• 제목/요약/키워드: Hollow cathode tube

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Hollow Cathode Discharge Tube에서의 광검류 신호 측정 (Measurement of Optogalvanic Signal in Hollow Cathode Discharge Tube)

  • 이준회;윤만영;김송강
    • 한국전기전자재료학회:학술대회논문집
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    • 한국전기전자재료학회 2002년도 하계학술대회 논문집 Vol.3 No.2
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    • pp.874-877
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    • 2002
  • The optogalvanic signals were measured using hollow cathode discharge tube with argon as buffer gas at change of discharge currents. A change of ionization rate due to electron collision causes an increase or decrease of the electric conductivity. This change in electric conductivity generates the optogalvanic signal. We conclude that optogalvanic signal has close relation with the lowest metastable atoms density at low current.

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HOLLOW CATHODE DISCHARGE의 방전 특성 연구 (A study of the hollow cathode discharge)

  • 조상무;서용운;김명재;황기웅
    • 대한전기학회:학술대회논문집
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    • 대한전기학회 1989년도 추계학술대회 논문집 학회본부
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    • pp.139-141
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    • 1989
  • The characteristics of the hollow cathode discharge were investigated. Temperature distribution of the hollow cathode was investigated and I-V curves of the hollow cathode discharge were obtained. In this paper variables are chamber pressure, Ar gas flow rate injected through the cathode tube and the gap distance between cathode and anode. The inter electrode electron temperature and density were measured by Langmuir probe.

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Hollow cathode discharge tube에서의 광검류 신호 측정 (Measurement of Optogalvanic Signal in Hollow Cathode Discharge Tube)

  • 이준회;정기주
    • 한국진공학회지
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    • 제11권2호
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    • pp.119-126
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    • 2002
  • Hollow cathode discharge(HCD)에서 알곤 기체를 완충 기체로 사용하여 전류 변화에 따른 광검류 신호를 측정하였다. 광검류 신호는 방전의 전기 전도도의 증가 또는 감소에 의해 나타나며 전기 전도도의 변화는 전자 충돌에 의한 이온화율의 변화에 의해 일어난다. 낮은 방전 전류에서 광검류 신호는 가장 낮은 준안정 준위 원자의 밀도 변화와 밀접한 관계가 있다는 결론을 얻었다.

이온 플레이팅용 장수명 플라즈마 건 장치의 개발 (Development of a Plasma Gun System for Ion Plating with Long Lifetime)

  • 최영욱
    • 전기학회논문지
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    • 제57권1호
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    • pp.78-81
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    • 2008
  • A hollow cathode which has extremely stable discharge characteristic has been developed. This is composed of the two separated lanthanum hexaboride(LaB6) of a disk type in the tube as the electron emitters. The way of design is of great advantage to extend the surface discharge area of the LaB6, which is also useful for optimal fixing of the LaB6. The hollow cathode is capable of producing 30 kW(100 V, 300 A) of power continuously. Because the generated plasma beam with the high temperature(above $3000^{\circ}C$) from the hollow cathode passes through the center hole of the two intermediate electrodes, it is designed with the high temperature material of the tungsten and the suitable structure of the water cooling. The combinations of the hollow cathode and the two intermediate electrodes are practically useful for the ion plating plasma beam source.

Hollow Cathode Discharge에서 플라즈마 특성에 관한 연구 (Study on Characteristics of Plasma in Hollow Cathode Discharge)

  • 윤만영;신종순
    • 한국인쇄학회지
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    • 제23권2호
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    • pp.93-101
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    • 2005
  • The measured plasma temperature of Ar hollow cathode discharge for several metal cathodes are about $620\;{\sim}\;780K$ at discharge current of $7\;{\sim}\;10mA$. The optogalvanic signals were measured using hollow cathode discharge tube with argon as buffer gas at change of discharge currents. A change of ionization rate due to electron collision causes an increase or decrease of the electric conductivity. This change in electric conductivity generates the optogalvanic signal. We conclude that optogalvanic signal has close relation with the lowest metastable atoms density at low current.

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Changes in the Optogalvanic Signal Amplitude in a Hollow Cathode Discharge

  • Lee, Jun-Hoi;Koo, Kyung-Wan;Lee, Ki-Sik
    • Transactions on Electrical and Electronic Materials
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    • 제10권6호
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    • pp.212-216
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    • 2009
  • The spatial distribution of the optogalvanic (OG) signal in argon at the 801.489 nm ($1s_5-2p_8$ transition at the metastable level in Paschen notation) was investigated in the radial direction of a hollow cathode discharge tube. The results of this experiment showed that the OG signal amplitude decreases in accordance with the following two conditions; first, the level of discharge current and second, the distance from the cathode dark space. These results can be quantified by analyzing the electron density profile along the discharge regions, which can directly influence the collisional ionization induced by electron impact.

장수명 플라즈마 건의 개발 (Development of a plasma gun for long lifetime)

  • 최영욱
    • 대한전기학회:학술대회논문집
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    • 대한전기학회 2007년도 Techno-Fair 및 추계학술대회 논문집 전기물성,응용부문
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    • pp.192-193
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    • 2007
  • A hollow cathode which has extremely stable discharge characteristic has been developed. This is composed of the two separated lanthanum hexaboride ($LaB_6$) of a disk type in the tube as the electron emitters. The way of design is of great advantage to extend the surface discharge area of the $LaB_6$, which is also useful for optimal fixing of the $LaB_6$. The hollow cathode is capable of producing 30 kW (100 V, 300 A) of power continuously.

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관통형 속 빈 음극관 글로우 방전에서 다양한 음극관 디자인에 따른 구리방출선 세기 증가에 대한 연구 (Various Cathode Design for Cu Emission Line In See-through Hollow Cathode Glow Discharge (st-HCGD))

  • 우정수;박현국;김용성;최규성;이상천
    • 대한화학회지
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    • 제48권4호
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    • pp.351-357
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    • 2004
  • 의료용 구리증기 레이저 개발의 일환으로 관통형 속 빈 음극관 글로우 방전(seethrough Hollow Cathode Glow Discharge; st-HCGD)을 이용하여 Cu 510.6 nm 방출선의 세기 증가를 조사하였다. 높은 전류에서도 매우 안정한 플라스마가 생성될 수 있도록 여러 가지 요인들 - 작동 전압 및 전류, 음극관의 길이와 내경 및 내부 형태, 음극관의 sputtering range 등 - 에 따른 최적조건을 찾는 실험을 수행하였다. 그 결과, 최종적으로 디자인된 글로우 방전셀에서는 앞선 여러 가지 실험으로 최적화된 조건을 적용하였다. 이들 최적화된 조건으로는 방전셀 내부에 아르곤 가스를 100 SCCM(standard cubic centimeter)으로 일정하게 흘려주었을 때의 방전셀 압력은 2.3 Torr 이며, 방전 전압 및 전류는 600 V, 700 mA(420 W), 음극관의 형태는 4-11-4 mm, 음극관의 길이는 40 mm 등이다. 한편, 700 mA 이상의 고전류에서 녹은 구리 음극관을 관찰함으로써 음극 sputtering으로 인한 플라스마의 온도가 최소 $1,000{\circ}C$ 이상에 이르렀음을 확인할 수 있었다(구리의 녹는점, $1084{\circ}C$).

원자 방출 분광 분석을 위한 개선된 관통형 속빈 음극관 글로우 방전 셀 개발 및 기초 연구 (The Fundamental Studies and Development of the Modified See - Through Hollow Cathode Glow Discharge Cell for Atomic Emission Spectrochemical Analysis)

  • 이성훈;조원보;정종필;최우창;스튜어드 보든;김규환;이장수;이상천
    • 분석과학
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    • 제15권6호
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    • pp.502-508
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    • 2002
  • 관통형 속빈 음극관 글로우 방전 (See-through hollow cathode glow discharge)셀을 이용한 미량 및 극미량 분석을 가능한 분광 분석 장치를 개발하였다. 이 장치는 기존의 관통형 속빈 음극관 글로우 방전 셀을 개선하기 위하여 수냉식 냉각 장치를 부착한 새로운 방전 셀의 형태로 개발하였다. 기존의 방전 셀로 미량 및 극미량 분석은 가능하였지만, 공랭식 냉각장치로도 플라즈마의 온도를 높이는 데 한계가 있으며, 단 시간에 플라즈마가 불안정해지는 문제점이 발생하였다. 이러한 문제점을 개선하기 위해서 본 장치에서는 수냉식 냉각 방식을 채택하여 플라즈마의 안정성을 높였으며, 플라즈마 온도를 증가시킬 수 있다. 개선된 방전 셀의 기초 연구를 위해 속빈 음극관의 재질 및 구경변화에 따른 방전 전력 및 압력에 관련한 연구를 하였으며, 속빈 음극관의 구경의 변화에 따른 플라즈마 온도 변화에 대해 측정하였다.

HCD법 이온플레이팅에 의한 TiN 박막제작 (TiN films by the HCD Ion plating)

  • 서용운;조상무;김명제;황기웅
    • 대한전기학회:학술대회논문집
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    • 대한전기학회 1989년도 하계종합학술대회 논문집
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    • pp.335-337
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    • 1989
  • The Charcteristics of the HCD ion plating system for TiN coating was Investigated. 1-V curvet of the HCD ( hollow cathode discharge ), radiation temperatures of the Ta tube and the Ti pool and the electron density and the temperature of the generated plasma are shown. The preferred orientation and the micro-hardness of coatings performed by HCD process are studied.

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