논문집
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• 한국고분자학회 2006년도 IUPAC International Symposium on Advanced Polymers for Emerging Technologies
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• pp.231-231
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• 2006

We fabricated a polymer sub-microstructure for optical device application by two-photon-induced laser lithography technique. Polymer pattern could be minimized as small as ${\sim}100\;nm$. The photopolymerization resin contains laser-dye, thus promising a high level of the optical gain. We utilized the lithography technique to the photonic crystal application, where the template of the two-dimensional photonic crystal was modified by polymer gain medium as defect-shape and line-shape orientations. Photonic band gap effect from polymer-doped photonic crystals is expected to exploit the application such as organic solid-state laser device.

• 한국광학회지
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• 제8권2호
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• pp.169-173
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• 1997

가로.세로의 비가 큰 광도파로 소자 제작용 마스크 제작에는 레이저 리소그래피 장치가 기존의 리소그래피 장치에 비해 비용면 등을 고려하면 많은 장점을 가지고 있다. 레이저 리소그래피 장치를 이용 보편적인 양극형 마스크는 물론 기존의 레이저 리소그래피 장치로는 제작하기에 많은 어려움이 있는 음극형 마스크를 포토레지스트의 인위적 변화를 이용 제작할 수 있었다. 제안된 방법은 주변환경 즉 먼지, 장치의 진동 그리고 레이저 입사광 변화 등에 기존의 장치 보다 덜 민감함을 실험적으로 확인하였다. 이 방법을 이용 광도파로 소자의 기본을 이루는 S형태 곡선으로 구성된 광분배기 패턴을 제작하였으며, 제작된 패턴의 대비 및 재현성에 있어서 그 특성이 매우 우수함을 실험적으로 확인하였다.

• 한국정밀공학회:학술대회논문집
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• 한국정밀공학회 2004년도 추계학술대회 논문집
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• pp.123-126
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• 2004

We have demonstrated the fabrication of patterned 3D photonic crystals by holographic lithography in conjunction with soft lithography. Holographic lithography created 3D ordered macroporous structures and soft lithography made tailored defects. Because the hard baked photoresist pattern possessed high resistance against the uncured photoresist solution and the refractive index did not change appreciably by hard baking, a crosslinked photoresist was used as a relief pattern for the holographic fabrication of patterned 3D photonic crystals. More complicated defect geometries might be easily obtained with more complicated patterns on PDMS stamps. Moreover, the present results might be used as templates for 3D PCs of highindex defects that can be exploited as optical waveguides and optical circuits.

• 한국광학회:학술대회논문집
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• 한국광학회 1998년도 제15회 광학 및 양자전자 학술발표회 논문집
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• pp.192-193
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• 1998

At Rutherford Appleton Laboratory(RAL), a high-repetition rate ps exicmer laser-plasma x-ray source has been developed for x-ray lithography with a calibrated output of up to 1 watt X-ray average power at 1nm wavelength. In a previous reports this compact x-ray source was used to print 0.18$\mu$m lines for a gate on Si-FET devices and deep three-dimensional structure with 100$\mu$m length, 25$\mu$m width, and 48 $\mu$m depth for a nanotechnology. The deep X-ray lithography is called as LIGA thchnology and getting a wide interest as a new technology for a nano-device. In this report all this works are summarized.

• 한국광학회지
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• 제2권4호
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• pp.186-192
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• 1991

엑시머 레이저빔($\lambda$ 0.248$\mu\textrm{m}$)을 사용하여 micro-lithography를 위해 축소배율 $5\times$를 갖는 4개의 구면으로 구성된 반사경계를 설계하였다. 먼저 초기광학계로서 Seidel 3차 수차 내에서 구면수차, 코마, 상면만곡, 왜곡수차가 제거된 4구면경계를 해석적으로 구하였다. 이 초기광학계의 성능 향상을 위해 컴퓨터를 이용한 최적화 기법을 사용하였고 그 결과 KrF 엑시머 레이저 광에 대해 N.A. 0.15와 image field diameter 3.3 mm 이내에서 회절 한계까지 제거된 수차 성능을 얻었다.

• 한국정밀공학회:학술대회논문집
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• 한국정밀공학회 2008년도 춘계학술대회 논문집
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• pp.395-396
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• 2008

• 한국광학회:학술대회논문집
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• 한국광학회 1996년도 Advance Program of 13th optics andquantum Electronics conference, 1996제13 회 광학 및 양자전자 학술 발표회 논문 요약집
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• pp.26-26
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• 1996

• 한국자기학회지
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• 제17권3호
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• pp.137-140
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• 2007

레이저 간섭 석판 장비(Laser Interference Lithography; LIL)를 이용하여, Anodic Aluminum Oxide(AAO) 나노기공의 배열을 향상 시켰다. 이후 진공에서 Fe와 Cu를 AAO/Si에 성장하고, AAO를 제거하여 Cu/Fe(20 nm) 나노구조를 제작하였다. AAO의 나노기공과 나노구조는 전처리 과정에서 제작된 PR(photoresist) 나노선을 따라 1차원으로 배열되었다. 자성 나노구조의 자기이력곡선으로부터 이들이 vortex 구조를 가지며, 쌍극자 상호작용이 지배적임을 확인하였다.

• 한국정밀공학회:학술대회논문집
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• 한국정밀공학회 2009년도 춘계학술대회 논문집
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• pp.421-422
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• 2009