Improved Degradation Characteristics in n-TFT of Novel Structure using Hydrogenated Poly-Silicon under Low Temperature (낮은 온도 하에서 수소처리 시킨 다결정 실리콘을 사용한 새로운 구조의 n-TFT에서 개선된 열화특성)
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- Proceedings of the Korean Institute of Information and Commucation Sciences Conference
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- 2008.05a
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- pp.105-110
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- 2008