• Proceedings of the Korean Society Of Semiconductor Equipment Technology
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• 2003.12a
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• pp.26-30
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• 2003

안테나 내장형 유도결합 플라즈마를 마그네트론 스퍼터링 장치에 추가하고 플라즈마의 생성 조건을 제어함으로써 고품질의 박막을 증착할 수 있는 장치의 개발 연구를 수행하였다. 정확한 장치의 성능을 평가하고 앞으로의 개선점을 찾기 위하여 Langmuir probe, OES, RF impedance probe, QMS 등의 플라즈마 진단 도구들을 사용하여 기본 동작 특성 및 공정중 플라즈마의 전자 온도, 밀도, 방출 파장 분석을 통한 입자 상태 분석, 부하 임피던스와 시스템 임피던스 분석을 통한 파워 전달 특성을 평가하고 이에 따라서 장치의 구성 및 동작 조건을 변경 개선하였다. 실험 대상 박막계는 기본 물성 측정을 위한 Al, Ag, TiN, MgO, Si, $SiO_2$, 등이며 타겟의 크기는 2인치 직경의 원형, 12인치 원형, 5인치 * 25인치 사각형 3가지 이다.

• Proceedings of the Korean Society Of Semiconductor Equipment Technology
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• 2007.06a
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• pp.104-108
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• 2007

This paper reviews a simple model and spectroscopic method for extracting plasma electron temperature and argon metastable number density. The model is based on the availability of experimental relative emission intensities of only four argon lines that originate from 4p argon level. In this method, Maxwell-Boltzman distribution for EEDF is assumed and the calculation relies on the accuracy of the cross section. Therefore OES have to be compared with Langmuir probe to establish their practical validity.

• Proceedings of the Korean Society Of Semiconductor Equipment Technology
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• 2007.06a
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• pp.113-117
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• 2007

유도 결합 플라즈마의 안테나 크기에 따른 플라즈마 밀도와 온도 분포 등 플라즈마 변수들을 측정하였다. 플라즈마 진단을 위해서 단일 량뮤어 탐침(Single Langmuir probe)을 사용했으며 전자 에너지 분포함수 측정을 통해 플라즈마 변수들을 측정하였다. 단일 감은 수의 세 개의 안테나를 준비하고 각각의 안테나에 파워를 인가하고 플라즈마 변수들을 측정하였다. 안테나 크기에 따른 플라즈마 분포의 변화는 압력에 따라 많이 변했는데, 낮은 압력에서는 안테나의 의존성은 크지 않았으며 높은 압력에서는 밀도 분포의 변화가 크게 나타났다.

• Proceedings of the IEEK Conference
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• 1998.06a
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• pp.339-342
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• 1998

Plasma etching of photoresist needs high etch rate, good uniformity and rae, good uniformity and low damage in low cost. ICP asher is expected to satisfy these requriement for next eneration semiconductor devices. ICPsimulator has been used to design the ashing chamber to redcue the development time and cost, and its results have been verified by QMS, OES and langmuir probe measurments. Plasma characteristics are monitored in terms of RF power and chamber pressure.

• Proceedings of the KIEE Conference
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• 1989.11a
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• pp.139-141
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• 1989

The characteristics of the hollow cathode discharge were investigated. Temperature distribution of the hollow cathode was investigated and I-V curves of the hollow cathode discharge were obtained. In this paper variables are chamber pressure, Ar gas flow rate injected through the cathode tube and the gap distance between cathode and anode. The inter electrode electron temperature and density were measured by Langmuir probe.

• Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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• 1999.07a
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• pp.208-208
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• 1999

It is found that with increasing power, the measured electron energy distribution by Langmuir probe evolves into a Druyvesteyn-like electron energy distribution in the low-pressure regime of 1mTorr in a small inductively coupled plasma. Electron bounce resonance is introduced to explain the transition of the electron energy distribution against the rf power, The energy diffusion coefficients which determine the shape of the electron energy distribution in elastic range are calculated with and without electron bounce resonance. This electron energy distribution transition is well explained by the electron bounce resonance.

• Proceedings of the Korean Institute of Surface Engineering Conference
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• 2015.11a
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• pp.182-182
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• 2015

레이저 홀로그램을 이용하여 $N_2$ 플라즈마를 진단하였다. 홀로그램 이미지에서 추출한 데이터는 optical emission spectroscopy와 langmuir probe로 측정한 데이터와 매우 유사한 경향성을 보였다. 이는 홀로그램 센서가 플라즈마의 전기 광학적 입자 정보를 제공할 수 있음을 의미한다. 홀로그램 안에 이 같은 정보가 저장될 수 있는 원리는 빛을 구성하는 양의 전하를 가지는 입자와 진공을 채우고 있는 음의 입자가 함께 형성하는 전자기적 에너지 필드의 형성에 있음을 밝힌다. 이러한 원리에 기초해서 그간 개발된 센서들을 소개한다.

• Proceedings of the Korean Institute of Surface Engineering Conference
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• 2014.11a
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• pp.229-229
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• 2014

발생된 플라즈마에 공존하는 진공에너지가 배제된 순수 플라즈마를 모니터링하였다. 이미징 기구를 이용하여 진공과 플라즈마 공간을 척의 온도를 변화시키며 촬상하였고, 획득한 이미지에서 입자정보를 추출하여 종래의 센서와 비교평가하였다. 추출된 입자정보는 OES와 langmuir probe와 유사한 경향성을 보였으며, 이는 추출한 정보가 플라즈마 입자의 분포를 구분할 수 있음을 의미한다.

• Proceedings of the KIEE Conference
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• 1987.11a
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• pp.300-303
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• 1987

A microwave plasma generating system has been designed to study the properties of plasma. A microwave(2.45GHz) generated by the magnetron is transmitted to the cylindrical cavity through the the rectangular wave guide to generate hydrogen plasma. The electron temperature and the plasma density are measured by the Double Langmuir probe. A dilectric such as alumina is heated by the microwave add plasma. The surface temperature varies with the neutral gas pressure.

• Proceedings of the KIEE Conference
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• 2007.10a
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• pp.175-176
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• 2007

Radial Basis Function Network (RBFN)을 이용하여 플라즈마 전위의 예측 모델을 개발하였다. RBFN의 예측성능은 Genetic Algorithm (GA)를 이용하여 최적화 하였다. 체계적인 모델링을 위해 통계적인 실험계획법이 적용되었으며, 실험은 반구형 유도 결합형 플라즈마 장비를 이용하여 수행이 되었다. $Cl_2$ 플라즈마에서의 데이터 측정에는 Langmuir probe가 이용되었다. 최적화된 GA-RBFN 모델을 일반 RBFN 모델과 비교하였으며, 15%정도 모델의 예측성능을 향상시켰다.