• 반도체디스플레이기술학회지
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• 제11권1호
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• pp.7-11
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• 2012

One dimensional and two dimensional nano patterns were fabricated on a 4-inch substrate by Laser Interference Lithography (LIL). Mach-Zehnder interferometer was setup to obtain the interference patterns and adjusted the pattern sizes with change of incident angle. We could obtain a periodic structure with a period of 440 nm using 266 nm laser, and demonstrated a pattern size with $293{\pm}25nm$ over a 4-inch substrate.

• 한국자기학회지
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• 제17권3호
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• pp.137-140
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• 2007

레이저 간섭 석판 장비(Laser Interference Lithography; LIL)를 이용하여, Anodic Aluminum Oxide(AAO) 나노기공의 배열을 향상 시켰다. 이후 진공에서 Fe와 Cu를 AAO/Si에 성장하고, AAO를 제거하여 Cu/Fe(20 nm) 나노구조를 제작하였다. AAO의 나노기공과 나노구조는 전처리 과정에서 제작된 PR(photoresist) 나노선을 따라 1차원으로 배열되었다. 자성 나노구조의 자기이력곡선으로부터 이들이 vortex 구조를 가지며, 쌍극자 상호작용이 지배적임을 확인하였다.