• 한국정보통신학회:학술대회논문집
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• 한국해양정보통신학회 1999년도 춘계종합학술대회
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• pp.385-388
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• 1999

Non-local impact ionization 현상의 해석에 사용될 수 있는 새로운 local model이 제시되었다. 새로운 모델은 임의의 점에서 가상의 선형 전기장과 path integral로 계산되는 유효전기장의 값을 이용한다. 이 모델은 불순물 농도, 전자 및 홀 농도, 전기장의 기울기 둥의 local 변수만을 이용함으로써 기존의 drift-diffusion 소자 시뮬레이터에 쉽게 적용될 수 있다. 결과를 Monte Carlo 시뮬레이션과 비교하여 새로운 모델이 non-local 현상을 잘 설명하는 것을 확인할 수 있었다.

• 한국정보통신학회:학술대회논문집
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• 한국해양정보통신학회 1999년도 춘계종합학술대회
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• pp.394-397
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• 1999

임팩트이온화는 고전계하에서 고에너지를 지닌 캐리어간 산란으로써 전자전송해석에 필수적인 요소이다. 그러나 포물선 또는 비포물선 E-k관계는 고에너지에서 실제 밴드구조와 매우 상이한 결과를 나타내므로 임팩트이온화에 대한 정화한 모델은 풀밴드 E-k관계와 페르미의 황금법칙을 이용하여 제시하고 있다. 본 연구에서는 풀밴드를 이용하여 실리콘 임팩트이온화율에 영향을 미치는 상태밀도와 에너지밴드구조 관계, overlap integral의 에너지에 대한 변화를 조사 분석하였다. 실리콘의 에너지밴드구조를 구하기 위하여 경험적 의사포텐셜방법을 사용하였으며 상태밀도를 구하기 위하여 사면체방법을 사용하였다. 또한 임팩트이온화율을 구하기 위하여 페르미의 황금법칙들 사용하였다. 결과적으로 상태밀도는 에너지증가에 따라 단조 증가하는 임팩트이온화율과 달리 에너지밴드구조에 따라 변화하였다. 그러나 overlap integral은 에너지증가에 따라 큰 값을 갖는 분포가 증가함으로써 임팩트이온화율에 직접 영향을 미치는 것을 알 수 있었다.

• 대한전자공학회논문지SD
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• 제41권9호
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• pp.1-9
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• 2004

III-V족 반도체 GaP GaAs 및 InP의 계단형 pn 접합에서의 항복전압을 위한 해석적 식을 유도하였다. 해석적 항복전압을 위해 각 물질에 대한 이온화계수 파라미터를 이용하여 유효 이온화계수를 추출하였고, 이의 이온화 적분을 통해 얻은 해석적 항복전압 결과는 수치적 결과 및 실험 결과와 10% 오차 범위 이내로 잘 일치하였다.

• 전기학회논문지
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• 제62권9호
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• pp.1255-1259
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• 2013

A calculation method of the breakdown voltage for the Drain region with the spherical structure in high voltage analog CMOS is proposed. The Drain depletion region is divided into many sub-regions and the doping concentration of each sub-region is assumed to be constant. The field in each sub-region is calculated by the integration of the net charge and the breakdown voltage is calculated using the ionization integral method. The breakdown voltage calculated using the proposed method shows the maximum relative error of 3.3% compared with the result of the 2-dimensional device simulation using BANDIS.

• 대한전기학회논문지:전기물성ㆍ응용부문C
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• 제49권2호
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• pp.78-81
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• 2000

The closed-form analytic solutions for the breakdown voltage of 6H-SiC RTD(silicon carbide reachthrough diode) having metal$-n^--n^+$ Schottky structure or $p^+-n^--n^+$, are successfully derived by solving impact ionization integral using an effective ionization coefficient. For the lightly doped n- epitaxial layer, the breakdown voltage of SiC RTD are nearly constant with the increased doping concentration while the breakdown voltages decrease for the heavily doped epitaxial layer.

• 대한전자공학회논문지SD
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• 제42권10호
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• pp.9-18
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• 2005

Si, GaAs, InP 및 $In_{0.53}Ga_{0.47}AS$ 계단형 $p^{+}n$ 접합에서의 항복전압을 위한 해석적 표현식을 유도하였다. 해석적 항복전압을 위해 각 물질에 대한 Marsland의 lucky drift 파라미터를 이용하여 유효이온화계수를 각각 추출하였고, 이의 이온화 적분을 통해 얻은 해석적 항복전압 결과는 $10^{14}cm\;^{-3}\~5\times10\;^{17}cm\;^{-3}$도핑 농도 범위에서 실험 결과와 $10\%$ 오차 범위 이내로 잘 일치하였다.

• 전자공학회논문지D
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• 제35D권2호
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• pp.40-51
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• 1998

Electron transport properties are investigated by Monte Carlo simulation in n-HgCdTe. The material is easily degenerated at low temperature or being slightly doped, and is characterized by small band gap and large nonparabolic factor. The degeneracy is incorporated in the Monte Carlo simulation by taking into account the electron-electron scattering and the pauli exclusion principle. In the conventional method, however, the electron-electron scattering rate was developed under the assumption of parabolic conduction band. A new formulation of the electron-electron scattering rate is develop considering the band nonparabolicity and overlap integral. The electron-electron scattering effects on the electron distribution,impact ionization coefficienty, electron temperature, drift velocity and electron energy are presented.

• 대한전자공학회논문지
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• 제27권7호
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• pp.1033-1041
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• 1990

In this paper, under pinch-off conditions, the gate-drain breakdown voltage characteristics of GaAs Power MESFET's as a function of device parameters such as channel thickness, doping concentration, gate length etc. are analyzed. Using the Green's function, the gate ionic charge induced by the depleted channel ionic charge is calculated. The impact ionization integral by avalanche multiplication between gate and drain is used to investigate breakdown phenomena. Especially, the localized excess surface charge effect as well as the uniform surface charge effect on breakdown voltage is considered.

• 전기학회논문지
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• 제61권12호
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• pp.1872-1876
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• 2012

A calculation method of the breakdown voltage for the drain region with the cylindrical structure in LDMOS is proposed. The depletion region of the drain is divided into many smaller regions and the doping concentration of each split region is assumed to be uniformly distributed. The field and potential in each split region is calculated by the integration of the Poisson equation and the ionization integral method is used to compute the breakdown voltage. The breakdown voltage resulted from the proposed method shows the maximum relative error of 2.2% compared with the result of the 2-dimensional device simulation using BANDIS.

• 천문학논총
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• 제30권2호
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• pp.163-167
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• 2015

We have carried out integral field unit (IFU) spectroscopy of $H{\alpha}$, [$N{\small{II}}$] and [$O{\small{III}}$] emission lines for a sample of Galactic planetary nebulae (PNe) with Wolf-Rayet (WR) stars and weak emission-line stars (wels). Comparing their spatially-resolved kinematic observations with morpho-kinematic models allowed us to disentangle their three-dimensional gaseous structures. Our results indicate that these PNe have axisymmetric morphologies, either bipolar or elliptical. In many cases the associated kinematic maps for the PNe around hot central stars also reveal the presence of so-called fast low-ionization emission regions.