The generation of Uniform High Density Plasma of Inductively Coupled Plasma Etcher Enhanced by Alternating Axial Magnetic Field (축방향 자기장의 주기적 단속을 이용한 유도결합형 플라즈마 식각장비의 고품위 플라즈마 형성)
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- Proceedings of the IEEK Conference
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- 1998.10a
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- pp.589-592
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- 1998