In this study, the alkaline degreasing agent was developed for electroplating pretreatment process, and the efficiency and the durability was predicted. The alkaline deeping degreasing agent was prepared by blending sodium hydroxide (NaOH), sodium carbonate ($Na_2CO_3$), sodium silicate ($Na_2SiO_3$), and sodium lauric sulfate (SLS). The performance tests of the degreasing agent were evaluated in the $40{\sim}50^{\circ}C$ of the degreasing temperature and 30~40 min of the degreasing time. The efficiency and durability of the prepared degreasing agent were tested by the waterdrop formation test and Hull-cell plating test. The optimum ratio of alkaline degreasing agent was NaOH (30 g/L) + SLS (6.0 g/L) + $Na_2SiO_3$ (2.0 g/L) + $Na_2CO_3$ (40 g/L). Also, the optimum degreasing conditions were $50^{\circ}C$ of the degreasing temperature and 35 min of the degreasing time.
Journal of the Society of Naval Architects of Korea
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v.45
no.2
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pp.124-131
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2008
This paper presents the analysis of resistance performance and bow waves for the resistance-minimized hull form of small fishing boat by using numerical simulations and model tests. The resistance-minimized hull form is developed from an original hull form which is selected from existing small fisher boats in our country. In order to estimate the resistance performance for the original and the developed hull form, several numerical simulations and model tests are carried out. Marker and Cell(MAC) method and Marker-Density method are adopted to simulate the free-surface bow waves around advancing hull surface. The results of numerical simulations are compared with the model tests in towing tank. The results show that the resistance performance of the resistance-minimized hull form is improved than that of the original hull form. The results of this study will be a good guide to the hull form development of small fishing boats in future.
Journal of the Korean institute of surface engineering
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v.43
no.2
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pp.64-72
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2010
CuSnZn electroplating was investigated as alternative to Ni plating. Evaluation of electrolyte and plating process was performed to control physical characteristics of the film, and to collect practical data for application. Hull-cell test was conducted for basic comparison of two commercialized products and developed product. Based on hull-cell test results, long term test of three electrolytes was performed. Various analysis on long term tested electrolyte and samples have been done. Reliable and practical data was collected using FE-SEM (FEI, Sirion), EDX (ThermoNoran SIX-200E), ICP Spectrometer (GBC Scientifi c, Integra XL), FIB (FEI, Nova600) for anlysis. Physical analysis and reliability test of the long term tested film were also carried out. Through this investigation plating time, plating speed, electrolyte composition, electrolyte metal consumption, hardness and corrosion resistance has been compared. This set of data is used to predict and control the chemical composition of the film and modify the physical characteristics of the CuSnZn alloy.
Lee Young-Gill;Kim Kyu-Seok;Kang Dae-Sun;Jeong Kwang-Leol
Journal of Ocean Engineering and Technology
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v.20
no.3
s.70
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pp.88-95
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2006
The resistance characteristics of a trimaran are studied, varying the bottom profile and transom stern of the main hull. The bottom profile is varied in three cases (convex, flat, concave). Using the experimental and numerical methods, the resistance performance of each hull form is compared. The experiments are carried out in ship model basin, and the numerical simulations are performed by a finite-difference method, based on the Marker and Cell scheme. Euler and continuity equationsare used for the governing equations of the flaw field around a trimaran with transom stern. The agreement of both results is good. The optimal bottom profiles for transom stern are presented for law-speed and high-speed regions, respectively.
Proceedings of the Korean Institute of Surface Engineering Conference
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2009.05a
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pp.144-144
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2009
본 논문에서는 6가 크롬 도금의 대체 기술 중 하나인 3가 크롬 도금 공정 기술 개발에 있어 도금 소지인 Mg 합금에 온도, 전류 밀도 등의 도금 조건을 변경하여 도금 층의 두께와 형상, 미세조직 등을 분석, 최적의 도금 조건을 확인하였다. 또한 3가 크롬도금의 실 부품 적용 가능성을 검토하기 위해 상용 프로그램인 Solidworks와 Elsyca Platingmaster를 이용, 3D Hull Cell test를 전산 모사하고 실제 Hull Cell 도금과 비교 분석 하였다.
Son Sang Ki;Lee Yoo Yong;Cho Byung Won;Lee Jae Bong;Lee Tae Hee
Journal of the Korean Electrochemical Society
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v.4
no.4
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pp.160-165
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2001
The eletrochemical charateristics of mercapto compound additives on the copper electroplating for semi conductor metalization were investigated. Mercapto compounds including sulfur atom is known that they activate deposition rate in eletroplating. Four different types of mercapto compounds were chosen with different concentration and both the characteristics of plating and throwing power were investigated by electrochemical experiments such as Hull cell test, Haring-Blum cell, cathodic polarization, EQCM(Electrochemical Quartz Crystal Microbalance). 3-Mercapto-1-propanesulfonic acid among 4 different mercapto compounds was regarded as the most proper activator with the results of the mass change of Cu metal deposited on eletrode by cathodic polarization and EQCM. The overpotential was more shifted to 100 mV in the concentration of 20 ppm than the solution with only $Cl^-$ in cathodic scan.
The alternate plating method was suggested by a tin-cobalt alloy plating process which has excellent mechanical characteristics and also favorable to environment. Tin-cobalt alloy plating has many advantages such as nontoxicity, variable color-tone, and no post-treatment process. In this study, the plating conditions such as temperature, pH, current density, plating time, and amount of additive (glycine) were determined in the tin-cobalt alloy plating process through Hull-cell test and surface analysis. As the result of Hull-cell analysis, brightness became superior as the amount of glycine increased. It was found that the optimum alloy ratio was 0.03 M of $SnCl_{2}{\cdot}2H_{2}O$ and 0.05 M of $CoSO_{4}{\cdot}7H_{2}O$ at $50^{\circ}C$, pH 8.5, and $0.5A/dm^2$. The optimum amount of additive was 15 g/L of glycine and 0.1 g/L of organic acid. Then, the solution including glycine was recommended as an optimum plating solution for a chromium plating process.
Proceedings of the Korean Institute of Surface Engineering Conference
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2009.05a
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pp.141-141
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2009
흑색 3가크롬용액을 최적의 전착조건을 찾기 위해서 pH와 온도의 변화에 따란 Hull-cell test, 두께측정, 분극실험을 실시하였다. 온도가 올라갈수록, pH가 낮을수록 도금층의 두께가 두꺼워졌으나, 온도 $40^{\circ}C$, pH 3.4-3.8일때 균일한 도금층을 얻을 수 있었다.
Journal of the Korean institute of surface engineering
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v.10
no.1
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pp.1-18
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1977
To support the domestic plating industry concerning localized products, survey was conducted in with chemicals and properties of plating solution. Collected samples from 55 factories throughout the country were investigated by spectigated by spectrograph, Hull cell test chemical analysis method to find major chemical components of the plating solution.
Nickel plating thickness increased with the electric current density, and the augmentation was more thick in $6{\sim}10A/dm^2$ than low current. Hull-cell analysis was tested to evaluate the current density. Optimum thickness was obtained at a temperature of $60^{\circ}C$, and the pH fluctuation of 3.5~4.0. Over the Nickel ion concentration of 300 g/L, plating thickness increased with the current density. The rate of decrease in nickel ion concentration was increased with the current density. The quantity of plating electro-deposition was increased at the anode surface, which was correlated with the increase of plating thickness. The plating thickness was increased because of the quick plating speed. However, the condition of the plating surface becomes irregular and the minuteness of nickel plating layer was reduced with the plating rate. After the corrosion test of 25 h, it was resulted in that maintaining low electric current density is desirable for the excellent corrosion resistance in lustered nickel plating. According to the program simulation, the thickness of diffusion layer was increased and the concentration of anode surface was lowered for the higher current densities. The concentration profile showed the regular distribution at low electric current density. The field plating process was controlled by the electric current density and the plating thickness instead of plating time for the productivity. The surface physical property of plating structure or corrosion resistance was excellent in the case of low electric current density.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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