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현장추적자시험과 실내주상실험을 이용한 복합토양층의 수리분산특성 연구 (Hydrodynamic Dispersion Characteristics of Multi-soil Layer from a Field Tracer Test and Laboratory Column Experiments)

  • 강동환;양성일;김태영;김성수;정상용
    • 한국지하수토양환경학회지:지하수토양환경
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    • 제13권4호
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    • pp.1-7
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    • 2008
  • 본 연구에서는 복합토양층(조립질 모래, 세립질 모래, 실트 점토의 혼합토)에서 수행된 현장추적자시험과 3개 토양층에서 채취된 시료를 이용한 실내주상실험의 자료를 이용하여, 복합토양층의 수리분산특성을 분석하였다. 토양층별 투수성과 유동 분석에 의해, 유효공극률이 낮은 실트 점토의 혼합토와 세립질 모래에서 평균선형유속이 높고, 유효공극률이 큰 조립질 모래에서는 수리전도도가 높은 것을 알 수 있었다. 평균토양입경에 따른 수리전도도 함수는 Y=$3.49{\times}10^{-8}e^{15320x}$로 추정되었으며 결정계수는 0.90이었다. 평균토양입경에 따른 평균선형유속 함수는 Y=$1.88{\times}10^{-7}e^{11459x}$로 추정되었으며, 결정 계수는 0.81이었다. 그리고 평균토양입경에 따른 종분산지수 함수는 Y = 0.00256$e^{5971x}$이었으며, 결정계수는 0.98 정도로 나타났다. 평균선형유속과 종분산지수의 선형회귀분석 결과, 함수는 Y = 21.7527x+0.0063로 추정되었으며 결정계수는 0.9979로서 매우 높게 나타났다. 본 연구에서 산정된 현장규모/실내쥬모의 종분산지수비는 54.09로서 규모종속효과를 나타내었다. 현장추적자시험을 실시하여 산정한 종분산지수(1.39m)가 Xu와 Eckstein(1995)의 방법에 의해 산정된 종분산지수(0.186m)에 비해 7.47배 정도 크게 나타났다. 이는 시험 대수층 내 중 조립질 모래층에서의 우세한 확산 흐름에 의한 것이다.

다양한 Block Copolymer를 유화제 및 안정화제로 사용한 W1/O/W2-Type 다중에멀젼의 방출거동 및 안정성 (Stabilization and Release Behavior of W1/O/W2-Type Multiple Emulsions Using Various Block Copolymer Emulsifier and Stabilizer)

  • 허정림;김철훈
    • 공업화학
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    • 제8권4호
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    • pp.560-567
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    • 1997
  • 안정한 $W_1/O/W_2$ 다중에멀젼을 얻기 위한 새로운 시도가 연구 되었다; 오일상에 분산된 친유성 유화제와 PCL-PEO-PCL triblock copolymer 사이의 계면상호 작용이 연구되었다. $W_1/O/W_2$ 다중에멀젼은 2단계 방법으로 제조하였다. 친유성 유화제로서 Arlacel P-135와 친수성 유화제로서 Synperonic PE/F 127을 사용하였으며, Eutanol-G를 오일상으로 사용하였다. 다중에멀젼의 내부수상에 시약 방출물질로서 NaCl을 첨가하였으며, 이의 방출속도가 연구되었다. 다중에멀젼의 안정성은 분리도 측정과 광학현미경을 이용하여 평가하였다. 오일상에 PCL-PEO-PCL triblock copolymer를 용해하여 실험한 결과 2k-4k-2k와 6k-4k-6k의 조성 갖는 copolymer로 제조한 다중에멀젼에서 NaCl의 방출이 크게 감소하였다. 이것은 copolymer와 유화제가 안정성 증대와 방출 속도를 조절하는 효과적인 계면 복합체를 형성하기 때문이라고 사료된다. 2k-4k-2k의 조성 갖는 PCL-PEO-PCL triblock copolymer 1.2wt%의 함량으로 제조한 다중에멀젼에서 NaCl의 확산계수는 $2.64{\times}10^{-15}gcm^2/s$이고, 6k-4k-6k에서는 $3.23{\times}10^{-16}gcm^2/s$값을 얻었다. NaCl의 초기 농도의 증가에 따라 NaCl 방출이 감소하였고, Higuchi의 방출 모델식을 개정하여 적용한 결과, 고분자 matrix에 분산된 시약의 방출모델과 유사한 kinetic모델이 다중에멀젼에서 NaCl의 방출에 적당함이 발견되었다.

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해바라기 하배축의 오옥신 유도 신장에서 RNA 및 단백질의 합성과 세포벽 산성화의 관계 (Relationship between RNA- and Protein-Synthesis and Cell Wall Acidification in Auxin-Mediated Elongation of Sunflower Hypocotyls)

  • 조형택
    • Journal of Plant Biology
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    • 제35권2호
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    • pp.107-116
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    • 1992
  • 큐티클리층이 제거된 해바라기(Helianthus annuus L.) 하배축 절편의 오옥신(IAA, $10\;\mu\textrm{M}$) 유도 신장 반응에 있어서 RNA, 단백질 합성 및 세포벽으로의 $H^{+}$ 방출과의 관계에 대해 조사하였다. 하배축의 표피조직 바깥에 있는 큐티클층은 실험에 사용하는 여러 가지 대사억제제에 대해 어느 정도 불투과성 장벽으로 작용하여 억제제의 효과를 저하시키지만, 곱게 간 석영사로 하배축 절편을 문질러서 큐티클리층을 제거하였을 때 억제제들의 효과는 현저하게 증가하였다. 단백질 합성 억제제인 cycloheximide (CHI, $10\;\mu\textrm{M}$)는 5분 정도의 지연시간 뒤에 IAA유도 신장반응을 억제하기 시작하였으며, 신장 반응 4-5분 전(IAA처리 10분 뒤)에 처리하였을 때 IAA에 의한 신장반응을 완벽하게 억제하였다. 그러나 신장률이 정상상태를 유지하고 있는 IAA처리 60분 뒤에 CHI를 처리하였을 때는 신장률이 0에 이르기까지 60분 이상이 걸렸다. RNA합성 억제제인 cordycepin(COR, $200\;\mu\textrm{M}$)은 IAA보다 5분 먼저 처리하였을 때 신장반응을 완전히 억제하였으며, 정상상태의 신장을 완전히 억제하는 데는 70분 이상이 걸렸다. 원형질막 $H^{+}-ATPase$의 활성을 저해하는 vanadate(1 mM)는 IAA유도 신장과 세포벽으로의 $H^{+}$ 방출을 통한 배양액의 산성화를 모두 억제하였다. 또한 CHI는 완벽하게 COR 역시 현저하게 IAA에 의한 $H^{+}$ 방출을 억제하였다. 그러나 산성용액속에서, CHI에 의한 IAA 유도 신장의 억제가 다시 회복되지 않는 것으로 보아 CHI가 단순히 세포벽의 산성화를 억제하여 신장을 저지하는 것 같지는 않다. 이상의 결과에서 해바라기 하배축의 IAA유도 신장 반응의 시작과 세포벽으로의 $H^{+}$ 방출에는 단백질(생장제한 단백질)의 합성이 필요하며 이 단백질은 신장이 시작하기 전에는 존재하지 않고 IAA에 의한 신장 반응 및 분전에 새로 합성됨을 추측할 수 있다. 그리고 COR이 IAA 유도 신장을 억제한다는 것은 IAA에 의한 생장제한 단백질의 합성이 RNA합성 수준에서 이루어진다는 것을 의미한다. 또한 신장 반응에는 세포벽으로의 $H^{+}$ 방출이 필요하나 이는 단순히 세포벽의 산성화를 통한 산성생장의 원인이 되는 것 같지는 않다.

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특허자료를 이용한 우리나라 대학 연구의 특성 분석 (Empirical Analysis of University Patenting in Korea)

  • 서중해
    • KDI Journal of Economic Policy
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    • 제32권4호
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    • pp.115-151
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    • 2010
  • 본 논문은 대학의 연구활동을 특허라는 창을 통하여 들여다보고자 하였다. 특허인용정보가 있는 미국 특허를 이용하여 우리나라의 대학 특허를 기업 특허와 대비시켜 대학 특허의 특성을 분석하였다. 일반적으로 기업 특허와 대학 특허는 전자는 전유성(appropriability) 측면에서 그리고 후자는 기초성(basicness) 측면에서 차이가 있는 것으로 본다. 그런데 기초성 측면에서 우리나라 대학 특허는 기업 특허와 크게 두드러진 차이를 보이지 않는 것으로 나타났다. 다음으로 특허인용함수모형을 이용하여 특허의 질 또는 수준을 기업과 대학 사이에 비교해 보았다. 기업 특허는 자체인용이 상당수 포함되어 있는데, 이를 감안하면 전방인용에 있어서는 대학 특허와 기업 특허는 큰 차이를 보이지 않는 것으로 나타났다. 자체인용 비중이 높을수록 특허의 전유성 정도가 높은 경향이 있다는 선행연구를 상기하면, 기업 특허의 전유성 정도가 높게 나오는 것을 확인할 수도 있었다. 미국과 유럽을 대상으로 한 선행연구에서는 대학 특허가 대체로 기업 특허와 비교하여 인용빈도 측면에서 뒤지지 않는 것으로 분석되고 있다. 외국의 대학 특허 분석결과와 본 논문의 우리나라 대학 특허 분석결과를 대비시키면, 우리나라 대학 특허는 전반적인 수준이나 영향력 측면에서는 기업 특허에 미치지 못하며, 이는 우리나라대학의 특허활동이 최근에야 활성화된 데 기인한 것으로 추론된다. 이러한 분석 결과는 향후 대학의 연구수준을 제고하기 위한 노력을 보다 체계화해야 한다는 것을 시사하며, 최근 진행되고 있는 정부의 기초연구 정책방향 전환이나 대학 내의 자체적인 개혁 움직임을 간접적으로 지지한다. 정부의 정책 전환과 함께 학내의 개선 노력이 합치되면 향후 우리나라 대학의 특허인용도 및 영향력이 훨씬 높아지게 될 것으로 기대할 수 있다.

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원산지별 감초 추출물의 항균 활성 비교 및 천연방부제로써의 효능 연구 (Comparative Study on the Antimicrobial Activity of Glycyrrhiza uralensis and Glycyrrhiza glabra Extracts with Various Countries of Origin as Natural Antiseptics)

  • 김혜진;배정윤;장하나;박수남
    • 한국미생물·생명공학회지
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    • 제41권3호
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    • pp.358-366
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    • 2013
  • 본 연구에서는 원산지별 감초 추출물의 항균활성을 측정하여 비교 평가하였고, challenge test를 통해 화장품방부제인 메틸 파라벤과 감초 추출물의 방부력을 비교하였다. 1. 원산지별 감초 추출물의 수득률의 경우 50% 에탄올 추출물의 수득률은 한국 감초(19.24%), 중국 감초(18.34%). 우즈베키스탄 감초(17.33%)이고, 에틸아세테이트 분획의 수득률은 한국 감초(2.22%), 중국 감초(2.43%), 우즈베키스탄 감초(2.07%)이었다. 2. 원산지별 감초 추출물의 항균활성은 50% 에탄올 추출물 보다 에틸아세테이트 분획에서 항균활성이 우수하였으며 B. subtilis, P. acnes, E. coli, P. aeruginosa 균을 저해하였다. 최소저해농도(MIC) 측정을 통해 원산지별 감초 추출물 에틸아세테이트 분획의 항균활성을 비교한 결과, B. subtilis에 대한 최소저해농도는 한국(625 ${\mu}g/ml$), 중국(625 ${\mu}g/ml$), 우즈베키스탄(625 ${\mu}g/ml$)로 동일한 항균활성을 나타내었고, P. acnes에 대한 최소저해농도는 한국(156 ${\mu}g/ml$), 중국 (625 ${\mu}g/ml$), 우즈베키스탄(2,500 ${\mu}g/ml$)로 한국 감초 추출물의 에틸아세테이트 분획이 중국 감초 추출물의 에틸아세테이트 분획 보다는 약 4배, 우즈베키스탄 감초 추출물의 에틸아세테이트 분획 보다는 약 16배 더 우수한 항균활성을 나타내었다. E. coli에 대한 최소저해농도는 한국(5,000 ${\mu}g/ml$), 중국(10,000 ${\mu}g/ml$), 우즈베키스탄(10,000 ${\mu}g/ml$)로 한국 감초 추출물의 에틸아세테이트 분획이 중국, 우즈베키스탄 감초 추출물의 에틸아세테이트 분획 보다 E. coli에 대해서 2배 좋은 항균활성을 나타냄을 확인하였다. P. aeruginosa에 대한 최소저해농도는 한국(78 ${\mu}g/ml$), 중국(156 ${\mu}g/ml$), 우즈베키스탄(5,000 ${\mu}g/ml$)로, 한국 감초 추출물의 에틸아세테이트 분획의 P. aeruginosa에 대한 항균활성이 중국 감초 추출물의 에틸아세테이트 분획 보다 2배, 우즈베키스탄 감초 추출물의 에틸아세테이트 분획 보다는 약 64배 뛰어난 항균활성을 나타냄을 확인하였다. 한국 감초 추출물이 중국, 우즈베키스탄 감초 추출물보다 뛰어난 항균활성을 보이며, 화장품방부제로 쓰이는 파라벤류 보다 높은 항균활성을 가지고 있음을 확인하였다. 3. B. subtilis, P. acnes, E. coli, P. aeruginosa에 대한 challenge test를 통해 메틸 파라벤 보다 한국 감초 추출물이 우수한 방부력을 나타냄을 확인하였다. 이상의 본 연구 결과로부터 한국 감초추출물이 중국, 우즈베키스탄 감초 추출물보다 항균활성이 우수함을 확인하였다. 한국 감초 추출물이 여드름균인 P. acnes에 대한 우수한 항균활성을 나타내므로 한국 감초 추출물이 여드름치료제의 기능성원료로서 이용가능성과 화장품방부제로 쓰이는 파라벤류를 대체할 수 있는 천연방부제로써 응용 가능성이 크다고 사료된다.

피부질환 원인균에 대한 자몽종자추출물과 법제유황수의 항균 효과 (Anti-microbial Activity of Grapefruit Seed Extract and Processed Sulfur Solution against Human Skin Pathogens)

  • 하유미;이보배;배희정;제경모;김순래;최재석;최인순
    • 생명과학회지
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    • 제19권1호
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    • pp.94-100
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    • 2009
  • GSE와 PSS를 이용한 피부 외용제를 개발하기 위해, 평판 배지확산법 및 액체배지감수성실험을 이용하여 GSE와 PSS의 비듬균(Malassezia furjur, M. restricta), 여드름균(Propionibacterium acnes) 및 무좀균(Trichophyton mentagrophytes, T. rubrum)에 대한 항균 활성을 측정하였다. 평판 배지확산법의 경우 GSE가 $10{\mu}l/disk$일 때 M. furfur, M. restricta. P. acnes, T. mentagrophytes 및 T. rubrum은 각각 1.0, 1.0, 12.0, 15.0, 15.0 mm 였으며, PSS가 $10{\mu}l/disk$일 때에는 각각 7.3, 5.7, 2.0, 0 mm 이었다. 또한 액체배지감수성실험에서 GSE에 대한 MIC 값은 각각 3.91, 3.91, 0.004, 0.024, $0.012{\mu}l/ml$ 이었으며 PSS에 대한 MIC 값은 각각 0.03, 0.03, 0.156, 0.003, $0.012{\mu}l/ml$이었다. 또한 GSE 와 PSS가 함유된 에멀전 시제품을 제조하여 농도별 평판배지확산법을 수행한 결과 그 결과 값은 0.5% 농도에서 각각 5.2, 4.3, 8.0, 9.5, 12.8 mm의 값을 나타내었다. GSE 와 PSS가 실험 대상 균주에 대하여 모두 항균력을 가지고 있었으며 비듬균인 M. furfur와 M. restricta는 GSE 보다는 PSS에서 더 강한 항균력을 보였으며 여드름균인 P. acnes와 무좀균인 T. mentagrophytese 및 T. rubrum은 PSS 보다는 GSE에서 더 강한 항균 활성을 보였다. 그러므로 GSE와 PSS의 각각에 효과적인 균주별 피부질환 외용제 뿐만 아니라 GSE와 PSS를 함께 적용한 광범위한 피부질환 외용제의 응용개발이 가능하리라 사료된다. 또한 에멀전 로션 시제품의 물리화학적 특성을 분석한 결과 pH, 점도, 굴절 및 색도 변화에 있어서 모두 안정성을 보였고 이상의 연구결과를 바탕으로 기능성 화장품과 같은 피부 외용제 제품의 개발 가능성을 확인하였다.

New Approaches for Overcoming Current Issues of Plasma Sputtering Process During Organic-electronics Device Fabrication: Plasma Damage Free and Room Temperature Process for High Quality Metal Oxide Thin Film

  • Hong, Mun-Pyo
    • 한국진공학회:학술대회논문집
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    • 한국진공학회 2012년도 제42회 동계 정기 학술대회 초록집
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    • pp.100-101
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    • 2012
  • The plasma damage free and room temperature processedthin film deposition technology is essential for realization of various next generation organic microelectronic devices such as flexible AMOLED display, flexible OLED lighting, and organic photovoltaic cells because characteristics of fragile organic materials in the plasma process and low glass transition temperatures (Tg) of polymer substrate. In case of directly deposition of metal oxide thin films (including transparent conductive oxide (TCO) and amorphous oxide semiconductor (AOS)) on the organic layers, plasma damages against to the organic materials is fatal. This damage is believed to be originated mainly from high energy energetic particles during the sputtering process such as negative oxygen ions, reflected neutrals by reflection of plasma background gas at the target surface, sputtered atoms, bulk plasma ions, and secondary electrons. To solve this problem, we developed the NBAS (Neutral Beam Assisted Sputtering) process as a plasma damage free and room temperature processed sputtering technology. As a result, electro-optical properties of NBAS processed ITO thin film showed resistivity of $4.0{\times}10^{-4}{\Omega}{\cdot}m$ and high transmittance (>90% at 550 nm) with nano- crystalline structure at room temperature process. Furthermore, in the experiment result of directly deposition of TCO top anode on the inverted structure OLED cell, it is verified that NBAS TCO deposition process does not damages to the underlying organic layers. In case of deposition of transparent conductive oxide (TCO) thin film on the plastic polymer substrate, the room temperature processed sputtering coating of high quality TCO thin film is required. During the sputtering process with higher density plasma, the energetic particles contribute self supplying of activation & crystallization energy without any additional heating and post-annealing and forminga high quality TCO thin film. However, negative oxygen ions which generated from sputteringtarget surface by electron attachment are accelerated to high energy by induced cathode self-bias. Thus the high energy negative oxygen ions can lead to critical physical bombardment damages to forming oxide thin film and this effect does not recover in room temperature process without post thermal annealing. To salve the inherent limitation of plasma sputtering, we have been developed the Magnetic Field Shielded Sputtering (MFSS) process as the high quality oxide thin film deposition process at room temperature. The MFSS process is effectively eliminate or suppress the negative oxygen ions bombardment damage by the plasma limiter which composed permanent magnet array. As a result, electro-optical properties of MFSS processed ITO thin film (resistivity $3.9{\times}10^{-4}{\Omega}{\cdot}cm$, transmittance 95% at 550 nm) have approachedthose of a high temperature DC magnetron sputtering (DMS) ITO thin film were. Also, AOS (a-IGZO) TFTs fabricated by MFSS process without higher temperature post annealing showed very comparable electrical performance with those by DMS process with $400^{\circ}C$ post annealing. They are important to note that the bombardment of a negative oxygen ion which is accelerated by dc self-bias during rf sputtering could degrade the electrical performance of ITO electrodes and a-IGZO TFTs. Finally, we found that reduction of damage from the high energy negative oxygen ions bombardment drives improvement of crystalline structure in the ITO thin film and suppression of the sub-gab states in a-IGZO semiconductor thin film. For realization of organic flexible electronic devices based on plastic substrates, gas barrier coatings are required to prevent the permeation of water and oxygen because organic materials are highly susceptible to water and oxygen. In particular, high efficiency flexible AMOLEDs needs an extremely low water vapor transition rate (WVTR) of $1{\times}10^{-6}gm^{-2}day^{-1}$. The key factor in high quality inorganic gas barrier formation for achieving the very low WVTR required (under ${\sim}10^{-6}gm^{-2}day^{-1}$) is the suppression of nano-sized defect sites and gas diffusion pathways among the grain boundaries. For formation of high quality single inorganic gas barrier layer, we developed high density nano-structured Al2O3 single gas barrier layer usinga NBAS process. The NBAS process can continuously change crystalline structures from an amorphous phase to a nano- crystalline phase with various grain sizes in a single inorganic thin film. As a result, the water vapor transmission rates (WVTR) of the NBAS processed $Al_2O_3$ gas barrier film have improved order of magnitude compared with that of conventional $Al_2O_3$ layers made by the RF magnetron sputteringprocess under the same sputtering conditions; the WVTR of the NBAS processed $Al_2O_3$ gas barrier film was about $5{\times}10^{-6}g/m^2/day$ by just single layer.

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정보기술과 기업활동의 변화:미국의 서비스산업을 사례로 (Information technology and changes in firm activities:A case of the service industry in the United States)

  • ;이정록
    • 대한지리학회지
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    • 제29권4호
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    • pp.402-419
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    • 1994
  • 최근 컴퓨터산업과 정보통신기술의 급속한 발달은 우리의 사회를 고도의 정보사회로 전환시키고 있다. 정보기술의 발달과 수용은 생산 및 경 영방식, 소비 및 시장구조를 포함한 다양한 경제활동의 변화에 영향을 미치고 있으며, 특히 기업의 입지와 조직구조의 변화에 중요한 역할을 제공하는 기술 및 조직적 혁신으로 간주되 고 있다. 본 연구는 미국의 서비스 산업을 사례로 정보기술의 발달 및 확산이 기업활동의 변화에 미친 영향을 고찰하였다. 미국의 서비스 산업은 지난 10년동안 가장 급속한 성장을 보여, 오늘날 미국경제에서 가장 중요한 역할을 차지하고 있다. 그리고 서비스 산업에 종사 하고 있는 기업들은 다른 분야의 기업과는 달리 정보기술을 비교적 빨리 수용하여, 정보기 술이 기업의 성장에 미친 긍정적인 파급효과를 경험하고 있다. 도소매업의 경우, 정보기술은 사무활동의 효율화, EPOS시스템을 통한 구매 및 유통방법의 혁신, 체인상점간 기업네크워 크를 통한 경영활동의 극대화, 그리고 기업네트워크를 이용한 상점입지의 다변화 등 기업활 동의 변화에 커다란 영향을 미쳤다. 전체적으로 볼 때, 미국의 서비스 산업에 대한 정보기술 의 영향은 입지 및 조직구조의 변화, 경영 하부구조로서의 역할, 텔레마틱 같은 기업네크워 크의 확대, 정보경제의 등장으로 비용의 절감효과, 새로운 상품개발 가능성의 제고, 서비스 질의 향상 등으로 요약된다. 정보기술이 서비스 산업에 미친 영향 중에서 중요한 공간적 특 징은 기업활동의 입지변화를 들 수 있다. 정보기술의 발달은 기업입지를 포함한 경제활동의 입지를 분산시키느냐 아니면 오히려 특정지역(대도시)으로의 집중을 심화시키느냐 하는 문 제에 대해서는 학자들 간에 논란이 계속되고 있고, 또한 정보기술이 가지고 있는 양면적인 특성으로 간주되고 있는 문제이다. 정보기술은 미국의 서비스 활동의 입지변화에 영향을 미 쳤는데, 많은 학자들은 집중화와 분산화의 패턴이 동시에 나타나고 있다고 주장하고 있다. 도시내에서 서비스활동의 입지는 분산화 경향이 지배적으로 나타나고 있지만, 특정 분야는 CBD를 포함한 도시내부로 집중하는 경향도 나타났다. 그리고 국가적 수준에서는 대도시지 역에 입지하려는 경향과 함께 중소도시 및 농촌지역으로의 분산화가 동시에 나타났다. 미국 에서 서비스 활동의 입지변화에 대한 전체적인 특징은 기존의 입지에서 도시의 주변지역 또 는 중소도시로 분산화하는 경향이 우세하게 나타나고 있고, 이러한 경향은 정보기술의 발달 에 따라 더욱 확대될 것으로 예상된다. 미국의 서비스 활동의 입지변화를 고려하여 장차 우 리나라에서 발생할 서비스 활동 등의 입지변화를 예측해 보면, 서비스의 입지는 서울을 비 롯한 수도권으로의 집중이 심화되어, 공간적인 분산화는 거의 나타나지 않을 것으로 예상된 다. 특히 수도권과 비수도권 간의 정보통신시설 및 이용, 정보하부구조의 차이는 서비스활동 입지의 공간적 집중을 초래하여 지역간 불균형 발전을 더욱 심화시킬 것으로 예상된다. 따 라서 공간적 측면에서 균형적인 지역 정보화 전략의 수립을 위한 심층적인 연구가 요구된다.

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기술위험 관리와 위험갈등 : 휴대전화 전자파의 인체유해성 논란 (Managing Technological Risk and Risk Conflict : Public Debates on Health Risks of Mobile Phones EMF)

  • 정병걸
    • 과학기술학연구
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    • 제8권1호
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    • pp.97-129
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    • 2008
  • 새로운 기술의 개발과 확산으로 인해 기술 위험의 가능성과 영향이 크게 증가하고 있다. 불확실성을 기본적 속성으로 하는 위험의 특성상 지식의 불확실성 해소는 기술 위험관리의 핵심적 요소라고 할 수 있다. 지식의 불확실성이 기술위험 갈등의 중요한 원인이 되기 때문이다. 그러나 지식 축적만으로 기술위험 갈등이 해소되는 것은 아니다. 기술위험의 성격에 따라서는 기술위험에 대한 합의의 부족이 갈등의 주원인이 될 수 있기 때문이다. 휴대전화 전자파의 인체 유해성 논란은 대표적인 예라고 할 수 있다. 휴대전화 전자파의 인체 유해성 여부에 대해서는 명확한 결론을 내릴 수는 없지만 관련 지식이 꾸준히 축적되어 왔기 때문에 지식의 불확실성은 높지 않다. 산업계는 유해성을 입증할만한 뚜렷한 증거가 없기 때문에 법적 규제는 불필요하다는 입장인 반면 시민단체들은 유해 가능성이 입증되지 않았지만 가능성은 여전히 남아있기 때문에 사전 예방적 차원의 규제가 필요하다는 입장을 취하고 있다. 우리나라의 경우 시민단체의 지속적인 문제제기에 따라 정부는 인체흡수율(SAR) 기준을 설정하고 인체 흡수율 정보를 공개토록 하고 있다. 그러나 시민단체의 입장에서 보면 인체 흡수율 기준은 전신이 아닌 얼굴 부위에만 적용되는 제한적 기준이며, 인체 흡수율 정보도 자율적으로 공개토록 하고 있다는 점에서 완화된 형식적 규제라고 할 수 있다. 예방적 규제를 지지하는 시민단체와 산업계 보호의 관점에서 완화된 규제를 유지하려는 정부간에는 여전히 큰 인식 차이가 존재한다. 휴대전화 전자파의 기술 위험은 기술의 친숙성으로 인해 심각한 위험으로 받아들여지지 않고 있지만 심각한 갈등과 재난을 초래할 가능성도 있다. 따라서 이러한 문제를 예방하기 위해서는 안전의 목표를 경제적 목표와 통합하는 정책 통합과 위험 커뮤니케이션의 촉진을 통해 갈등 가능성과 재난의 발생의 소지를 차단하는 기술위험 관리가 필요하다.

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제4급 인산염을 이용한 과염소산 이온선택성 PVC막 전극의 전극전위와 AC 임피던스 특성 (Characteristics of Electrode Potential and AC Impendance of Perchlorate Ion-Selective Electrodes Based on Quaternary Phosphonium Salts in PVC Membranes)

  • 안형환
    • 멤브레인
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    • 제9권4호
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    • pp.230-239
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    • 1999
  • 운반체(감응물질)로 제 4급 인산염을 사용하여 PVC를 지지체로 하여 과염소산이온의 농도 $10^{-6}$ M까지 선형적인 이온선택성 전극을 제작하였다. 운반체의 화학적구조와 함량 가소제의 종류 및 막 두께에 따른 전극의 기울기 선형응답범위 및 한계측정농도 등 전극전위특성을 고려하여 최적의 과염소산 이온선택성 PVC막 전극을 제조한 다음 측정 가능한 pH 범위 선택계수 및 전극의 교류임피던스 특성을 비교 검토하였다 운반체로 tetraoctyl-phosphonium perchlorate(TOPP) tetraphenylphosphonium perchlorate(TPPP) 및 tetrabutylphosponium perchlorate (TBPP)_ 등의 제 4급 인산염의 과염소산 이온 치환체를 사용하였다 알킬기의 탄소고리 수가 증가할수록 전극특성은 TBPP$^P{ClO}_4$, 선형응답범위 $10^{-1}$\times$10^{-6}$ M 및 한계측정농도는 9.66$\times$$10^{-7}$ M 이었으며 시판되고 있는 Orion 전극특성보다 좋은 결과를 나타내었다 전극전위는 pH3~11범위에서 ph의 영향을 받지 않았으며 ${CIO}_4$ 에 대한 방해이온의 선택계수 서열은 ${SO}^2_4$ < F < Br < I 이었다 임피던스 측정결과 TOPP의 경우 등가회로는 용액저항 이중층용량과 벌크저항의 병렬 및 Warburg 임피던스의 직렬이었다 이 경우 용액저항은 거의 나타나지 않았고 확산에 의한 Warburg 임피던스는 크게 나타났으며 Warburg 계수는 1.32$\times$$10^74 $\Omega$ $\cdot$ ${cm}^2/s^{1/2}$이었다.

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