• 제목/요약/키워드: ICP

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Transcriptional Regulation of the VP16 Gene of Herpes Simplex Virus Type 1

  • Kwun, Hyun-Jin;Jun, Hong-Ki;Lee, Tae-Ho;Jang, Kyung-Lib
    • BMB Reports
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    • 제32권5호
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    • pp.456-460
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    • 1999
  • The promoter of the HSV-1 VP16 gene contains binding sites for the cellular transcription factors such as USF, CTF, and Sp1, each of which affects basal level expression of the VP16 gene. Transcription of the VP16 gene was induced by viral immediate-early proteins, ICP0 and ICP4, in a synergistic manner but repressed by ICP22. To gain further insight into the role of ICP0 in the expression of the VP16 gene during virus infection, several mutants with deletions in each of their transcriptional regulatory elements were generated. According to transient gene expression assays of these mutants using the CAT gene as a reporter, the USF and CTF binding sites were necessary for efficient induction of the promoter in the presence of transfected ICP0 or during virus infection, whereas the Sp1 binding site had little effect on ICP0-mediated VP16 expression. These results indicate that the immediate early proteins of HSV-1 regulate expression of the VP16 gene during virus infection by modulating the activities of cellular transcription factors such as USF and CTF.

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전북대학교 소재공정용 60kW 및 200kW ICP(RF) 플라즈마 발생 장치 구축 현황 (Chonbuk National University 60kW and 200kw ICP(RF) Plasma systems for Advance Material processing)

  • 이미연;김정수;서준호;최성만;홍봉근
    • 한국추진공학회:학술대회논문집
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    • 한국추진공학회 2010년도 제35회 추계학술대회논문집
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    • pp.781-783
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    • 2010
  • 전북대학교 고온 플라즈마 응용 연구 센터 구축사업단은 교육과학기술부 기초연구사업 중 고가연구장비 구축사업을 통하여 고부가가치 재료 연구 및 시험생산이 가능한 소재공정용 60kW 와 200kW ICP(RF) 플라즈마 발생장치를 구축하고 있다. 나노분말소재의 합성과 플라즈마 용사 코팅이 가능한 대형 ICP(RF) 플라즈마 장치 구축을 통하여 차세대 전자 부품 소재의 개발 및 고온 플라즈마 기술의 산업화에 이바지 하고자 한다.

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중성자 방사화 분석법과 원자 분광법을 이용한 갯벌 시료 중 미량원소 분석법에 관한 연구 (Analysis of Trace Elements in Mud Flat with Neutron Activation Analysis (NAA) and Atomic Spectroscopy)

  • 남상호;김민재;정용삼;김선하
    • 분석과학
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    • 제15권6호
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    • pp.521-528
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    • 2002
  • 남해연안 갯벌 속에 있는 무기원소들의 정량을 위해 중성자 방사화 분석법과 ICP-AES를 적용하였다. 중성자 방사화 분석법과 ICP=AES에 의하여 얻어진 Al, Ca, Fe, Mg, K, Na의 분석결과들을 상호 비교하였다. 결과적으로 침전물 중의 미량 원소를 분석하는데 ICP-AES보다 중성자 방사화 분석법이 더 우수한 것으로 나타났다. 따라서 중성자 방사화 분석법은 갯벌과 같은 복잡한 모체를 갖는 환결시료들의 분석헤서 중요한 역할을 할 것이다.

유도결합 플라즈마 파워가 NbN 코팅막의 미세구조, 결정구조 및 기계적 특성에 미치는 영향에 관한 연구 (Effect of Inductively Coupled Plasma on the Microstructure, Structure and Mechanical Properties of NbN Coatings)

  • 전성용
    • 한국표면공학회지
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    • 제48권5호
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    • pp.205-210
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    • 2015
  • NbN coatings were prepared by ICP (inductively coupled plasma) assisted magnetron sputtering from a Nb metal target in $Ar+N_2$ atmosphere at various ICP powers. Effect of ICP on the microstructure, crystalline structure and mechanical properties of NbN coatings was investigated by field emission electron microscopy, X-ray diffraction, atomic force microscopy and nanoindentation measurements. The results show that ICP power has a significant influence on coating microstructure, structure and mechanical properties of NbN coatings. With the increasing of ICP power, coating microstructure evolves from the columnar structure of DC process to a highly dense one. Crystalline structure of NbN coatings were changed from cubic ${\delta}$-NbN to hexagonal ${\beta}-Nb_2N$ with increase of ICP power. The maximum nano hardness of 25.4 GPa with Ra roughness of 0.5 nm was obtained from the NbN coating sputtered at ICP power of 200 W.

병렬 플라즈마 소스를 이용한 마이크로 LED 소자 제작용 GaN 식각 공정 시스템 개발 (GaN Etch Process System using Parallel Plasma Source for Micro LED Chip Fabrication)

  • 손보성;공대영;이영웅;김희진;박시현
    • 반도체디스플레이기술학회지
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    • 제20권3호
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    • pp.32-38
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    • 2021
  • We developed an inductively coupled plasma (ICP) etcher for GaN etching using a parallel plasma electrode source with a multifunctional chuck matched to it in order for the low power consumption and low process cost in comparison with the conventional ICP system with a helical-type plasma electrode source. The optimization process condition using it for the micro light-emitting diode (µ-LED) chip fabrication was established, which is an ICP RF power of 300 W, a chuck power of 200 W, a BCl3/Cl2 gas ratio of 3:2. Under this condition, the mesa structure with the etch depth over 1 ㎛ and the etch angle over 75° and also with no etching residue was obtained for the µ-LED chip. The developed ICP showed the improved values on the process pressure, the etch selectivity, the etch depth uniformity, the etch angle profile and the substrate temperature uniformity in comparison with the commercial ICP. The µ-LED chip fabricated using the developed ICP showed the similar or improved characteristics in the L-I-V measurements compared with the one fabricated using the conventional ICP method

내부충전 콘크리트와 횡보강 및 축방향 철근으로 보강된 PHC 말뚝의 휨강도 (Flexural Strength of PHC Pile Reinforced with Infilled Concrete, Transverse and Longitudinal Reinforcements)

  • 방진욱;현정환;이방연;이승수;김윤용
    • 콘크리트학회논문집
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    • 제25권1호
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    • pp.91-98
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    • 2013
  • PHC 말뚝은 우수한 축하중 저항 능력에 비해 상대적으로 전단 및 휨 저항 성능이 낮은 단점을 가지고 있다. 이 연구의 목적은 기존 PHC 말뚝의 단점을 개선할 목적으로 개발된 중공부에 내부충전 콘크리트, 축방향 철근과 전단 철근으로 보강한 합성 PHC 말뚝(ICP 말뚝)의 휨성능을 평가하는 것이다. 이를 위하여 기존의 교대 설계사례로 부터 말뚝에 발생하는 축력과 휨모멘트를 조사한 후, ICP 말뚝 계산을 위하여 개발한 축력-휨모멘트 상관관계 프로그램을 이용하여 허용 축력과 휨모멘트가 발생하는 부재력을 만족하도록 ICP 말뚝을 설계하였다. 설계에 따라 ICP 말뚝을 제작하였으며, 휨실험을 수행하였다. 실험 결과 ICP 말뚝은 PHC 말뚝에 비하여 약 45% 큰 휨내력을 나타내었다. 또한 계산에 의해 예측한 ICP 말뚝 휨강도의 25%를 허용 휨모멘트로 취할 경우, 약 4.5의 안전율을 갖는 것으로 평가되었다.

질산-이플루오린화암모늄 분해 및 ICP-MS에 의한 철강 중 붕소 정량에 관한 연구 (Determination of boron in steel by HNO3-NH4HF2 digestion and ICP-MS)

  • 최원명;음철헌;박일용
    • 분석과학
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    • 제27권6호
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    • pp.352-356
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    • 2014
  • 최근 붕소를 철강에 첨가함으로써 철강의 성질을 개선시키는 여러 연구들이 알려져 있다. 이러한 연구를 위하여 원자 흡광광도법, ICP-OES, ICP-MS에 의한 철강 중 붕소 분석 방법에 관한 연구들이 보고되고 있으며, 철강 중 붕소 정량 시 붕소의 휘발 손실 및 고농도 철 매트릭스로 인한 붕소 분석 방해 등의 어려움이 알려져 있다. 이 연구에서는 붕소의 휘발 손실을 억제 가능한 철강 시료 분해 방법 및 매트릭스 분리과정 없이 ICP-MS에 의하여 철강 내 붕소를 정량할 수 있는 방법을 연구하고자 하였다. 질산-이플루오린화 암모늄을 이용하여 철강 시료 중 붕소의 휘발 손실을 억제하고 시료의 완전 분해가 가능하였으며, ICP-MS에 의하여 다량의 철 매트릭스 중 붕소 정량이 가능하였다. 서로 다른 붕소 함량의 철강 표준물질을 대상으로 시료 분해 및 ICP-MS에 의한 붕소 정량 결과 회수율은 103~111%, 상대표준편차는 5% 이하였으며, 방법검출한계(MDL)는 $1.17{\mu}g/g$ 이었다.

Newly Designed Ion Beam Etcher with High Etch Rate

  • Cheong, Hee-Woon
    • Journal of Magnetics
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    • 제20권4호
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    • pp.366-370
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    • 2015
  • New ion beam etcher (IBE) using a magnetized inductively coupled plasma (M-ICP) has been developed. The magnetic flux density distributions inside the upper chamber, where the plasma is generated by inductive coupling, were successfully optimized by arranging a pair of circular coils very carefully. More importantly, the proposed M-ICP IBE exhibits higher etch rate than ICP.

침전법과 ICP-AES법에 의한 철강 시료 중 Boron의 분석 (Determination of Boron in Steels by Precipitation Method and ICP-AES)

  • 임헌성;이석근
    • 분석과학
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    • 제15권2호
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    • pp.180-183
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    • 2002
  • The new useful method for the direct determination of trace boron in iron matrix was studied by applying the precipitation of $Fe(OH)_3$ and ICP-AES. Optimum pH range was 11 ~ 12.5. Linear concentration range of boron was $0.01{\sim}1.0{\mu}g/m{\ell}$ in $5000 {\mu}g/m{\ell}$ solution as iron.

자화 플라즈마의 주기적 특성 변화와 E-ICP (Periodic Variation of Magnetized Plasma for E-ICP)

  • 라상호;박세근;오범환
    • 한국전기전자재료학회:학술대회논문집
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    • 한국전기전자재료학회 2000년도 하계학술대회 논문집
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    • pp.616-619
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    • 2000
  • It is important to control the plasma characteristics for high quality plasma process. Recently, a novel method proposed by us, named as Enhanced-ICP, using periodic weak time-varying axial magnetic field added to a normal ICP source, has improved etch characteristics much. Variation of plasma characteristics according to the frequency of time-varying axial magnetic field have been measured and analyzed.

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