• 제목/요약/키워드: Ionization coefficient

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실리콘 전력 MOSFET의 온도에 따른 항복전압 및 On 저항 (Temperature Dependent Breakdown Voltage and On-resistance of Si Power MOSFETs)

  • 박일용;최연익;정상구
    • 대한전기학회논문지:전기물성ㆍ응용부문C
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    • 제49권4호
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    • pp.246-248
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    • 2000
  • Closed-form expressions for the temperature dependent breakdown voltage and the on-resistance of the Si power MOSFETs were derived by employing effective temperature dependent ionization coefficient for electrons and holes. The breakdown voltage increases by 20% and the on-resistance increases 2 times when the temperature increases from 300 K to 423 K. The analytic results normalized to the values at 300 K show good agreement with the experimental data of Motorola within 3.5% and 7% for the breakdown voltage and the on-resistance, respectively.

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흡기포트 분사방식의 가솔린 엔진에서 급가속시 연료 거동에 관한 연구 (A Study on Fuel Transport Characteristics in a Port Fuel Injected Sl Engine during Transient Condition)

  • 황승환;조용석;이종화
    • 한국자동차공학회논문집
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    • 제11권3호
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    • pp.20-27
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    • 2003
  • In this paper, the fuel transport characteristics during transient condition was studied by using a Fast Response Flame Ionization Detector(FRFID). The quantitative measurement method for the inducted fuel mass into cylinder is studied. The inducted fuel mass into the cylinder was estimated by using calculated air-fuel ratio by hydrocarbon concentration of cylinder and air flow model. In order to estimate the transportation of injected fuel from the intake port into cylinder, the wall wetting fuel model was used. The two coefficient $\alpha$,$\beta$) of the wall-wetting fuel model was determined from the measured fuel mass that was inducted into the cylinder at the first cycle after injection cut-off To reduce an air/fuel ratio fluctuation during rapid throttle opening, the appropriate fuel injection rate was obtain from the wall wetting model with empirical coefficients. Result of air/fuel ratio control, air/fuel excursion was reduced.

$SiH_4$ 플라즈마중의 전자수송특성 해석 (The Analysis of Electron Transport Characteristics in $SiH_4$ Plasma)

  • 이형윤;하성철;김대연
    • 대한전기학회:학술대회논문집
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    • 대한전기학회 1998년도 추계학술대회 논문집 학회본부 C
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    • pp.925-928
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    • 1998
  • In this paper, the electron transport characteristics in $SiH_4$ has been analysed over the E/N range $0.5{\sim}300[Td]$ and Pressure value 0.5, 1, 2.5 [Torr] by a two-term approximation Boltzmann equation method and by a Monte Carlo simulation. The motion has been calculated to give swarm parameters for the electron drift velocity. diffusion coefficient, electron ionization, mean energy and the electron energy distribution function. The electron energy distribution function has been analysed in $SiH_4$ at E/N=30, 50[Td] for a case of the equilibrium region in the mean electron energy and respective set of electron collision cross sections. The results of Boltzmann equation and Monte carlo simulation have been compared with experimental data by Pollock, Ohmori, cottrell and Walker.

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$SiH_4$ 가스의 에너지 분포함수 관한 연구 (Analysis of Energy Distribution Function in $SiH_4$ Gas)

  • 성낙진;김상남
    • 대한전기학회:학술대회논문집
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    • 대한전기학회 2001년도 학술대회 논문집 전문대학교육위원
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    • pp.76-79
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    • 2001
  • Energy distribution function in $SiH_4$ has been analysed over the E/N range $0.5{\sim}300Td$ and Pressure value 0.5, 1.0, 2.5 Torr by a two-term approximation Boltzmann equation method and by a Monte Carlo simulation. The motion has been calculated to give swarm parameters for the electron drift velocity, diffusion coefficient, electron ionization, mean energy and the electron energy distribution function. The electron energy distribution function has been analysed in $SiH_4$ at E/N=30, 50Td for a case of the equilibrium region in the mean electron energy and respective set of electron collision cross sections.

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높은 항복전압을 위한 InP 합성 채널 MHEMT의 성능과 특성에 대한 연구 (Study of performance and characteristics of InP-composite channel MHEMT for High Breakdown Voltage)

  • 최석규;백용현;한민;이성대;이진구
    • 대한전자공학회:학술대회논문집
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    • 대한전자공학회 2006년도 하계종합학술대회
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    • pp.467-468
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    • 2006
  • To perform the comparative study, we experimented on two differential epitaxial structures, the conventional Metamorphic High Electron Mobility Transistor (MHEMT) using the InAlAs/InGaAs structure and the InP-composite channel MHEMT adopting the InAlAs/InGaAs/InP/n-InP structure. Compared to the conventional MHEMT, the InP-composite channel MHEMT shows improved breakdown performance; over about 3.5 V. This increased breakdown voltage can be explained by the lower impact ionization coefficient of the InP-composite channel MHEMT than that of the conventional MHEMT.

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MCS-BEq에 의한 $SiH_4$ 전자수송특성(電子輸送特性) (Electron Transport Characteristics in $SiH_4$ by MCS-BEq)

  • 성낙진;김상남
    • 대한전기학회:학술대회논문집
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    • 대한전기학회 2005년도 학술대회 논문집 전문대학교육위원
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    • pp.97-100
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    • 2005
  • This paper describes the electron transport characteristics in SiH4 has been analysed over the E/N range 0.5${\sim}$300[Td] and Pressure value 0.5, 1, 2.5 [Torr] by a two-term approximation Boltzmann equation method and by a Monte Carlo simulation. The motion has been calculated to give swarm parameters for the electron drift velocity, diffusion coefficient, electron ionization, mean energy and the electron energy distribution function. The electron energy distribution function has been analysed in $SiH_4$ at E/N=30, 50[Td] for a case of the equilibrium region in the mean electron energy and respective set of electron collision cross sections. The results of Boltzmann equation and Monte carlo simulation have been compared with experimental data by Pollock, Ohmori, cottrell and Walker.

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Design and construction of a new ultraviolet sensor using CsI deposition in the ionization chamber

  • Souri, R.;Negarestani, A.;Souri, S.;Farzan, M.;Mahani, M.
    • Nuclear Engineering and Technology
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    • 제50권5호
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    • pp.751-757
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    • 2018
  • In this article, a UV sensor that is an appropriate tool for fire detection has been designed and constructed. The structure of this UV sensor is an air-filled single-wire detector that is able to operate under normal air condition. A reflective CsI photocathode is installed at the end of the sensor chamber to generate photoelectrons in the ion chamber. An electric current is produced by accelerating photoelectrons to the anode in the electric field. The detector is able to measure the intensity of the incident UV rays whenever the current is sufficiently high. Therefore, the sensitivity coefficient of this sensor is found to be $7.67{\times}10^{-6}V/photons/sec$.

ESI/MS/MS를 이용한 혈장 중 카르니틴 정량분석 (Quantitation of L-carnitine in plasma by electrospray ionization tandem mass spectrometry)

  • 강승우;김호현;이경률;윤혜란
    • 분석과학
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    • 제18권2호
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    • pp.163-167
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    • 2005
  • 본 연구에서는 ESI/MS/MS를 이용하여 혈장에서 카르니틴을 신속하게 정량하는 분석방법을 개발하였다. 분석방법은 free carnitine (FC)는 유도체화 없이 혈액여지를 80% 메탄올로 추출하여 분석하였고, Total carnitine (TC)은 가수분해 한 후 추출하여 multiple reaction monitoring (MRM) scan mode로 분석하였다. Acyl carnitine (AC)는 TC에서 FC를 뺀 값을 사용하였다. 카르니틴의 분석에서 상관계수 ($r^2$)는 0.9995, 회수율은 97%, 재현성은 변동계수가 10% 이하, 검출한계는 $0.0016{\mu}mol/L$ 였다. 이 방법은 기존의 액체 크로마토그래피 보다 전처리가 간다하고 짧은 분석시간과 좋은 감도와 재현성을 보여 주었다. 정상인은 AC가 낮고 FC는 높은 패턴을 보였고, 유전성대사질환 환자는 FC는 낮고 AC가 높은 패턴으로 나타나 카르니틴의 3분획 분석은 유전성대사질환 환자의 확진 및 모니터링에 유용함을 보여주었다.

2D Fluid Modeling of Ar Plasma in a 450 mm CCP Reactor

  • 양원균;김대웅;유신재;주정훈
    • 한국진공학회:학술대회논문집
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    • 한국진공학회 2012년도 제43회 하계 정기 학술대회 초록집
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    • pp.267-267
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    • 2012
  • 최근 국내 반도체 장비 업체들에 의해서 차세대 반도체용 450 mm 웨이퍼 공정용 장비 개발이 진행 중에 있다. 반도체 산업은 계속해서 반도체 칩의 크기를 작게 하고, 웨이퍼 크기를 늘리면서 웨이퍼 당 칩수를 증가시켜 생산성을 향상해오고 있다. 현재 300 mm 웨이퍼에서 450 mm 웨이퍼를 도입하게 되면, 생산성 뿐만 아니라 30%의 비용절감과 50%의 cycle-time 단축이 기대되고 있다. 장비에 대한 이해와 공정에 대한 해석 능력을 위해 비용과 시간이 많이 들기 때문에 최근 컴퓨터를 활용한 수치 모델링이 진행되고 있다. 또한, 수치 모델링은 실험 결과와의 비교가 필수적이다. 본 연구에서는 450 mm 웨이퍼 공정용 장비의 전자밀도를 cut off probe를 통해 100 mTorr에 서 Ar 플라즈마를 파워에 따라 측정했다. 13.56 MHz 200 W, 500 W, 1,000 W로 입력 파워가 증가하면서 웨이퍼 중심에서 $6.0{\times}10^9#/cm^3$, $1.35{\times}10^{10}#/cm^3$, $2.4{\times}10^{10}#/cm^3$로 증가했다. 450 mm 웨이퍼 영역에서 전자 밀도의 불균일도는 각각 10.31%, 3.24%, 4.81% 였다. 또한, 이 450 mm 웨이퍼용 CCP 장비를 축대칭 2차원으로 형상화하고, 전극에 13.56 MHz를 직렬로 연결된 blocking capacitor ($1{\times}10^{-6}$ F/$m^2$)를 통해 인가할 수 있도록 상용 유체 모델 소프트웨어(CFD-ACE+, EXI corp)를 이용하여 계산하였다. 주요 전자-중성 충돌 반응으로 momentum transfer, ionization, excitation, two-step ionization을 고려했고, $Ar^+$$Ar^*$의 표면 재결합 반응은 sticking coefficient를 1로 가정했다. CFD-ACE+의 CCP 모델을 통해 Poisson 방정식을 풀어서 sheath와 wave effect를 고려하였다. Stochastic heating을 고려하지 않았을 때, 플라즈마 흡수 파워가 80 W, 160 W, 240 W에서 실험 투입 전력 200 W, 500 W, 1,000 W일 때와 유사한 반경 방향의 플라즈마 밀도 분포를 보였다. 200 W, 500 W, 1,000 W일 때의 전자밀도 분포는 수치 모델링과 전 범위에서 각각 10%, 3%, 2%의 오차를 보였다. 450 mm의 전극에 13.56 MHz의 전력을 인가할 때, 파워가 증가할수록 전자밀도의 최대값의 위치가 웨이퍼 edge에서 중심으로 이동하고 있음을 실험과 모델링을 통해 확인할 수 있었다.

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