• ETRI Journal
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• v.9 no.1
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• pp.146-157
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• 1987

SOI(Silicon-On-Insulator)는 차세대 VLSI 구조로서 최근 중요한 연구개발 대상이 되고 있다. SOI의 제조기술을 크게 recrystallization, ELO, FIPOS 및 SIMOX로 나누고 이들 각 기술에 대한 고찰을 하였다. 향후 전반적인 SOI 제조기술 개발방향은 SOI면적 확장 및 결함 감소를 위한 것이 될 것이다.

• 대한방사선방어학회:학술대회논문집
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• 2009.11a
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• pp.138-139
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• 2009

• 대한방사선방어학회:학술대회논문집
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• 2009.11a
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• pp.62-63
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• 2009

• 한국항공운항학회:학술대회논문집
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• 2007.12a
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• pp.21-22
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• 2007

• 대한예방의학회:학술대회논문집
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• 2001.04a
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• 2001

• Proceedings of the Korea Air Pollution Research Association Conference
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• 1996.04a
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• pp.138-139
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• 1996

• The Bulletin of The Korean Astronomical Society
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• v.31 no.1
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• pp.34.2-34.2
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• 2006

• 한국생물공학회:학술대회논문집
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• 2003.04a
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• pp.530-530
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• 2003

• 대한핵의학회:학술대회논문집
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• 1999.11a
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• pp.15.1-15.1
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• 1999

• Proceedings of the Korean Society of Developmental Biology Conference
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• 2005.07a
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• pp.50-50
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• 2005